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公开(公告)号：CN100520457C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200480012070.3
申请日：2004-05-07
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： G02B5/32 , F21V8/00 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B6/0053 , G02B5/0252 , G02B5/1871 , G02B5/32 , G02B6/0038 , G02B6/0065 , G02F2001/133607 , G03H2001/264
摘要： 本发明提供一种薄型、透光率高、使用性优越的全息照相光学元件及使用它的面光源装置。该全息照相光学元件包括光栅，光栅的截面为锯齿形状，该锯齿的两边的长度相差10%或以上，夹角为60°或以下；该全息照相光学元件是透射型衍射光栅并且衍射光栅由折射率为n的材料形成，光栅槽的平均深度h为h＝α×d/(n-1)，其中0.4≤α≤1.0，d为衍射光栅的平均周期，从而抑制从倾斜方向入射的白色光的分光，并且将白色光向出射角θo为0°的方向、即垂直方向折弯而射出。该全息照相光学元件在使0.46≤λ1≤0.50μm、0.53≤λ2≤0.57μm、0.60≤λ3≤0.64μm范围内的λ1、λ2、λ3的3波长的光以角度θi入射时，各波长的衍射效率成为最大的衍射角度包含在-5度到+5度的范围内。
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公开(公告)号：CN100381537C
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200510068160.0
申请日：1999-08-31
申请人： 日立化成工业株式会社 , 株式会社日立制作所
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , C23F3/00 , C23F3/06 , H01L21/3212
摘要： 本发明提供金属用研磨液及研磨方法，该金属用研磨液含有(1)金属的氧化剂，(2)氧化金属溶解剂，(3)通过在金属膜表面形成物理吸附和/或化学结合而形成称为氨基酸或唑类的保护膜的第1保护膜形成剂、(4)辅助第1保护膜形成剂形成称为聚丙烯酸、聚酰胺酸或者其盐的第2保护膜形成剂，以及(5)水。
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公开(公告)号：CN1392215A
公开(公告)日：2003-01-22
申请号：CN02123007.2
申请日：1999-12-28
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
摘要： 本发明可以提供一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、该保护膜形成剂助剂和水的金属研磨液，其制造方法及使用其的研磨方法。而且作为这种金属研磨液的制备材料，本发明还可以提供一种含有氧化金属溶解剂、保护膜形成剂和该保护膜形成剂助剂的金属研磨液材料。
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公开(公告)号：CN1318868C
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN03807085.5
申请日：2003-03-27
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： G02B6/12
CPC分类号： G02B6/12009 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/2938
摘要： 本发明提供一种光波导，其特征在于，具有射入芯4和射出芯5，射出芯5的宽度超过射入芯4的宽度的1.5倍。该光波导即使光的波长在10nm的宽范围内变动的情况下，也可以对光进行合/分波。进而，本发明在成为光路径的光波导和使用了以分光和聚光为目的的衍射光栅的光合/分波器中，在使用波长下，与膜平面平行的光波导芯层的折射率(nTE)和与膜平面垂直的光波导芯层的折射率(nTM)的差的绝对值在0.007以下。该光合/分波器可以通过将变为光路径的光波导芯层的复折射率设在0.007以下，将依存于射入信号光的偏光方向的输出信号光的波长变动控制在5nm以下。
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公开(公告)号：CN1680511A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510068160.0
申请日：1999-08-31
申请人： 日立化成工业株式会社 , 株式会社日立制作所
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/02 , C23F3/00 , C23F3/06 , H01L21/3212
摘要： 本发明提供金属用研磨液及研磨方法，该金属用研磨液含有(1)金属的氧化剂，(2)氧化金属溶解剂，(3)通过在金属膜表面形成物理吸附和/或化学结合而形成称为氨基酸或唑类的保护膜的第1保护膜形成剂、(4)辅助第1保护膜形成剂形成称为聚丙烯酸、聚酰胺酸或者其盐的第2保护膜形成剂，以及(5)水。
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公开(公告)号：CN1325540A
公开(公告)日：2001-12-05
申请号：CN99812776.0
申请日：1999-08-31
申请人： 日立化成工业株式会社 , 株式会社日立制作所
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/308 , C23F1/16
CPC分类号： C09G1/02 , C23F3/00 , C23F3/06 , H01L21/3212
摘要： 本发明提供金属用研磨液及研磨方法,该金属用研磨液含有(1)金属的氧化剂,(2)氧化金属溶解剂,(3)通过在金属膜表面形成物理吸附和/或化学结合而形成称为氨基酸或唑类的保护膜的第1保护膜形成剂、(4)辅助第1保护膜形成剂形成称为聚丙烯酸、聚酰胺酸或者其盐的第2保护膜形成剂,以及(5)水。
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公开(公告)号：CN101440259A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810186929.2
申请日：1999-08-31
申请人： 日立化成工业株式会社 , 株式会社日立制作所
IPC分类号： C09G1/18 , C23F3/00 , C23F3/06 , H01L21/321
摘要： 本发明提供金属用研磨液及研磨方法，该金属用研磨液含有(1)金属的氧化剂，(2)氧化金属溶解剂，(3)通过在金属膜表面形成物理吸附和/或化学结合而形成称为氨基酸或唑类的保护膜的第1保护膜形成剂、(4)辅助第1保护膜形成剂形成称为聚丙烯酸、聚酰胺酸或者其盐的第2保护膜形成剂，以及(5)水。
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公开(公告)号：CN1784617A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200480012070.3
申请日：2004-05-07
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： G02B5/32 , F21V8/00 , G02F1/13357
CPC分类号： G02B6/0053 , G02B5/0252 , G02B5/1871 , G02B5/32 , G02B6/0038 , G02B6/0065 , G02F2001/133607 , G03H2001/264
摘要： 本发明在于提供一种薄型、透光率高、使用性优越的全息照相光学元件及使用它的面光源装置。是一种折弯角度的波长依赖性小、抑制从倾斜方向入射的白色光的分光且向垂直方向折弯并射出的全息照相光学元件。是一种全息照相光学元件，其，使在0.46≤λ1≤0.50μm(蓝色光)、0.53≤λ2≤0.57μm(绿色光)、0.60≤λ3≤0.64μm(红色光)范围的λ1、λ2、λ3的3波长的光以角度θi入射透射型衍射光栅时，各波长的衍射效率为最大的衍射角度包含在－5度到+5度的范围。
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公开(公告)号：CN1643417A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN03807085.5
申请日：2003-03-27
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： G02B6/12
CPC分类号： G02B6/12009 , G02B6/12007 , G02B6/124 , G02B6/2938
摘要： 本发明提供一种光波导，其特征在于，具有射入芯4和射出芯5，射出芯5的宽度超过射入芯4的宽度的1.5倍。该光波导即使光的波长在10nm的宽范围内变动的情况下，也可以对光进行合/分波。进而，本发明在成为光路经的光波导和使用了以分光和聚光为目的的衍射光栅的光合/分波器中，在使用波长下，与膜平面平行的光波导芯层的折射率(nTE)和与膜平面垂直的光波导芯层的折射率(nTM)的差的绝对值在0.007以下。该光合/分波器可以通过将变为光路径的光波导芯层的复折射率设在0.007以下，将依存于射入信号光的偏光方向的输出信号光的波长变动控制在5nm以下。
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公开(公告)号：CN1371529A
公开(公告)日：2002-09-25
申请号：CN00811963.5
申请日：2000-08-25
申请人： 日立化成工业株式会社
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本发明中提供了一种含有氧化剂、氧化金属溶解剂、保护膜形成剂、水溶性聚合物和水的CMP用研磨剂,及用它的研磨方法。水溶性聚合物的重量平均分子量在500以上,研磨剂的动摩擦系数在0.25以上,研磨剂的厄布洛德粘度在0.95cP以上,1.5cP以下,研磨剂的拐点压力在50gf/cm2以上。
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