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公开(公告)号：CN108604522A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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公开(公告)号：CN102732836A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110442780.1
申请日：2011-12-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置及成膜装置，该真空蒸镀装置及成膜装置在大型基板上高速地形成膜厚均匀的有机EL上部电极用的铝金属薄膜，能够长时间连续运行。使用陶瓷制的坩埚，防止铝的向上蠕动，使用在横向上操作蒸发源列(3-2)进行蒸镀的机构，该蒸发源列(3-2)在纵向上排列了至少2个以上在相同方向上按规定角度倾斜了的蒸发源(3-1)，据此，能够相对于大型化的纵向设置的基板(1-1)高速地形成有机EL上部电极用金属薄膜，能够进行长时间的连续成膜。
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公开(公告)号：CN103938162A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410018357.2
申请日：2014-01-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供蒸镀装置和该蒸镀装置所用的蒸发源，该蒸镀装置能够长时间进行稳定的蒸镀，该蒸发源能够稳定且大量地收入作为蒸镀材料的Al。本发明的蒸镀装置具备蒸镀基板的蒸发源（30）和收纳蒸发源（30）且基板被搬送的工艺腔室。蒸发源（30）具备坩埚（10），坩埚（10）具有固体的Al材料（2）被供给的材料收入部（11）、与材料收入部（11）相邻，加热从材料收入部（11）供给的Al材料（2）使其熔融并形成为熔液（1）的熔融部（12）、和与熔融部（12）相邻，加热从熔融部（12）供给的熔液（1）而产生蒸气的蒸发部（13）。
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公开(公告)号：CN103031520A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210304156.X
申请日：2012-08-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24 , C23C14/12 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供一种蒸发源及成膜装置。该成膜装置具有防止铝的爬升且难以产生破损的稳定的蒸发源。而且该成膜装置适合于使基板竖直并自横向进行蒸镀的纵向式蒸镀。所述蒸发源至少由坩埚和加热部构成，坩埚由相对于蒸镀材料的浸润性不同的材质制成的具有两种结构的坩埚，至少开口部由浸润性小的材料制成，被供给蒸镀材料的部分由浸润性大的材料制成。成膜装置具有如上所述的蒸发源。
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公开(公告)号：CN102732837A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210023615.7
申请日：2012-02-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明以低成本提供一种具有防止Al的向上蠕动或Al蒸气浸入而难以引起破损的蒸发源的蒸镀装置。该蒸镀装置在真空腔室内具有蒸镀源单元(26)，其中，上述蒸镀源单元(26)具有：收容蒸发材料(5)的坩埚(1)、安装于上述坩埚(1)的开口部的喷嘴(2)、包围上述坩埚(1)并收容加热器(3)的加热室(10)、和固定件(7)，在上述坩埚(1)的内壁和上述加热室(10)之间具有切口(12)，该切口(12)阻止在上述坩埚(1)中熔融了的上述蒸发材料(5)或上述蒸发材料(5)的蒸气侵入到上述加热室(10)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112119297A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201880093447.4
申请日：2018-05-30
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供在存在由晶片的翘曲等引起的高度变动的观测对象中也很少发生画质的劣化的晶片检查技术。晶片检查装置使观测光学系统的焦点聚焦于由测量晶片表面高度的高度传感器测量出的高度，而且，根据与高度对应的光学倍率数据和工作台位置数据修正CCD线传感器的切换信号，实施与晶片表面高度对应的修正，由此能够得到劣化减少的图像(参照图1)。
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公开(公告)号：CN108603850B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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公开(公告)号：CN108603850A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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公开(公告)号：CN108603851B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201680081653.4
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现潜伤等的高精度检测或者潜伤等的高速检测等的缺陷检查装置。为了实现该目的，提出了一种缺陷检查装置，其具备：试样支承部件，其对从电子源释放出的电子束所照射的试样进行支承；负电压施加电源，其用于形成针对上述电子束的减速电场，该电子束照射到由该试样支承部件支承的试样；摄像元件，其对由于上述减速电场而未到达上述试样就反射了的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；以及运算处理装置，其对基于由上述摄像元件得到的信号来生成的图像进行处理，该运算处理装置基于至少在两个照射条件下照射上述紫外光时得到的多个图像信号，判定上述试样的缺陷的种类。
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公开(公告)号：CN108604522B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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