公开(公告)号：CN103081379B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201180041579.0

申请日：2011-08-19

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 李起东 ,  金相局

IPC: H04B7/26 ,  H04W74/08 ,  H04L29/08

CPC classification number: H04W74/006 ,  H04W48/06 ,  H04W74/0833

Abstract: 一种用于以信号传递介质访问控制（MAC）协议数据单元（PDU）的方案包括以下步骤：从机器类型通信（MTC）装置接收随机接入前导；向MTC装置发送包括具有MAC报头的MAC PDU的随机接入响应，该MAC报头包括用于MTC支持的信息；从MTC装置接收调度的传输；以及与MTC装置进行竞争解决。可通过以下实现用于MTC支持的信息：（1）MAC PDU结构被修改成包括用于使MTC装置识别MTC群的拥塞状态的新区段；（2）向退避控制（BOC）提供新的一系列大级别的退避间隔（BI）；（3）改变MTC装置的随机接入（RA）过程；或者（4）在接入类禁止（ACB）和退避控制（BOC）之间进行切换。

公开(公告)号：CN104938023A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201480005045.6

申请日：2014-01-17

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 李起东

IPC: H04W84/18 ,  H04W76/02

CPC classification number: H04L45/20 ,  H04W40/02 ,  H04W76/18 ,  H04W88/04

Abstract: 本发明致力于一种在无线通信系统中使用的方法和装置。特别是，本发明致力于一种支持组通信的方法及其装置，其中，该方法包括：经由第一中继UE与第二UE建立通信连接；以及从第一中继UE接收请求中继连接的消息，该消息包括指示当前跳计数的第一信息，其中，如果满足条件，则经由第二中继UE在第一中继UE和第四UE之间提供中继连接，其中，如果不满足该条件，则拒绝中继连接的请求，其中，该条件包括：当前跳计数小于允许的跳的最大数量。

公开(公告)号：CN103081379A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201180041579.0

申请日：2011-08-19

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 李起东 ,  金相局

IPC: H04B7/26 ,  H04W74/08 ,  H04L29/08

CPC classification number: H04W74/006 ,  H04W48/06 ,  H04W74/0833

Abstract: 一种用于以信号传递介质访问控制（MAC）协议数据单元（PDU）的方案包括以下步骤：从机器类型通信（MTC）装置接收随机接入前导；向MTC装置发送包括具有MAC报头的MAC PDU的随机接入响应，该MAC报头包括用于MTC支持的信息；从MTC装置接收调度的传输；以及与MTC装置进行竞争解决。可通过以下实现用于MTC支持的信息：（1）MAC PDU结构被修改成包括用于使MTC装置识别MTC群的拥塞状态的新区段；（2）向退避控制（BOC）提供新的一系列大级别的退避间隔（BI）；（3）改变MTC装置的随机接入（RA）过程；或者（4）在接入类禁止（ACB）和退避控制（BOC）之间进行切换。

公开(公告)号：CN1866062A

公开(公告)日：2006-11-22

申请号：CN200610005908.7

申请日：2006-01-19

Applicant: LG电子株式会社

Inventor： 李起东

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G02B5/3058 ,  Y10T442/109 ,  Y10T442/126

Abstract: 公开了一种线栅偏振膜、用于制造线栅偏振膜的方法、制造用于形成其栅格的模具的方法。所述线栅偏振膜包括衬底、层叠在衬底上的栅格结构层、和在栅格结构层的一侧上形成的至少一个金属层。所述用于制造线栅偏振膜的方法包括制备衬底、将栅格结构层涂覆到衬底的上表面、在栅格结构层上形成栅格图案和在栅格图案上淀积金属层。所述制造模具的方法，包括将光致抗蚀膜涂覆到衬底上、通过激光而使用干涉条纹将所述光致抗蚀膜图案化、对所述光致抗蚀膜进行显影、在所述光致抗蚀膜上层叠用于形成线栅偏振膜的栅格图案的材料、和除去衬底和光致抗蚀膜。