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公开(公告)号：CN102169094A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：CN201010611724.1
申请日：2010-12-21
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种有机EL显示器基板的点灯检查设备及其方法，即使最终的面板形式是树脂密封结构也能修复像素缺陷，缺陷修复后的像素的可靠性高，或检查修正的处理时间短、或缺陷修正的成功率高，能够实现自动化且生产率高。在本发明中，向具有使有机EL元件的各像素点灯的点灯检查用专用配线以及专用电极极板的主基板的所述专用电极极板供电，使所述各像素点灯，根据所述点灯结果检测所述各像素中未点灯的缺陷像素及其位置。并且，在密封前对所述缺陷像素的异物照射激光来修复缺陷时，根据所述缺陷的位置信息和大小，经由具有使所述激光透过的透光图案的光掩模照射所述缺陷的位置。
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公开(公告)号：CN102061445B
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201010539611.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。
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公开(公告)号：CN102732836A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110442780.1
申请日：2011-12-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置及成膜装置，该真空蒸镀装置及成膜装置在大型基板上高速地形成膜厚均匀的有机EL上部电极用的铝金属薄膜，能够长时间连续运行。使用陶瓷制的坩埚，防止铝的向上蠕动，使用在横向上操作蒸发源列(3-2)进行蒸镀的机构，该蒸发源列(3-2)在纵向上排列了至少2个以上在相同方向上按规定角度倾斜了的蒸发源(3-1)，据此，能够相对于大型化的纵向设置的基板(1-1)高速地形成有机EL上部电极用金属薄膜，能够进行长时间的连续成膜。
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公开(公告)号：CN101949002B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201010225087.4
申请日：2010-07-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明涉及镀膜装置、蒸发源装置，及其蒸发源容器。在真空内向被蒸镀基板表面包覆蒸镀材料的镀膜装置中使用的蒸发源装置具有加热箱(210)，该加热箱在其外部具有加热器(71H)，在其内部形成空间，在垂直方向层叠并容纳多个蒸发源容器(220)；各蒸发源容器具有：由高导热材料构成的容器(221)，其断面形成为大致“U”字形，并且在大致中央部形成用于放出气体的贯通孔(222)，并以围绕该贯通孔的方式形成；覆盖容器的上面开口，由高导热材料构成的盖体(225)；将在容器内产生的蒸镀材料的气体通过间隙引导到贯通孔，集中到设于上述加热箱上部的导向部(212)，通过喷出孔(213)供应到被蒸镀基板(100)的表面。
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公开(公告)号：CN101962749A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010234426.5
申请日：2010-07-20
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明涉及镀膜装置及镀膜方法。本发明的目的在于提供减少喷嘴及周边的清理频度，运转率高或可以均匀地镀膜的镀膜装置及镀膜方法。本发明的镀膜装置，具有真空蒸镀室，该真空蒸镀室具备使蒸发源移动的蒸发源移动机构，所述蒸发源使蒸发源内部所具有的蒸发材料蒸发(升华)，从所述蒸发源的多个喷嘴喷出而蒸镀到基板上，镀膜装置的特征在于，所述真空蒸镀室具有喷嘴清理机构，喷嘴清理机构具备去除在所述喷嘴或喷嘴附近析出的析出蒸发材料的清理部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103710667A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310339461.7
申请日：2013-08-06
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明是提供一种蒸发源、真空蒸镀装置以及有机EL显示装置制造方法，使用能够降低热辐射、能够节电化的蒸发源，能够与大型基板对应，高速形成以铝材料为主的金属薄膜，连续成膜。作为解决本发明课题的方法涉及在使用陶瓷制的坩锅的蒸发源中，通过使夹着凸缘部那样设置热反射构件，有效地阻断沿凸缘部流出的热。其结果是能够用少的电力有效地加热坩锅，另外能够防止凸缘部的温度上升，防止攀缘。
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公开(公告)号：CN103374700A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310124641.3
申请日：2013-04-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。将多个线状蒸发源相对于成膜方向配置成多级，能够在去路和回路中不改变成膜顺序地进行共蒸镀。在基板上成膜蒸镀材料的真空蒸镀装置中，具有以相对于成膜方向为对称的方式配置有多个线状蒸发源的蒸发源组，上述蒸发源组相对于上述基板向第一方向移动并对上述基板成膜后，相对于上述基板向与上述第一方向相反的方向即第二方向移动并对上述基板成膜。
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公开(公告)号：CN103361610A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310053508.3
申请日：2013-02-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明提供一种即使蒸镀材料进入蒸发源内部，也防止膜质的劣化，不会对连续运转、维护产生障碍的蒸发源以及真空蒸镀装置。蒸发源以及真空蒸镀装置由具有用于将加热被封入的蒸镀材料而蒸发出的蒸镀材料排放的喷嘴的坩埚、用于加热该坩埚的加热构件、配置在上述坩埚和上述加热构件的周边的隔热构件构成，在上述隔热构件和坩埚或者加热构件之间设置由该加热构件保持为低温的浮游蒸镀物回收构件，且在该浮游蒸镀物回收构件和上述坩埚以及上述加热构件之间设置隔热构件。
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公开(公告)号：CN103305796A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310054787.5
申请日：2013-02-20
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供能在大型基板上快速地形成膜厚均匀且有机EL上部电极用的铝金属薄膜，并能长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。通过使用陶瓷制的坩埚防止铝的攀爬，并使用在横向上操作沿纵向排列有在相同方向上以规定的角度倾斜的蒸发源（3-1）的蒸发源列（3-2）并进行蒸镀的机构，能够相对于大型的纵置基板（1-1）快速形成有机EL上部电极用金属薄膜，并使用材料供给机进行长时间的连续成膜。
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公开(公告)号：CN102676999A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210058800.X
申请日：2012-03-08
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种蒸发源和蒸镀装置，其发明目的在于隔断坩埚的辐射热而且不在喷嘴产生堵塞，本发明的蒸发源(1)具有喷嘴(12)、反射器(6)以及罩构件(8)，该喷嘴(12)按从对蒸镀材料(M)进行加热而使其蒸发的坩埚(5)突出的方式设置，朝基板(2)喷射蒸发了的蒸镀材料(M)；该反射器(6)具有并列地配置的多个金属板(15)，使得这些多个金属板(15)中的最接近基板(2)的金属板(15)设在比喷嘴(12)的喷嘴前端面(13)更接近基板(2)的位置；该罩构件(8)与构成反射器(6)的多个金属板(15)中的一部分一体地构成，将喷嘴(12)与反射器(6)之间闭塞。
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