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公开(公告)号：CN102181693A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN201110088718.7
申请日：2011-04-10
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明公开了一种镁青铜3-3.5氮化硼半固态浆料中氮化硼颗粒均匀分散方法，属于镁青铜3-3.5氮化硼半固态浆料中氮化硼颗粒均匀分散研究领域，本发明采用电磁+机械制备方法，利用双叶片层机械分散器，在上下层弧形叶片凹弧面弧度分别为46～48°和51～53°的条件下，对镁青铜3-3.5氮化硼半固态浆料中的氮化硼颗粒进行均匀分散，可快速实现氮化硼颗粒的均匀分布，均匀分散时间可缩短到8分20秒。
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公开(公告)号：CN102168197A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201110088900.2
申请日：2011-04-10
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明公开了一种锌10铁-6氧化铝半固态浆料中氧化铝颗粒均匀分散方法，属于锌10铁-6氧化铝半固态浆料中氧化铝颗粒均匀分散研究领域，本发明采用电磁+机械制备方法，利用双叶片层机械分散器，在上下层弧形叶片凹弧面弧度分别为72～74°和25～27°的条件下，对锌10铁-6氧化铝半固态浆料中的氧化铝颗粒进行均匀分散，可快速实现氧化铝颗粒的均匀分布，均匀分散时间可缩短到8分20秒。
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公开(公告)号：CN102162023A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201010613893.9
申请日：2010-12-30
Applicant: 北京交通大学
IPC: C21D7/02
Abstract: 本发明公开了一种钢铝9石墨固液相复合板的均匀后处理方法，属于钢铝9石墨固液相复合板界面剪切强度室温轧制后处理研究领域，本发明对由1.2mm厚的08Al钢板和2.5mm厚的铝9石墨覆层构成的钢铝9石墨固液相复合板，在室温下，在精密轧机上，进行总压下率为1.6％的、第一道次与第二道次的道次压下率比例为1∶3～1∶1的二道次轧制处理，可将复合板横向界面剪切强度差值降低到1.9MPa以内。
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公开(公告)号：CN102162021A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201010612752.5
申请日：2010-12-30
Applicant: 北京交通大学
IPC: C21D7/02
Abstract: 本发明公开了一种钢铝5石墨固液相复合板的均匀后处理方法，属于钢铝5石墨固液相复合板界面剪切强度室温轧制后处理研究领域，本发明对由1.2mm厚的08A1钢板和1.5mm厚的铝5石墨覆层构成的钢铝5石墨固液相复合板，在室温下，在精密轧机上，进行总压下率为1.6％的、第一道次与第二道次的道次压下率比例为1∶5～1∶2的二道次轧制处理，可将复合板横向界面剪切强度差值降低到2.2MPa以内。
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公开(公告)号：CN102140665A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN201110101664.3
申请日：2011-04-22
Applicant: 北京交通大学
IPC: C25D11/30
Abstract: 本发明公开了一种AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理方法，属于AM60镁合金表面薄层厚度均匀处理研究领域，本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以提高处理液与镁合金反应的均匀性，并在氟化钾浓度为903～905g/L、氢氧化钾浓度为365～367g/L、硅酸钠浓度为118～120g/L、工频交流电压为65～67V、每升处理液氧气喷入量为0.006～0.009L/s条件下，对AM60镁合金进行52～70秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在AM60镁合金表面形成厚度均匀的8～14μm厚的保护薄层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102140664A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN201110101516.1
申请日：2011-04-22
Applicant: 北京交通大学
IPC: C25D11/30
Abstract: 本发明公开了一种AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理方法，属于AZ91镁合金表面薄层厚度均匀处理研究领域，本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以提高处理液与镁合金反应的均匀性，并在氟化钾浓度为951～953g/L、氢氧化钾浓度为356～358g/L、硅酸钠浓度为126～128g/L、工频交流电压为90～92V、每升处理液氧气喷入量为0.006～0.009L/s条件下，对AZ91镁合金进行41～54秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在AZ91镁合金表面形成厚度均匀的8～14μm厚的保护薄层。
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公开(公告)号：CN102127789A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201110101490.0
申请日：2011-04-22
Applicant: 北京交通大学
IPC: C25D11/30
Abstract: 本发明公开了一种AM60镁合金表面厚层处理方法，属于AM60镁合金表面厚层处理研究领域，本发明在交流等离子体微弧氧化处理方法基础上，通过向处理液中喷入氧气以增强和改善对保护层的烧结作用，并在氟化钾浓度为406～408g/L、氢氧化钾浓度为188～190g/L、工频交流电压为114～116V、每升处理液氧气喷入量为0.01～0.016L/s条件下，对AM60镁合金进行119～149秒的交流等离子体微弧氧化表面处理，可在AM60镁合金表面形成55～65μm厚的组织致密、均匀的厚保护层。
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公开(公告)号：CN102101031A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010599599.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明公开了一种铝-7石墨伪合金液的搅拌方法，属于铝-7石墨伪合金液搅拌研究领域，本发明采用直叶片坩埚+电磁搅拌的方法，在直叶片长度方向上向前倾斜β为9～11°、宽度方向上向上倾斜γ为54～56°的条件下，对铝-7石墨伪合金液进行搅拌，可将实现石墨颗粒均匀分布的搅拌时间缩短到7分钟。
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公开(公告)号：CN102101030A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010599586.X
申请日：2010-12-22
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明公开了一种锌-5氮化硅伪合金液的搅拌方法，属于锌-5氮化硅伪合金液搅拌研究领域，本发明采用直叶片坩埚+电磁搅拌的方法，在直叶片长度方向上向前倾斜β为31～33°、宽度方向上向上倾斜γ为79～81°的条件下，对锌-5氮化硅伪合金液进行搅拌，可快速实现氮化硅颗粒的均匀分布，搅拌时间可缩短到7分钟。
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公开(公告)号：CN102101028A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010599493.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 北京交通大学
Abstract: 本发明公开了一种锌-3.5氮化硼伪合金液的搅拌方法，属于锌-3.5氮化硼伪合金液搅拌研究领域，本发明采用直叶片坩埚+电磁搅拌的方法，在直叶片长度方向上向前倾斜β为35～37°、宽度方向上向上倾斜γ为67～69°的条件下，对锌-3.5氮化硼伪合金液进行搅拌，可快速实现氮化硼颗粒的均匀分布，搅拌时间可缩短到7分钟。
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