公开(公告)号：CN1550913A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN200410063907.9

申请日：2004-05-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·W·M·范布尔 ,  桂成群 ,  A·德维里斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F9/7019 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7084

Abstract: 一种补偿前到后侧对准光学装置的变形的方法，其中计算基底标记的估计位置和基底标记的实际位置之间的位移矢量。还通过将参考基底移动一段固定量计算出光学校正阵列，并比较参考基底后侧上点的像的移动距离和基底前侧上相应点的移动距离。然后位移矢量和光学校正阵列用于准确地计算另一基底的位置。前到后侧对准光学装置可以足够地大以同时由每个分支机构投影多个标记。参考标记插入在前到后侧对准光学装置的物窗中，由前到后侧对准光学装置的单个分支机构投影的参考标记和基底标记的像的相对变化可以表示前到后侧对准光学装置的光学特性的变化。