公开(公告)号：CN115989452A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202180047897.1

申请日：2021-07-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金旼俊 ,  吴东炫 ,  柳正善 ,  金真弘 ,  金正云 ,  徐汉珉

IPC: G02F1/139

Abstract: 本申请可以提供即使在其中施加压力的封装过程例如高压釜过程之后也可以稳定地保持设计的光学特性的光调制装置、光学装置或其制造方法。本申请还可以提供在有效地确保上基底与下基底之间的粘合力的同时还可以稳定地保持光调制层的取向状态的光调制装置、包括其的光学装置或其制造方法。

公开(公告)号：CN114341718A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202180005195.7

申请日：2021-02-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  金真弘 ,  金旼俊

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339

Abstract: 提供了图案膜，在所述图案膜中，间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物，其中球形间隔物完全嵌入至少一个分隔壁间隔物中、或部分嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触，以及第一基础层的每单位面积的间隔物图案的单位面积比率为5％至17％。

公开(公告)号：CN107850811A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680011004.7

申请日：2016-05-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李一翻 ,  黄智泳 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  金起焕 ,  徐汉珉 ,  朴赞亨

IPC: G02F1/136 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/133

CPC classification number: G02F1/136209 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/134363 ,  G02F1/136 ,  G02F1/136286 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/136222 ,  G02F2201/08 ,  G02F2201/38

Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置，该液晶显示装置在线电极如基板、栅电极、源电极、漏电极、栅极线和数据线中的至少一个的一个表面上设置有减光反射层，其中，所述液晶显示装置可以利用线电极控制光反射的量，从而减轻可视性的降低，并且可以实现高画质显示器。

公开(公告)号：CN107407846A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680015775.3

申请日：2016-05-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李一翻 ,  黄智泳 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  金起焕 ,  徐汉珉 ,  朴赞亨

IPC: G02F1/136 ,  H01L27/12 ,  G02F1/1368 ,  G02B1/11

CPC classification number: H01L29/78633 ,  C23C14/0015 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/185 ,  C23C14/34 ,  G02F1/133502 ,  G02F1/13439 ,  G02F1/136286 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/124 ,  H01L29/45 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/786 ,  H01L29/78618 ,  H01L29/78669 ,  H01L29/78678 ,  H01L29/7869 ,  G02F1/136 ,  G02B1/11 ,  H01L27/1214

Abstract: 公开了薄膜晶体管基底和包括其的显示装置。薄膜晶体管基底包括：栅电极；源电极；漏电极；和设置在面向栅极线和数据线基底的表面以及与其相反的表面上的光反射减少层，其中光反射减少层满足以下[式1]:(k×t)/λ的0.004至0.22的值(其中k意指光反射减少层的消光系数；t意指光反射减少层的厚度；并且λ意指光的波长)。

公开(公告)号：CN112673309B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN201980058733.1

申请日：2019-11-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  韩在成 ,  李承宪

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本申请可以提供其上形成有具有优异的尺寸精度和粘合性的间隔物的基板以及能够有效地生产这样的基板的方法。本申请还提供了包括这样的基板的光学装置。

公开(公告)号：CN118355320A

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202280080171.2

申请日：2022-12-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  李承宪 ,  金真弘 ,  金旼俊 ,  朴永真

IPC: G02F1/135 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1333

Abstract: 本申请提供了包括间隔物图案的基底。本申请可以提供这样的基底：其应用于各种光学装置，能够均匀且稳定地保持基底之间的间隙，同时最大程度地确保有源区，而不会引起包括衍射现象等的任何光学缺陷。本申请还可以提供包括所述基底的光学装置。

公开(公告)号：CN114341718B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202180005195.7

申请日：2021-02-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋哲沃 ,  徐汉珉 ,  裴南锡 ,  金真弘 ,  金旼俊

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339

Abstract: 提供了图案膜，在所述图案膜中，间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物，其中球形间隔物完全嵌入至少一个分隔壁间隔物中、或部分嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触，以及第一基础层的每单位面积的间隔物图案的单位面积比率为5％至17％。

公开(公告)号：CN110770646B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN201880039546.4

申请日：2018-06-29

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐汉珉 ,  黄智泳 ,  宋哲沃 ,  裴南锡 ,  李承宪 ,  吴东炫 ,  柳正善

IPC: G02F1/1339

Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中，通过控制形成在基板上的间隔物的形状，即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时，也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响，由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

公开(公告)号：CN111344635A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201880073200.6

申请日：2018-11-23

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李浚行 ,  李渊槿 ,  金正斗 ,  徐汉珉 ,  宋哲沃 ,  裴南锡

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F1/60

Abstract: 本申请涉及用于生产基板的方法。本申请的用于生产基板的方法可以均匀地形成具有根据期望的单元间隙的高度的间隔物，并且还可以自由地控制所述间隔物的高度。

公开(公告)号：CN106662951B

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201580047437.3

申请日：2015-09-04

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李东炫 ,  李承宪 ,  黄智泳 ,  朴元灿 ,  徐汉珉

IPC: G06F3/041 ,  G06F3/044

Abstract: 本申请涉及一种触摸屏及其制造方法。根据本申请的实施例的触摸屏包括：驱动电极单元，包括设置在第一基板上的驱动电极图案(Tx图案)；以及检测电极单元，包括设置在第二基板上的检测电极图案(Rx图案)，其中所述驱动电极图案和所述检测电极图案包括导电金属线，并且所述驱动电极图案的节距短于所述检测电极图案的节距。