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公开(公告)号：CN109844649B
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN201780064970.X
申请日：2017-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·M·J·杨森 , K·库依皮尔斯 , R·H·M·考蒂 , S·斯里瓦斯塔瓦 , T·J·A·伦克斯 , J·G·高森 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , H·J·舍伦斯 , A·M·W·黑伦 , B·蓝森
摘要： 一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致动器(250)；以及连杆机构(400)，其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量，并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件，其中，所述连杆机构包括框架(500)，所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定，所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动，同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束，所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸，使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量，所述可移动部分连接到所述阻塞构件。
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公开(公告)号：CN102236264A
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN201110096632.9
申请日：2011-04-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·H·M·考蒂 , P·M·M·里布莱格特斯 , M·瑞鹏 , F·伊凡吉里斯塔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构用于光刻设备，所述流体处理结构在从配置成包含浸没流体的空间至在所述流体处理结构外部的部位的边界上依次具有：布置在第一线中的细长开口或多个开口，其在使用中被引导朝向衬底和/或配置成支撑所述衬底的衬底台；气刀装置，所述气刀装置具有在第二线中的细长孔；和与所述气刀装置相邻的细长开口或多个开口。
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公开(公告)号：CN109690413A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780056049.0
申请日：2017-08-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·范德艾登 , C·M·诺普斯 , T·W·波莱 , F·L·寇肯斯 , G·塔娜萨 , R·H·M·考蒂 , K·库依皮尔斯 , H·S·布登贝格 , G·L·加托比焦 , E·范弗利特 , N·坦凯特 , M·J·H·弗雷肯 , J·L·范埃尔沃 , M·M·C·F·托因尼森
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种流体处理结构(12)，其配置成将浸没流体限制到光刻设备的一区域，所述流体处理结构包括：孔(15)，其形成在所述流体处理结构中，用作使投影束经由通过所述浸没流体而通过所述孔的通道；第一部分(100)；以及第二部分(200)；并且其中，所述第一部分和所述第二部分中的至少一者限定一表面(20)，所述表面适于从所述区域提取所述浸没流体；并且其中，所述流体处理结构适于提供进入或离开所述流体处理结构的所述表面的流体流，并且其中，所述第一部分相对于所述第二部分的移动实现改变进入或离开所述表面的流体流相对于所述孔的位置，并且其中，所述第一部分和所述第二部分中的一者包括用于流体流流过的至少一个通孔(51、61)，并且所述第一部分和所述第二部分中的另一者包括用于所述流体流流过的至少一个开口(55、65)，所述至少一个通孔和至少一个开口在被对准时流体连通，所述移动允许所述至少一个开口与所述至少一个通孔中的不同通孔对准，由此改变进入或离开所述表面的流体流相对于所述孔的位置。
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公开(公告)号：CN106462082A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580031089.0
申请日：2015-05-07
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·H·M·考蒂 , C·W·J·贝德伦森 , A·B·珍宁科 , A·H·考沃埃特斯 , J·V·奥沃卡姆普 , S·A·特姆普 , V·V·伟越 , D·E·R·阿登纳特德
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7095 , G03F7/70341 , G03F7/70733 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： 一种光刻设备包括：通道(46)，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料(100)；第二材料(160)，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容；和第三材料(90)，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。
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公开(公告)号：CN102455604B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201110316529.0
申请日：2011-10-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·毕塞姆斯 , R·H·M·考蒂 , M·J·范德赞登 , C·M·诺普斯 , P·威廉姆斯 , J·M·W·范德温克尔 , E·H·E·C·奥姆梅伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 一种用于光刻设备的流体处理结构，该流体处理结构在从配置成包括浸没流体的空间至流体处理结构外部的区域的边界处具有：一个或更多的弯液面钉扎特征，用于阻止浸没流体从空间在径向向外的方向上通过；气体供给开口，位于一个或更多的弯液面钉扎特征的径向外侧；和至少一个气体回收开口，位于一个或更多的弯液面钉扎特征的径向外侧且至少部分地围绕气体供给开口。
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公开(公告)号：CN102455604A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110316529.0
申请日：2011-10-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·毕塞姆斯 , R·H·M·考蒂 , M·J·范德赞登 , C·M·诺普斯 , P·威廉姆斯 , J·M·W·范德温克尔 , E·H·E·C·奥姆梅伦
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要： 一种用于光刻设备的流体处理结构，该流体处理结构在从配置成包括浸没流体的空间至流体处理结构外部的区域的边界处具有：一个或更多的弯液面钉扎特征，用于阻止浸没流体从空间在径向向外的方向上通过；气体供给开口，位于一个或更多的弯液面钉扎特征的径向外侧；和至少一个气体回收开口，位于一个或更多的弯液面钉扎特征的径向外侧且至少部分地围绕气体供给开口。
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公开(公告)号：CN114294460A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202210021840.0
申请日：2017-09-18
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·M·J·杨森 , K·库依皮尔斯 , R·H·M·考蒂 , S·斯里瓦斯塔瓦 , T·J·A·伦克斯 , J·G·高森 , E·H·E·C·奥姆梅伦 , H·J·舍伦斯 , A·M·W·黑伦 , B·蓝森
摘要： 一种压力控制阀，包括：通路(210)，其具有限定用于使液体和/或气体(215)流动通过的开口(220)的部分；阻塞构件(230)，其能够相对于所述开口移位，以将所述开口阻塞不同的量，由此调节通过所述开口的液体和/或气体的体积流率；压电致动器(250)；以及连杆机构(400)，其适于放大所述压电致动器的尺寸改变的量，并且使用放大后的尺寸改变量来相对于所述开口移动所述阻塞构件，其中，所述连杆机构包括框架(500)，所述框架附接到一壁并且在第一端处相对于所述通路固定，所述框架的可移动部分(508)能够在第一方向上移动，同时在与所述第一方向正交的第二方向上基本上被约束，所述压电致动器在所述壁与所述可移动部分之间延伸，使得所述压电致动器的膨胀引起所述可移动部分在所述第一方向上移动的量大于所述压电致动器的膨胀量，所述可移动部分连接到所述阻塞构件。
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公开(公告)号：CN102914948B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201210285340.4
申请日：2012-08-06
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , Y10T137/2931
摘要： 本发明公开了流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。用于光刻设备的流体处理结构在配置成将浸没流体限制于流体处理结构外部的区域的空间边界处具有：弯液面钉扎特征，用于抑制浸没流体沿径向向外的方向从所述空间通过；气体供给开口，所述气体供给开口至少部分地围绕弯液面钉扎特征并位于弯液面钉扎特征的径向外部；和可选的气体回收开口，所述气体回收开口位于气体供给开口的径向外部，其中气体供给开口、或气体回收开口、或气体供给开口和气体回收开口两者，在所述空间的周边每米长度的开口面积具有变化。
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公开(公告)号：CN102880006B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201210238530.0
申请日：2012-07-10
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种流体处理结构、光刻设备和器件制造方法。所述流体处理结构在配置用于将浸没流体限制在流体处理结构之外的区域的空间的边界处具有：弯液面钉扎特征，用以抵抗浸没流体沿径向向外的方向离开所述空间；线性阵列形式的多个气体供给开口，其至少部分地围绕弯液面钉扎特征并且在弯液面钉扎特征的径向向外位置处；其中所述线性阵列的多个气体供给开口的尺寸类似或相同。
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公开(公告)号：CN102193328B
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201110052100.5
申请日：2011-03-02
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/70341
摘要： 本发明公开了一种光刻设备和使用光刻设备制造器件的方法。一种用于光刻设备的液体处理结构包括：液滴控制器，配置成允许浸没液体的液滴从所述结构损失且防止所述液滴与所限制的浸没液体的弯液面碰撞。液滴控制器可以包括气刀，所述气刀布置成交叠以阻挡进入的液滴。可以设置有与用于抽取穿过间隙的液体的气刀之间的间隙对齐的抽取孔。允许液滴穿过间隙逸出。
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