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公开(公告)号：CN101989042B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201010243191.6
申请日：2010-07-28
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
Abstract: 本发明提供多色调光掩模的制造方法及图案转印方法。该多色调光掩模具有包括透光部、遮光部以及使曝光光的一部分透射的半透光部的预定转印图案，针对形成在要被蚀刻加工的被转印体上的抗蚀剂膜，转印预定图案，使抗蚀剂膜构成为抗蚀剂图案，该抗蚀剂图案成为蚀刻加工中的掩模，其中，该制造方法包括如下步骤：掌握抗蚀剂膜所使用的抗蚀剂相对于曝光光的抗蚀剂特性；根据抗蚀剂特性来确定半透光部相对于曝光光的实效透射率；以及根据实效透射率至少对形成在透明基板上的遮光膜进行构图，由此形成半透光部。
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公开(公告)号：CN102692816A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210080752.4
申请日：2012-03-23
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
Abstract: 本发明提供一种光掩模的制造方法、图案转印方法以及显示装置的制造方法，即使在被加工体上形成细微的间距宽度的线与间隙图案的情况下，也基本不需要追加投资地进行图案形成。设定基于蚀刻被加工体时的蚀刻条件的侧蚀刻宽度α。根据侧蚀刻宽度α、膜图案的线宽WL和间隙宽度WS，确定转印用图案的线宽ML、间隙宽度MS。并且，确定在曝光时应用的曝光条件和半透光膜的光透射率，以便通过使用了具有所确定的线宽ML、间隙宽度MS的转印用图案的光掩模的曝光和蚀刻，在被加工体上形成线宽WL、间隙宽度WS的线与间隙的膜图案。
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公开(公告)号：CN101713919B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200910175722.X
申请日：2009-09-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
Abstract: 本发明提供多级灰度光掩模及其制造方法，所述多级灰度光掩模具有转印图案，该转印图案带有透光区域、遮光区域以及半透光区域。所述转印图案中的半透光区域具有第1半透光部(具有第1有效透光率)和第2半透光部(具有不同于所述第1有效透光率的第2有效透光率)。所述转印图案的所述第1有效透光率和第2有效透光率被设定成：使用所述光掩模对被转印体上的抗蚀剂膜进行曝光而转印所述转印图案后，对所述抗蚀剂膜显影，由此形成的抗蚀剂图案上对应所述第1半透光部的部分和所述第2半透光部的部分具有实质相同的抗蚀剂残膜值。
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公开(公告)号：CN101196680B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200710196455.5
申请日：2007-12-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明的光掩膜的检查装置中，保持光掩膜(3)，将来自光源(1)的规定波长的光束介由照明光学系统(2)照射到光掩膜(3)，并介由物镜系统(4)且由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。从光源(1)发出的光束至少包含g线、h线或i线之一，或者包含它们任意二者以上混合后的光束，介由波长选择滤波器(6)而照射到光掩膜(3)上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101546117B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200910129754.6
申请日：2009-03-26
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
IPC: G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及多色调光掩模和使用该多色调光掩模的图案转印方法。本发明的多色调光掩模通过设置在透明基板(21)上的、遮蔽曝光光的遮光膜(23)和使所述曝光光的一部分透过的半透膜(22)从而具有拥有透光区域、遮光区域以及半透光区域的转印图案。利用数值孔径为0.08、相干度为0.8的光学系统来接收通过所述多色调光掩模的、g线、h线、i线各自强度为1∶1∶1的曝光光，求出所述半透光区域的有效透过率，此时，所述半透光区域的有效透过率的掩模面内分布范围为2.0％以下。
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公开(公告)号：CN101196680A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710196455.5
申请日：2007-12-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 本发明的光掩膜的检查装置中，保持光掩膜(3)，将来自光源(1)的规定波长的光束介由照明光学系统(2)照射到光掩膜(3)，并介由物镜系统(4)且由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。从光源(1)发出的光束至少包含g线、h线或i线之一，或者包含它们任意二者以上混合后的光束，介由波长选择滤波器(6)而照射到光掩膜(3)上。
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公开(公告)号：CN110632823A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910880536.X
申请日：2014-11-17
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
IPC: G03F1/32 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种光掩模及其制造方法、图案转印方法、显示装置的制造方法。所述光掩模具有用于在被转印体上形成线宽Wp的器件图案的转印用图案，器件图案的线宽Wp与构成转印用图案的第1空白图案的线宽Wm之间的关系满足下述式(1)和式(2)：Wp＜10μm…(1)1≤(Wm－Wp)/2≤4(μm)…(2)。
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公开(公告)号：CN102374977B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201110217088.9
申请日：2011-07-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种透射率测定装置、光掩模的透射率检查装置、透射率检查方法、光掩模制造方法、图案转印方法、光掩模产品，该透射率测定装置能够正确测定细微图案(例如形成于透明基板上的细微的半透光膜图案)的膜透射率。作为解决手段，在测定形成于透明基板上的半透光膜的细微图案等的膜透射率时，将测定波长的光会聚成最小点径(光束腰)并使其透射过作为测定对象物的半透光膜，然后将该透射光全部取入积分球，通过光检测器进行检测。
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公开(公告)号：CN101526733B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN200910004519.6
申请日：2009-03-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
IPC: G03F1/32 , G03F7/20 , H01L21/336
Abstract: 本发明涉及多色调光掩模和使用该多色调光掩模的图案转印方法。多色调光掩模通过设置在透明基板(21)上的、遮蔽曝光光的遮光膜(23)和使所述曝光光的一部分透过的半透膜(22)而具有拥有透光区域、遮光区域以及半透光区域的转印图案。所述半透光区域针对所述曝光光的有效透过率的范围为2.0％以下。
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