热固化膜形成用聚酯组合物

    公开(公告)号:CN102369230B

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201080014439.X

    申请日:2010-03-30

    Inventor: 畑中真 安达勲

    Abstract: 本发明的课题是提供在固化膜形成后显示高耐溶剂性、液晶取向性、耐热性、高透明性和高平坦化性,而且在固化膜形成时能够在可适用于滤色器的平坦化膜的生产线的二醇系溶剂、乳酸酯系溶剂中溶解的材料。作为本发明的解决课题的方法是,提供含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的热固化膜形成用聚酯组合物:(A)成分:四羧酸二酐与二醇化合物反应而得的聚酯,(B)成分:具有2个以上环氧基的环氧化合物,(C)成分:二胺化合物与二羧酸酐反应而得的含有氨基的羧酸化合物。

    使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法

    公开(公告)号:CN101065708B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN200580040348.2

    申请日:2005-11-01

    Inventor: 畑中真

    CPC classification number: G03F7/091 H01L21/0276

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种在半导体器件制造的光刻工序中、使用能用光致抗蚀剂用显影液进行显影的防反射膜、形成光致抗蚀剂和防反射膜都为矩形形状的图形的方法。本发明通过提供下述光致抗蚀剂图形的形成方法解决了上述课题,即,一种光致抗蚀剂图形的形成方法,其包括形成可溶于光致抗蚀剂用显影液的第一防反射膜的工序;在上述第一防反射膜上形成可溶于光致抗蚀剂用显影液并且对光致抗蚀剂用显影液的溶解速度比上述第一防反射膜小的第二防反射膜的工序;在上述第二防反射膜上形成光致抗蚀剂的工序;对由上述第一防反射膜、上述第二防反射膜和上述光致抗蚀剂被覆的半导体基板进行曝光的工序;和利用光致抗蚀剂用显影液进行显影的工序。

    使用半曝光用正型感光性树脂层的透明性固化膜的制造方法

    公开(公告)号:CN101517492B

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN200780034656.3

    申请日:2007-09-18

    Inventor: 畑中真

    CPC classification number: G03F7/095 G03F7/0043

    Abstract: 本发明提供在维持高灵敏度的状态下具有较宽曝光裕量的透明性固化膜的制造方法,尤其是提供一种透明性固化膜的制造方法,所述透明性固化膜可以在制造半透射型液晶显示元件中的TFT平坦化膜时应用,特别是用于通过半曝光而同时形成接触孔和反射用凹凸。作为本发明的解决问题的方法是,提供一种透明性固化膜的制造方法,其特征在于,包括下述工序:在基材上将曝光灵敏度不同的两层正型感光性树脂层进行叠层,使得低灵敏度的正型感光性树脂层位于所述基材与高灵敏度的正型感光性树脂层之间,然后将该正型感光性树脂层进行曝光、曝光后加热、显影、后烘烤。并且提供一种显示元件,具有通过这样的方法得到的透明性固化膜。

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