粘合带
    43.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108977099B

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN201810806474.3

    申请日:2014-04-04

    Abstract: 本发明提供一种粘合带,其即使因激光切割等而被加热也能够抑制粘合力的上升,小片化的半导体元件的取出、向其他粘合带的转移等的处理容易,且能够抑制对被粘物的残胶。本发明的粘合带为在基材的至少一个面上具备粘合剂层的粘合带,该粘合剂层的表面的利用纳米压痕仪得到的100℃下的压痕硬度为20.0MPa以上。

    粘合带
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104910824B

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201510106623.1

    申请日:2015-03-11

    Abstract: 本申请发明的目的在于提供粘合带,所述粘合带使用成为REACH的管制对象的邻苯二甲酸双(2‑乙基己酯)(DOP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)的替代化合物作为增塑剂,且粘合性和退卷性优异。本申请发明的粘合带的特征在于,在包含10~40重量%对苯二甲酸双(2‑乙基己酯)的聚氯乙烯系基材的单面具有粘合剂层。本申请发明的粘合带优选的是,拉伸速度0.3m/min下的退卷力为0.4N/20mm以下,且拉伸速度30m/min下的退卷力为1.2N/20mm以下。

    粘合带
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104099032B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201410137377.1

    申请日:2014-04-04

    Abstract: 本发明提供一种粘合带,其即使因激光切割等而被加热也能够抑制粘合力的上升,小片化的半导体元件的取出、向其他粘合带的转移等的处理容易,且能够抑制对被粘物的残胶。本发明的粘合带为在基材的至少一个面上具备粘合剂层的粘合带,该粘合剂层的表面的利用纳米压痕仪得到的100℃下的压痕硬度为20.0MPa以上。

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