玻璃基板
    31.
    发明公开
    玻璃基板 审中-实审

    公开(公告)号:CN118488931A

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202380015062.7

    申请日:2023-02-08

    Inventor: 西川佳范

    Abstract: 对于显示器用的厚度为0.6mm以下的玻璃基板(1),在该玻璃基板(1)的应力分布中,绝对值最大的应力为拉伸应力。

    玻璃板的制造方法
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118139722A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202280070382.8

    申请日:2022-11-30

    Inventor: 星野爱信

    Abstract: 关于玻璃板的制造方法,包括:磨削工序(P1),利用磨削磨石(2)加工玻璃板(1)的端面(1a);以及研磨工序(P2),利用研磨磨石(3)加工由磨削磨石(2)进行的加工后的玻璃板(1)的端面(1a),在磨削工序(P1)中以脆性模式进行加工,在研磨工序(P2)中主要以延展性模式进行加工。

    玻璃的制造方法
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118076565A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202280067877.5

    申请日:2022-09-30

    Abstract: 本发明提供能够抑制玻璃的失透、且能够提高生产率的玻璃的制造方法。本发明的玻璃的制造方法的特征在于,包括:使玻璃(18)的原料熔化而成的熔融液(11)流入成型模具(13)的工序;和通过冷却熔融液(11)而得到玻璃(18)的工序,成型模具(13)具有底面(14a)和侧面(15a),在冷却熔融液(11)的工序中,从底面(14a)侧将成型模具(13)冷却。

    脆性材料基板的刻划方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117980118A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202280064101.8

    申请日:2022-09-21

    Abstract: 本发明提供能够实现对脆性材料基板进行刻划的金刚石的长寿命化的脆性材料基板的刻划方法。对脆性材料基板(G)沿着刻划预定线(L)涂布包含挥发性的溶剂以及高分子化合物的液体,在刻划预定线(L)上按压使用了金刚石的刻划工具(1)的尖头(P),使脆性材料基板(G)与刻划工具(1)相对地移动从而进行刻划。

    玻璃板的制造方法
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117940384A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202280060149.1

    申请日:2022-09-09

    Abstract: 关于玻璃板的制造方法,包括从装载于托盘(1)的玻璃板层叠体(2)依次将玻璃板(G)以及保护片(S)取出并且搬运的搬运工序,基于在搬运工序中进行搬运时测定出的玻璃板(G)以及保护片(S)的重量,对在玻璃板(G)是否产生有破裂进行检测。

    玻璃基板的制造方法
    39.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113727952B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202080029858.4

    申请日:2020-05-22

    Abstract: 本发明提供一种能够避免设备的短寿命化并减少热处理时的尺寸变化的玻璃基板的制造方法。该方法的特征在于:将玻璃原料熔融、成型,制造应变点为690~750℃的玻璃基板,在成型时的冷却过程中,将(退火点+150℃)至(退火点-200℃)的温度范围内的平均冷却速度设为100~400℃/分钟,从而得到以500℃进行1小时的热处理时的热收缩率为15ppm以下的玻璃基板。

    光学玻璃板
    40.
    发明公开
    光学玻璃板 审中-实审

    公开(公告)号:CN117897363A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202280055758.8

    申请日:2022-08-02

    Inventor: 此下聪子

    Abstract: 本发明提供一种具有比以往高的折射率特性的光学玻璃板。该光学玻璃板的特征在于:以质量%计,含有:SiO2 0~12%、B2O3 0~10%、BaO 0~9%、ZnO 0~5%、ZrO2 2%~10%、La2O3 15%~45%、Gd2O30~15%、Nb2O5 0~15%、WO3 0~10%、TiO2 15%~50%和Y2O3 0.1%~10%,并且阳离子%的比率即Y3+/(Gd3++Y3+Yb3+)为0.2以上,折射率nd为2.01以上,阿贝数νd为35以下。

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