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公开(公告)号：CN102880006A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210238530.0
申请日：2012-07-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处；其中所述线性阵列的多个气体供给开口的尺寸类似或相同。
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公开(公告)号：CN102193328A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110052100.5
申请日：2011-03-02
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进入的液滴。可以设置有与用于抽取穿过间隙的液体的气刀之间的间隙对齐的抽取孔。允许液滴穿过间隙逸出。
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公开(公告)号：CN101464636B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810185625.4
申请日：2008-12-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·H·A·里恩德尔 , S·N·L·多恩德尔斯 , C·瓦格恩尔 , R·H·M·考蒂
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70341
摘要： 本发明提供一种光刻设备，包括：液体供给系统，构造成在光刻设备的投影系统的下游光学元件和衬底之间供给浸没液体；和控制系统，其配置用于驱动衬底台以执行加速度曲线，将衬底台从第一方向上的第一速度加速到第二方向上的第二速度。该加速度曲线在时间上是非对称的并且被设定为使得当根据所述加速度曲线加速衬底台时，破坏浸没液体弯液面的作用力小于保持浸没液体弯液面的作用力。本发明还提供一种器件制造方法。
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公开(公告)号：CN102023495A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010292381.7
申请日：2010-09-25
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构被设置用于光刻设备，所述流体处理结构在包含浸没流体的空间与在所述流体处理结构外部的部位之间的边界上具有：布置在第一线中的多个开口、具有在第二线中的孔的第一气刀装置、在第三线中的一个或更多的开口以及具有在第四线中的孔的第二气刀装置。
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公开(公告)号：CN101464636A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810185625.4
申请日：2008-12-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·H·A·里恩德尔 , S·N·L·多恩德尔斯 , C·瓦格恩尔 , R·H·M·考蒂
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70341
摘要： 本发明提供一种光刻设备，包括：液体供给系统，构造成在光刻设备的投影系统的下游光学元件和衬底之间供给浸没液体；和控制系统，其配置用于驱动衬底台以执行加速度曲线，将衬底台从第一方向上的第一速度加速到第二方向上的第二速度。该加速度曲线在时间上是非对称的并且被设定为使得当根据所述加速度曲线加速衬底台时，破坏浸没液体弯液面的作用力小于保持浸没液体弯液面的作用力。本发明还提供一种器件制造方法。
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