一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关

    公开(公告)号:CN213093554U

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202022450850.5

    申请日:2020-10-29

    IPC分类号: H01S3/115

    摘要: 本实用新型公开了一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关,包括棱镜、第一电光晶体和第二电光晶体,棱镜、第一电光晶体、第二电光晶体沿通光方向依次排列;棱镜的工作面包括两通光面和两反射面,两通光面均镀设有增透膜,两反射面依据光线在界面是否会发生全反射决定镀设增反膜;第一电光晶体和第二电光晶体采用横向电光效应,沿X轴或Y轴方向通光,沿Z轴施加电场;第一电光晶体和第二电光晶体的主轴绕通光方向相互旋转90°第一电光晶体和第二电光晶体的Z轴与入射面法线方向成45°角。本实用新型既满足了激光腔内光线产生特定平移的需求,又有效解决了传统布儒斯特角切割的LN电光Q开关温度稳定性差的问题。

    一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置

    公开(公告)号:CN211086081U

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201921741892.5

    申请日:2019-10-17

    IPC分类号: G01N21/45 G01B11/24

    摘要: 本实用新型公开了一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置。所述的测试装置包括沿光轴方向依次设置的光源、聚光透镜、准直透镜、起偏器、相位补偿器、检偏器、成像镜头和相机,待测晶体置于相位补偿器和检偏器之间,所述的相位补偿器由两块光楔构成,通过调节两块光楔的相对位置来调节相位延迟量,其中所述光楔的材质为成分与待测晶体相同且光学均匀性好的晶体。本实用新型所述装置结构简单、成本低廉、便于维护且适合推广使用;采用本实用新型所述装置对晶体光学均匀进行测试时,无需反复测试背景干扰及不同偏振态激光通过晶体形成干涉图,受环境影响小,测试效率高、适合批量化的生产检测。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利