一种导光板模仁的制造方法

    公开(公告)号:CN101161400A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710135195.0

    申请日:2007-11-13

    摘要: 本发明公开了一种制作导光板模仁的方法,根据导光均匀性的要求,在基材表面制备形成导光网点结构,其特征在于:所述基材为具有光滑表面的金属基材,所述导光网点结构的制备方法是,利用大功率脉冲激光器经整形光路聚焦于金属基材表面,直接刻蚀形成所需的导光网点结构,即获得用于射出成型或压印的导光板模仁;同时,利用制得的模仁作为母板,通过电铸工艺进行复制,制得适合导光板制作所需的凹型或凸型模仁。本发明不需要光阻剂涂布、曝光、显影等工艺,直接在光滑金属基板表面刻蚀,制作高精度导光模仁,整个工艺流程简便,制作精度高,大大缩短了制作周期,简化了工艺过程,降低了成本,具有更快的市场反应能力。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555B

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种精密数字化微纳米压印的方法

    公开(公告)号:CN101131537B

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN200710132387.6

    申请日:2007-09-13

    IPC分类号: G03F7/00

    摘要: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列;(2)根据微区单元制作压印模仁;(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置,进入第一个压印工作位;(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印;(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置,至下一个压印工作位;(6)重复步骤(4)和(5),至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动,实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接,实现了大幅面的微纳结构图形制作,解决了现有技术中当模仁面积增大时,发生图形畸变的可能性也随之增大的问题;并且扩大了微纳米压印的应用范围。

    一种精密数字化微纳米压印的方法

    公开(公告)号:CN101131537A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710132387.6

    申请日:2007-09-13

    IPC分类号: G03F7/00

    摘要: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列;(2)根据微区单元制作压印模仁;(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置,进入第一个压印工作位;(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印;(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置,至下一个压印工作位;(6)重复步骤(4)和(5),至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动,实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接,实现了大幅面的微纳结构图形制作,解决了现有技术中当模仁面积增大时,发生图形畸变的可能性也随之增大的问题;并且扩大了微纳米压印的应用范围。

    一种消色差变色银衍射图像的制作方法

    公开(公告)号:CN1834731A

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200610038417.2

    申请日:2006-02-16

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法,包括下列步骤:(1)制备一种二元光学元件,其远场衍射光场是一条狭缝;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成两个条形光场,经透镜组成像后,在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元,获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法,使消色差变色银衍射图像进入实用,可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果,以解决环保问题。

    一种光扩散片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101231462A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200810020793.8

    申请日:2008-02-27

    IPC分类号: G03F7/00 G02B5/02 G02F1/13357

    摘要: 本发明公开了一种光扩散片的制作方法,其特征在于:包括下列步骤:(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁;(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件;(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法,将步骤(1)中的压印模仁,根据步骤(2)中的控制程序及图形文件,压印于待压印的基材第一压印工作位置上,基材得到相应个数的凹形微透镜;(4)根据压印参数,改变压印模仁与待压印基材的相对位置,至下一个压印工作位;(5)重复步骤(3)和(4),直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜,使光扩散层与基材层为一体结构,避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象,有效提高光扩散片的性能。

    微光变图像的激光直写方法及装置

    公开(公告)号:CN100349024C

    公开(公告)日:2007-11-14

    申请号:CN200510095776.7

    申请日:2005-11-17

    IPC分类号: G02B5/18 G02F1/35 G02B27/00

    摘要: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置,包括:(1)构建低空频光栅数字模板,以光栅取向角度等间隔分布,对每一单元光栅用数据结构表达,记录在计算机数据库中;(2)根据所需刻制的微光变图像,从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构,利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上,形成缩小单元像;(3)改变光路和记录介质的相对位置,变换对应空频和取向的光栅图样,重复步骤(2),依次刻录各个光栅单元,获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法,整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向,只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元,输入SLM上即可实现光栅线条的旋转,因此,精度高。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种激光数码彩绘的方法

    公开(公告)号:CN101279555A

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200810123712.7

    申请日:2008-05-30

    摘要: 本发明公开了一种激光数码彩绘的方法,包括:(1)将包含有信息层的热转印薄膜贴合在被彩绘的材料表面;(2)调整光学头和被彩绘的材料的相对位置,使激光束照射位置对准绘制像素位置;(3)开启激光束,瞬间加热使得材料表面上的热转印薄膜的信息层融解脱落而吸附在被彩绘的材料上;(4)根据预先设定的图形像素位置数据,重复步骤(2)和(3),直至完成该种信息层的绘制;(5)更换包含有另一种信息层的热转印薄膜,重复步骤(1)至(4),直至完成所有信息层的绘制,即实现了所需激光数码彩绘。该方法具有控制灵活,图形精度高、彩绘效果好,尤其能彩绘出具有金属质感的光学可变图形等优点,适合数码印刷、防伪和纺织行业的数码激光彩绘应用。

    一种衍射变色激光打标方法与装置

    公开(公告)号:CN101135776A

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200710153957.X

    申请日:2007-09-13

    摘要: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置,采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源,激光束满足干涉要求,由分束元件产生分束光,通过光学透镜组将光点会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值,以形成干涉条纹刻蚀,通过扫描控制,实现衍射光变色图形的打标。所述的装置,采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头,形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应,提高图像的分辨率;获得衍射变色的激光打标图样。