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    具备防振装置的曝光装置
    1.
    发明公开
    具备防振装置的曝光装置 无效

    公开(公告)号：CN109031895A

    公开(公告)日：2018-12-18

    申请号：CN201810948194.6

    申请日：2013-10-08

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 佐藤真路

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70766 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/709

    摘要： 一种曝光装置，经由光学部件(13)与基板(P)之间的液体(LQ)以曝光用光对基板进行曝光，该曝光装置具备装置框架(8B)、包括光学部件的光学系统、包括配置于光学部件周围的至少一部分的第1部件(21)和配置于光学部件周围的至少一部分的第2部件(22)并且能够形成液浸空间的液浸部件(5)、能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置(56)，和防振装置(55)，经由防振装置(55)将第1部件支承于装置框架。

    一种用于浸没式成像系统的浸没头
    2.
    发明公开
    一种用于浸没式成像系统的浸没头 审中-实审

    公开(公告)号：CN108803256A

    公开(公告)日：2018-11-13

    申请号：CN201811020844.7

    申请日：2018-09-03

    申请人： 长春长光智欧科技有限公司

    发明人： 张继真 ,  谢晓麟 ,  管海军 ,  曲贺盟 ,  徐放

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/70341

    摘要： 本发明提供一种用于浸没式成像系统的浸没头，包括镜筒、镜片和浸没头基座，镜片安装在镜筒中，浸没头基座与镜筒连接并可相对镜筒沿上下方向移动，浸没头基座设置有向上延伸的侧壁，侧壁配合设置在镜筒的外侧，侧壁与镜筒的外侧密封接触并可相对滑动，在浸没头基座相对所述镜筒上下移动的过程中，侧壁至少部分与镜筒的外侧密封接触；浸没头基座与镜筒之间设置有弹性件；当浸没头基座相对镜筒向上移动时，弹性件可为浸没头基座提供向下的缓冲弹力。本发明提供的用于浸没式成像系统的浸没头，能够在有效解决碰撞问题的同时，保证密封效果。

    曝光装置的控制方法、曝光装置及元件制造方法
    3.
    发明授权
    曝光装置的控制方法、曝光装置及元件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN105204296B

    公开(公告)日：2018-07-17

    申请号：CN201510591955.3

    申请日：2005-08-01

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 大和壮一 ,  长坂博之 ,  菅原龙

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70733

    摘要： 本发明提供一种曝光装置的控制方法。一种曝光装置的控制方法，透过液浸区域的液体将基板曝光，包含以下步骤：通过从供应口供应液体，并且将从上述供应口所供应的液体从设置有多孔质的回收口回收，以在最靠近投影光学系统的像面的第1光学元件之下形成液浸区域；判断上述液浸区域是否为期望状态；及以边抑制上述液浸区域的液体从第1载台与第2载台的间隙流出，边在上述投影光学系统的像面侧的光路空间填满上述液体的状态下在上述第1载台上与上述第2载台上之间移动上述液浸区域的方式，在上述第1载台与上述第2载台接近的状态下，在上述投影光学系统的像面侧一起移动上述第1载台与上述第2载台。

    液浸构件及曝光装置
    4.
    发明授权
    液浸构件及曝光装置 有权

    公开(公告)号：CN104508560B

    公开(公告)日：2018-05-22

    申请号：CN201380029828.3

    申请日：2013-03-22

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 佐藤真路

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

    摘要： 本发明的液浸构件(5)，是以从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满的方式，在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(15)。液浸构件，具备：具有第1下面(24)的第1构件(21)，具有通过间隙与第1下面对向的第2上面(25)与物体可对向的第2下面(26)、相对第1构件为可动的第2构件(22)，以及相对光路在第2下面的外侧回收来自第2下面与物体之间的第2空间(SP2)的液体的至少一部分的回收部(23)。

    曝光装置及元件制造方法
    5.
    发明授权
    曝光装置及元件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN105467775B

    公开(公告)日：2018-04-10

    申请号：CN201510891261.1

    申请日：2005-06-07

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 白石健一

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

    摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。

    一种用于浸没式光刻机的两级气液分离回收装置
    7.
    发明公开
    一种用于浸没式光刻机的两级气液分离回收装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN107861339A

    公开(公告)日：2018-03-30

    申请号：CN201711338005.5

    申请日：2017-12-14

    申请人： 浙江启尔机电技术有限公司

    发明人： 付新 ,  陈文昱 ,  徐宁

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B01D45/02 ,  B01D45/12

    CPC分类号： G03F7/70341 ,  B01D45/02 ,  B01D45/12

    摘要： 本发明涉及一种用于浸没式光刻机的两级气液分离回收装置。本发明包括气液分离器、气液分离罐、液体流量控制器、气体和液体分离前的两相流回路、气体和液体分离后的排气回路、气体和液体分离后的排水回路；气液分离器与气体和液体分离前的两相流回路、气液分离罐上部入口相连，气液分离罐与气体和液体分离后的排气回路、液体流量控制器的入口相连，液体流量控制器、气液分离器合与气体和液体分离后的排水回路相连。本发明能够在负压抽吸的作用下对气液两相流实现连续的分离过程，并且较之前的解决方案在分离回收的效率和效果上均有明显的提升。同时避免了对系统负压造成的干扰，且能在故障条件下将系统内的气体和液体排出及时泄压。

    曝光装置、曝光方法、及元件制造方法
    8.
    发明授权
    曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN105301918B

    公开(公告)日：2018-02-16

    申请号：CN201510850074.9

    申请日：2008-07-16

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 荒井大

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709 ,  Y10T29/49002

    摘要： 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。

    曝光方法、曝光装置、及组件制造方法
    9.
    发明授权
    曝光方法、曝光装置、及组件制造方法 失效

    公开(公告)号：CN104656377B

    公开(公告)日：2017-07-07

    申请号：CN201410748646.8

    申请日：2007-08-31

    申请人： 株式会社尼康

    发明人： 柴崎祐一

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/7085

    摘要： 通过驱动装置，根据用于测量晶片台WTB在Y轴方向位置信息的编码器(64)的测量值、与该测量时以干涉仪(16,43A及43B)所测量的晶片台WTB在非测量方向(例如，Z、及θz及θx方向)的位置信息所对应的已知修正信息，将晶片台WTB驱动于Y轴方向。也即，根据用于修正因读头往非测量方向与标尺的相对位移引起的编码器测量误差的修正信息修正后的编码器测量值，将移动体驱动于Y轴方向。因此，能在不受读头与标尺间的要测量方向(测量方向)以外的相对运动影响的情形下，一边以编码器测量位置、一边以良好精度将晶片台WTB(移动体)驱动于所希望的方向。