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公开(公告)号：CN102203674B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN200980137090.6
申请日：2009-09-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70183 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70391 , G03F7/704
Abstract: 在一个实施例中，公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括：调制器，配置成使衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光；和投影系统，配置成将调制后的束投影到衬底上。调制器可以是相对于曝光区域可移动的和/或投影系统可以具有用于接收多个束的透镜阵列，所述透镜阵列相对于曝光区域是可移动的。
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公开(公告)号：CN1487368A
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：CN03157743.1
申请日：2003-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , G02B27/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7084 , G03F9/7076
Abstract: 一种附加的光学元件可在调准期间设置在调准光束中。当调准光束具有距衬底前表面不同的焦距时，该光学元件可将调准光束聚焦到衬底的调准标记上。
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公开(公告)号：CN101685268B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200910178002.9
申请日：2009-09-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70508
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。所述方法包括步骤：使用至少表示器件的构成部分的所期望的形状或尺寸的信息来实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸，所期望的形状或尺寸与材料层的被测量的性质相关，在所述材料层中将生成器件的构成部分，所述实现过程的至少一部分包括确定多个独立可控元件的配置的步骤，所述多个独立可控元件将需要在辐射束中生成图案，所述图案足以在生成器件的构成部分时实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸。
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公开(公告)号：CN101685268A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200910178002.9
申请日：2009-09-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70508
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和方法。所述方法包括步骤：使用至少表示器件的构成部分的所期望的形状或尺寸的信息来实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸，所期望的形状或尺寸与材料层的被测量的性质相关，在所述材料层中将生成器件的构成部分，所述实现过程的至少一部分包括确定多个独立可控元件的配置的步骤，所述多个独立可控元件将需要在辐射束中生成图案，所述图案足以在生成器件的构成部分时实现器件的构成部分的所期望的形状或尺寸。
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公开(公告)号：CN100582948C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200710192794.6
申请日：2007-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 基思·弗兰克·贝斯特 , 桂成群 , 戴维·克里斯多夫·奥克威尔 , 彼得·顿伯格
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L2924/01074
Abstract: 本发明公开了一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的方法，所述方法包括加热衬底上的抗蚀剂环。所述抗蚀剂环被加热用于从抗蚀剂环上去除图案，或者防止被加热的抗蚀剂环被图案化。本发明还公开了一种光刻方法，包括步骤：通过加热衬底上的抗蚀剂环而在至少部分涂敷有抗蚀剂的衬底上形成环形密封。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100582944C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200510054499.5
申请日：2005-03-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 桂成群
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 一种光刻设备，包括：提供辐射束的照明系统；包括单个可控制元件的构图阵列，这些元件根据构图阵列上的预期图形选择性地把辐射束分成多个受调制的子射束；微透镜组阵列，各个微透镜组具有一个孔径光阑，并在第一平面上形成来自各个所述单个可控制元件的图像；微型物镜阵列，各个微型物镜在第二平面上形成各个所述微透镜组的孔径光阑的图像；以及衬底平台，用于在所述第二平面内支持衬底，以便定位衬底以接收孔径光阑的图像；其中所述构图阵列、所述微透镜组阵列、以及所述微型物镜阵列的间距相同。本发明还提供一种器件制造方法。
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公开(公告)号：CN100524034C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200510081066.9
申请日：2005-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70916 , G03F7/70983
Abstract: 一种光刻装置和方法，其中照射系统提供辐射投射光束，构图系统赋予该光束带图案的横截面，投影系统将带图案的光束投射到基底台上支撑的基底的目标部分上。该投影系统包括与基底分开设置的透镜阵列，因此该透镜阵列中的每个透镜都将带图案的光束的各个部分聚焦在基底上。位移系统引起透镜阵列和基底之间的相对位移。设置粒子检测器来检测由于透镜阵列和基底之间的相对位移而接近透镜阵列的位于基底上的粒子。设置自由工作距离控制系统，以便根据粒子检测器对粒子的检测来增大透镜阵列和基底之间的间隔，从而当相对位移使检测到的粒子在透镜阵列下面通过时移动透镜阵列远离该基底。这样，能够避免因例如基底表面上所承载的粒子的刮擦而对透镜阵列的损坏。
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公开(公告)号：CN100407054C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200410071464.8
申请日：2004-05-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·A·乔治 , 桂成群 , P·W·H·德伽葛尔 , R·E·范柳文 , J·萡沪恩
CPC classification number: G03B27/53 , G03F7/70291 , G03F7/70791 , G03F9/7003 , G03F9/7026
Abstract: 本发明提供一种光刻装置，包括：照明系统，提供辐射投射光束；构图部件，用来使投射光束在其横截面内具有图案；基底台，用于支承基底；投影系统，把形成图案的光束投影到基底靶部；检测器，在基底位于投影系统将形成图案的光束投影到基底的位置的同时检查基底；控制器，响应来自检测器的信息调整至少下述一个参数：被投影到基底上的图案相对基底的位置；被投影到基底上的图案的放大率；和最佳聚焦象面；其中该检测器有多个传感器，用于同时检查横跨该基底的整个宽度的多个基底部分；构图部件和投影系统布置成曝光基底的整个宽度，由此能在基底相对装置的单次通过中检查和曝光基底。本发明还提供相应的器件制造方法、基底曝光方法和由此形成的平板显示器。
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公开(公告)号：CN1667516A
公开(公告)日：2005-09-14
申请号：CN200510054499.5
申请日：2005-03-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 桂成群
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70291 , G03F7/70275
Abstract: 使用一种系统和方法以在衬底上形成特征。该系统和方法包括使用：包括单个可控制元件的第一阵列，该单个可控制元件选择性地定型辐射束；包括多组透镜和孔径光阑的第二阵列，所述透镜和孔径光阑在第一平面内形成来自各个单个可控制元件的图像；包括多个透镜的第三阵列，所述多个透镜在第二平面内形成来自各个所述第二阵列的图像；以及在所述第二平面内支持衬底的衬底平台，使得该衬底接收来自各个所述第二阵列的图像。第一阵列、第二阵列、及第三阵列内元件之间的间距相等。
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公开(公告)号：CN1573576A
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN200410071464.8
申请日：2004-05-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·A·乔治 , 桂成群 , P·W·H·德伽葛尔 , R·E·范柳文 , J·萡沪恩
CPC classification number: G03B27/53 , G03F7/70291 , G03F7/70791 , G03F9/7003 , G03F9/7026
Abstract: 光刻装置，其中在基底的曝光期间检查基底上的对准标记、以便优化曝光条件。
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