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公开(公告)号：CN1161826C
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN00811963.5
申请日：2000-08-25
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , C09K3/14 , C09K3/00
Abstract: 本发明中提供了一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、水溶性聚合物和水的CMP用研磨剂，及用它的研磨方法。水溶性聚合物的重量平均分子量在500以上，研磨剂的动摩擦系数在0.25以上，研磨剂的厄布洛德粘度在0.95cP以上，1.5cP以下，研磨剂的拐点压力在50gf/cm2以上。
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公开(公告)号：CN1158694C
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN99815882.8
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明涉及特别适应于半导体器件装配工序的金属研磨液以及使用该金属研磨液的研磨方法。本发明可提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂的溶解助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂的溶解助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN1334961A
公开(公告)日：2002-02-06
申请号：CN99815882.8
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液,其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料,本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN1149619C
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN99127508.X
申请日：1999-12-22
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: H01J29/503 , H01J2229/4841
Abstract: 彩色阴极射线管在其电子束聚焦部分包括第三、第四和第五电极及阳极。在第三电极第二构件42的侧端面上的电子束孔和邻近第二构件42的第四电极5之间形成电子透镜。在所述第五电极的所述第一和第二组构件之间形成第一类型静电四极透镜，用于随着所述第一聚焦电压和所述第二聚焦电压之间的聚焦电压差值的增加而使所述多束电子束在水平方向上愈加聚焦，并且使所述多束电子束在垂直方向上愈加发散；在所述第三电极的所述第一和第二组构件之间形成至少一个第二类型静电四极透镜，用于随着所述聚焦电压差值的增加而使所述多束电子束在垂直方向愈加聚焦，并且使所述多束电子束在水平方向上愈加发散。
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公开(公告)号：CN1045842C
公开(公告)日：1999-10-20
申请号：CN92114831.3
申请日：1992-12-02
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: H01J29/488
Abstract: 一字排列式电子枪组件的三个电子束先后通过所加电压前者高于后者的第一、第二电极单元。该电极单元各有非圆形横截面的圆筒和设置在圆筒内壁上的栅板，以把三个并排的电子束通孔限定在圆筒之内，通孔平行圆筒的横截面的纵长方向排列，各电极单元栅板上至少有一孔用作中心电子束的通孔，第一和第二电极单元形成主静电透镜而起电子束聚焦和散焦的相复合的功能。两电极单元栅板的孔径不同，以加强聚焦和散焦中的一个功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1080090A
公开(公告)日：1993-12-29
申请号：CN93104902.4
申请日：1993-04-21
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: H01J29/488 , H01J29/503
Abstract: 装有成一直线电子枪的彩色阴极射线管，包括由两个相互以一定间隔关系安装的圆筒形电极构成的主透镜。每个电极具有椭圆形横截面的开口，其上的平板电极带有电子束通道区，两个电极带有不同的电压。适用下列不等式5.0＞S，D＞S和55S-20D＞147S是相邻电子束之间的束间隔，D是两个圆筒电极相对端的横截面的垂直直径。
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公开(公告)号：CN102498390A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041468.5
申请日：2010-09-17
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G01N27/28 , G01N27/414 , G01N27/416
CPC classification number: G01N27/333 , G01N27/283
Abstract: 在湿式的流动式离子选择性电极装置的情况下，需要大量的被检查对象溶液，而且流路的洗涤、装置的调节等管理复杂。本发明提供一种离子选择性电极盒，其具有在注入被检查对象溶液时，在与比较电极之间形成通电路径的至少一个离子选择性电极，并且前述离子选择性电极和前述比较电极均以包围前述容器的方式配置。
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公开(公告)号：CN102483385A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080040406.2
申请日：2010-09-17
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G01N27/26 , G01N27/416
CPC classification number: G01N27/283 , G01N27/333 , G01N27/4035
Abstract: 在离子浓度的测定开始前需要进行校准，相应地，测定开始就会延迟。因此，在设有用来测定溶解于被检查对象溶液的特定离子的浓度的离子选择性电极的离子选择性电极盒上安装用于保存离子选择性电极所固有的电极斜率值的存储部件。
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公开(公告)号：CN1803964A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200610000318.5
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN1243071C
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN02123007.2
申请日：1999-12-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/04 , C09G1/02 , C09K13/00 , C23F3/00 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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