-
公开(公告)号:CN103361608A
公开(公告)日:2013-10-23
申请号:CN201310095050.8
申请日:2013-03-22
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置,在规定的蒸镀速率所必要的坩埚(22)的最小限温度下进行蒸镀,当坩埚(22)内的蒸镀材料(24)减少、来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量(从坩埚(22)供给的蒸发粒子的形成)减少而导致蒸镀速率降低,为了维持规定的蒸镀速率而使流量控制阀(19)的开度急剧变大的情况下,使坩埚(22)的目标加热温度以增量上升。其结果,来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量增加,维持了规定的蒸镀速率。通过使目标温度依次以增量上升,不仅能防止蒸镀材料(24)的热劣化且可以将蒸镀材料(24)使用到最后,并可以将蒸镀材料(24)的残留降到最低值。
-
公开(公告)号:CN101416283A
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200680054217.4
申请日:2006-09-25
Applicant: 日立造船株式会社 , 日立造船精密科技股份有限公司
IPC: H01L21/3063 , C03C23/00 , C25F3/02
CPC classification number: H01L21/32134 , C03C17/23 , C03C2217/231 , C03C2218/328 , C25D1/04 , C25F7/00
Abstract: 本发明提供除去导电性金属氧化物薄膜直至端部也无残留的方法及装置。将正电极13和第1负电极14与基材11表面的导电性金属氧化物薄膜12对向并以非接触状态并排设置。在正电极13和第1负电极14间,在导电性金属氧化物薄膜12的宽度方向以接触状态设置多个第2负电极17。以电解液存在于这些电极13、14、17和导电性金属氧化物薄膜12间的状态,对电极13、14、17施加电压。使基材11相对于电极13、14、17进行移动,使得导电性金属氧化物薄膜12在通过负电极14、17后通过正电极13。可不生成瑕疵或应力变形,而有效地除去导电性金属氧化物薄膜直至最终端部,可实现高价的功能性玻璃基板等的再生利用。
-
公开(公告)号:CN1323973C
公开(公告)日:2007-07-04
申请号:CN200380101204.4
申请日:2003-10-02
Applicant: 日立造船株式会社 , 日立造船金属工业股份有限公司
Abstract: 使用由倾斜配置的引导电解流的流下的金属平板电极(21)、安装在该金属平板电极(21)的上游或下游侧且一部分应浸渍于电解液中的辅助电极(22)、以及施加于上述两电极的直流电压电源(23)构成的金属薄膜的除去装置,在对上述金属平板电极(21)与辅助电极(22)施加了直流电压的状态下,使从上述金属平板电极(21)上流下的电解液(26)与绝缘物(24)表面的金属薄膜(24a)产生碰撞,由此将金属薄膜(24a)除去。
-
公开(公告)号:CN1315577C
公开(公告)日:2007-05-16
申请号:CN00819868.3
申请日:2000-09-04
Applicant: 日立造船株式会社
Abstract: 通过在带电摩擦装置的下方,从上到下,分别配置在鼓形电极和对置电极之间形成的分离用静电场的第1静电分离部分和第2静电分离部分,将在第1静电分离部分由分离用静电场分离的塑料片再次投入第2静电分离部分的分离用静电场进行再次分离,提高塑料片的分离纯度和回收率。
-
公开(公告)号:CN1313792A
公开(公告)日:2001-09-19
申请号:CN00801056.0
申请日:2000-03-21
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: B03C7/06 , B03C7/006 , B29B17/02 , B29B2017/0203 , B29B2017/0265 , B29K2023/06 , B29K2023/12 , B29K2025/00 , B29K2027/06 , B29K2033/12 , B29K2705/00 , Y02W30/527 , Y02W30/622
Abstract: 一种对不同种类的粉碎了的塑料进行静电分离以正确地按种类分选的装置。由按大小对塑料片分类的分类部(40)、摩擦带电装置(17)、一对转鼓型静电分离装置(41)及配置于静电分离装置下方的回收部(26)构成。对各回收部进行分隔的分隔壁(52-55)的构造可相应于各塑料片(16)的由极性和带电量确定的落下位置作水平移动。为此,不用改变高压电源装置(24)的电压等即可正确地进行分离。
-
公开(公告)号:CN203768445U
公开(公告)日:2014-08-13
申请号:CN201320858786.1
申请日:2013-12-24
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置,在真空下对基板(K)进行蒸镀,其包括:多个坩埚(2),分别使蒸镀材料(A)蒸发而成为蒸发材料;阀(51),与上述坩埚(2)的下游侧连接;扩散容器(21),从上述阀(51)通过导入管(11)导入蒸发材料并使导入的蒸发材料扩散;以及多个喷嘴(25),将在所述扩散容器的内部(22)扩散的蒸发材料朝向基板(K)释放,其中,全部的所述导入管(11)不具有分路部,蒸镀速率为扩散容器的内部空间厚度(D)为1m以下且喷嘴间最大距离(L)为5m以下,并且扩散容器的内部空间厚度(D)与喷嘴间最大距离(L)的关系,满足规定的公式(1)~(3)中的任意一个。
-
公开(公告)号:CN202786404U
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN201220403488.9
申请日:2012-08-15
Applicant: 日立造船株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置,能缩短直到开始蒸发为止的时间,坩埚不会因局部加热而破损,能形成均匀的蒸镀膜。该真空蒸镀装置(1)包括:真空蒸镀用的坩埚(4),收容金属蒸镀材料(3);以及加热装置(5),使坩埚(4)中收容的蒸镀材料(3)熔融并蒸发。坩埚(4)内部的中央部具有柱状的突出部(44),加热装置5具有从背面侧加热突出部(44)的主加热器(51),以及从外侧加热坩埚(4)的内周面(43)的副加热器(52),利用主加热器(51)蒸发的蒸镀材料(3)的量多于利用副加热器(52)蒸发的蒸镀材料(3)的量。
-
-
-
-
-
-