公开(公告)号：CN111033372A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201880050289.4

申请日：2018-07-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  崔贤 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1333

Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中，复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上，使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时，可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

公开(公告)号：CN110959135A

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201880048881.0

申请日：2018-07-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  黄智泳 ,  徐汉珉 ,  朴圣恩 ,  裴南锡 ,  李承宪 ,  柳正善

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，可以呈现能够形成其中确保期望的暗化的高段差间隔物的结构。

公开(公告)号：CN108351603A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201780003799.1

申请日：2017-01-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 黄智泳 ,  徐汉珉 ,  裵南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  朴赞亨 ,  金起焕 ,  李一翻

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/033

CPC classification number: G03F7/20 ,  H01L21/033

Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法和使用该膜掩模的图案形成方法，所述膜掩模包括：透明基板；设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层；以及设置在所述暗化光屏蔽图案层上的表面能为30达因/cm以下的剥离力增强层。

公开(公告)号：CN102385083B

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201110258391.3

申请日：2011-09-02

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金大铉 ,  李承宪 ,  朴美姬 ,  U·R·李 ,  金星炫

IPC: G02B5/20 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明提供了使用喷墨印刷方法制造滤色器衬底的装置和方法。使用包含印刷层的毯在所述衬底上形成图案，所述印刷层中限定了具有图案形状的凹槽部分。与常规制造方法相比，所述制造滤色器衬底的方法可以简化滤色器制造工艺并降低制造时间和成本。另外，由于可以降低材料消耗并且不必制造掩模或印刷版，图案可以稳定地保持形状，以提供具有高品质的滤色器衬底。

公开(公告)号：CN113574685B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202080019167.6

申请日：2020-03-03

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李基硕 ,  李建锡 ,  李承宪

IPC: H10H29/855 ,  H10H20/857 ,  H10H20/83 ,  H10H20/84 ,  H10H29/14 ,  C09J133/00 ,  C09J183/04 ,  C09J175/04

Abstract: 根据本申请的一个示例性实施方案的透明发光器件显示器包括：透明基底；设置在透明基底上的导电金属图案；设置在导电金属图案的至少一部分上的发光器件；设置在透明基底、导电金属图案和发光器件上的第一透明粘合剂层；设置在第一透明粘合剂层上的紫外截止膜；和设置在紫外截止膜上的第二透明粘合剂层。

公开(公告)号：CN118591716A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202380017430.1

申请日：2023-09-21

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李度弦 ,  李承宪

IPC: G01D21/02 ,  G01D11/00 ,  G01B11/06 ,  G01B11/02 ,  G01J5/00 ,  G01J5/02

Abstract: 本发明涉及用于测量薄膜的温度和厚度的装置以及使用该装置的测量方法，其中，在薄膜的相同位置处对连续挤出或涂覆的薄膜的表面温度和厚度进行顺序地测量，并且基于测量数据控制薄膜的温度和厚度，使得可以制造出具有均匀厚度的薄膜。

公开(公告)号：CN112673309B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN201980058733.1

申请日：2019-11-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  韩在成 ,  李承宪

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本申请可以提供其上形成有具有优异的尺寸精度和粘合性的间隔物的基板以及能够有效地生产这样的基板的方法。本申请还提供了包括这样的基板的光学装置。

公开(公告)号：CN118355320A

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202280080171.2

申请日：2022-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  李承宪 ,  金真弘 ,  金旼俊 ,  朴永真

IPC: G02F1/135 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1333

Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底：其应用于各种光学装置，能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙，同时最大程度地确保有源区，而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

公开(公告)号：CN117396723A

公开(公告)日：2024-01-12

申请号：CN202380011936.1

申请日：2023-04-25

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李度弦 ,  李承宪

IPC: G01B11/06

Abstract: 公开了涂覆厚度测量设备及方法。根据本公开的实施方式的涂覆厚度测量设备包括：数据获取单元，该数据获取单元被配置成在涂覆有涂覆材料的基底由涂覆辊输送时获得厚度数据，该厚度数据指示施用至基底的与涂覆辊接触的接触部分的涂覆材料的厚度；以及处理器，该处理器被配置成创建具有其中分配并存储有校正数据的多个存储区域的虚拟存储器区，并且基于预先存储在目标存储区域中的校正数据来对厚度数据进行校正，以生成校正后的厚度数据，该目标存储区域选自所述多个存储区域。

公开(公告)号：CN111771161B

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN201980015600.6

申请日：2019-04-02

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 孙镛久 ,  李承宪 ,  裵南锡

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/16

Abstract: 根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模包括：透明基底；设置在透明基底上的光阻挡图案；和设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。