蒸镀装置
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103361608A

    公开(公告)日:2013-10-23

    申请号:CN201310095050.8

    申请日:2013-03-22

    Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置,在规定的蒸镀速率所必要的坩埚(22)的最小限温度下进行蒸镀,当坩埚(22)内的蒸镀材料(24)减少、来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量(从坩埚(22)供给的蒸发粒子的形成)减少而导致蒸镀速率降低,为了维持规定的蒸镀速率而使流量控制阀(19)的开度急剧变大的情况下,使坩埚(22)的目标加热温度以增量上升。其结果,来自坩埚(22)的蒸镀材料(24)的蒸发量增加,维持了规定的蒸镀速率。通过使目标温度依次以增量上升,不仅能防止蒸镀材料(24)的热劣化且可以将蒸镀材料(24)使用到最后,并可以将蒸镀材料(24)的残留降到最低值。

    真空蒸镀装置
    36.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203768445U

    公开(公告)日:2014-08-13

    申请号:CN201320858786.1

    申请日:2013-12-24

    Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置,在真空下对基板(K)进行蒸镀,其包括:多个坩埚(2),分别使蒸镀材料(A)蒸发而成为蒸发材料;阀(51),与上述坩埚(2)的下游侧连接;扩散容器(21),从上述阀(51)通过导入管(11)导入蒸发材料并使导入的蒸发材料扩散;以及多个喷嘴(25),将在所述扩散容器的内部(22)扩散的蒸发材料朝向基板(K)释放,其中,全部的所述导入管(11)不具有分路部,蒸镀速率为扩散容器的内部空间厚度(D)为1m以下且喷嘴间最大距离(L)为5m以下,并且扩散容器的内部空间厚度(D)与喷嘴间最大距离(L)的关系,满足规定的公式(1)~(3)中的任意一个。

    真空蒸镀装置
    37.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202786404U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220403488.9

    申请日:2012-08-15

    Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置,能缩短直到开始蒸发为止的时间,坩埚不会因局部加热而破损,能形成均匀的蒸镀膜。该真空蒸镀装置(1)包括:真空蒸镀用的坩埚(4),收容金属蒸镀材料(3);以及加热装置(5),使坩埚(4)中收容的蒸镀材料(3)熔融并蒸发。坩埚(4)内部的中央部具有柱状的突出部(44),加热装置5具有从背面侧加热突出部(44)的主加热器(51),以及从外侧加热坩埚(4)的内周面(43)的副加热器(52),利用主加热器(51)蒸发的蒸镀材料(3)的量多于利用副加热器(52)蒸发的蒸镀材料(3)的量。

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