公开(公告)号：CN114450596A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080066943.8

申请日：2020-09-07

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 玉腰武司 ,  青山康明 ,  金子悟 ,  小林启之 ,  星辽佑 ,  渡边洋 ,  神原克宏 ,  鬼泽邦昭

IPC: G01N35/04 ,  B65G54/02 ,  H02P25/064

Abstract: 提供一种不使用容器载体检测设备而高灵敏度地检测各致动器(磁极)的位置的技术。本公开将包括磁铁或者磁性体的输送容器沿着输送路径输送至目标位置，输送装置具备：输送面，配置多个包括芯体和线圈的磁极而构成，具有输送路径；驱动部，向线圈供给电流；以及位置检测部，执行推定输送容器的位置的处理，位置检测部执行如下处理：对为了检测输送容器的位置而选择的第一磁极进行励磁，并且对是第一磁极起处于给定范围的周边的磁极且与第一磁极不同的至少1个第二磁极向与第一磁极的励磁电流相反极性的方向施加电压；和基于第一磁极的电流值，来推定输送容器的位置(参照图11)。

公开(公告)号：CN113905964A

公开(公告)日：2022-01-07

申请号：CN202080041737.1

申请日：2020-04-07

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 青山康明 ,  星辽佑 ,  金子悟 ,  小林启之 ,  玉腰武司 ,  神原克宏 ,  渡边洋 ,  鬼泽邦昭

IPC: B65G54/02 ,  G01N35/04

Abstract: 本发明提供一种输送装置，抑制输送面的劣化而提高了可靠性，并且抑制电流损失而提高了输送效率。输送装置(1)具备：被输送体，其具有永久磁铁(10)或磁性体；以及电磁铁部，其在由磁性体构成的齿(25)卷绕有线圈(21)，其中，在与上述被输送体对置的上述齿(25)的面具有凹部。具体而言，与上述被输送体对置的上述齿25的面具有相对于上述被输送体距离不同的至少两个以上的面(第一对置面(22)、第二对置面(23)等)。

公开(公告)号：CN113474980A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080016367.6

申请日：2020-01-14

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 青山康明 ,  星辽佑 ,  小林启之 ,  玉腰武司 ,  金子悟 ,  渡边洋 ,  神原克宏 ,  鬼泽邦昭

IPC: H02K41/02 ,  B65G54/02 ,  G01N35/04 ,  H02K41/03

Abstract: 在本发明中，输送装置(1)具有设置在受检体架(111)一侧的永磁体(10)、由第二磁性体构成的齿(22)和卷绕在齿(22)的外周侧的绕组(21)，在齿(22)中，与永磁体(10)相对的部分的截面的截面积大于其他部分的截面的截面积。或者，具有设置在受检体架(111)一侧的永磁体(10)、由第二磁性体构成的齿(22)和卷绕在齿(22)的外周侧的绕组(21)，永磁体(10)与绕组(21)的间隔Lc、以及永磁体(10)与齿(22)的间隔Lt满足Lc>Lt的关系。

公开(公告)号：CN103710667A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310339461.7

申请日：2013-08-06

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦 ,  山本健一 ,  楠敏明 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/24 ,  F27B14/04 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明是提供一种蒸发源、真空蒸镀装置以及有机EL显示装置制造方法，使用能够降低热辐射、能够节电化的蒸发源，能够与大型基板对应，高速形成以铝材料为主的金属薄膜，连续成膜。作为解决本发明课题的方法涉及在使用陶瓷制的坩锅的蒸发源中，通过使夹着凸缘部那样设置热反射构件，有效地阻断沿凸缘部流出的热。其结果是能够用少的电力有效地加热坩锅，另外能够防止凸缘部的温度上升，防止攀缘。

公开(公告)号：CN103374700A

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201310124641.3

申请日：2013-04-11

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 玉腰武司 ,  三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  楠敏明 ,  山本健一 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。将多个线状蒸发源相对于成膜方向配置成多级，能够在去路和回路中不改变成膜顺序地进行共蒸镀。在基板上成膜蒸镀材料的真空蒸镀装置中，具有以相对于成膜方向为对称的方式配置有多个线状蒸发源的蒸发源组，上述蒸发源组相对于上述基板向第一方向移动并对上述基板成膜后，相对于上述基板向与上述第一方向相反的方向即第二方向移动并对上述基板成膜。

公开(公告)号：CN102312207B

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201110177715.0

申请日：2011-06-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 楠敏明 ,  三宅龙也 ,  山本健一 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。在薄膜有机EL材料之上进行低损坏且高速的溅射成膜而不会使成膜装置大型化。将磁控管等离子体(20)封闭在可动式屏蔽电极(13)内，所述可动式屏蔽电极(13)在靶材料11侧为开口、在基板侧具有在关闭面内使溅射粒子通过的缝隙，使可动式屏蔽电极(13)和磁控管(17)同时扫描，以进行针对下层膜的损坏较少的成膜，之后，仅仅磁控管(17)扫描以进行利用磁控管等离子体的高速成膜。据此，就能够进行对下层膜损坏较少、且高速的成膜。

公开(公告)号：CN103305796A

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201310054787.5

申请日：2013-02-20

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦 ,  山本健一 ,  楠敏明 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供能在大型基板上快速地形成膜厚均匀且有机EL上部电极用的铝金属薄膜，并能长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。通过使用陶瓷制的坩埚防止铝的攀爬，并使用在横向上操作沿纵向排列有在相同方向上以规定的角度倾斜的蒸发源（3-1）的蒸发源列（3-2）并进行蒸镀的机构，能够相对于大型的纵置基板（1-1）快速形成有机EL上部电极用金属薄膜，并使用材料供给机进行长时间的连续成膜。