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公开(公告)号：CN114929946B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202080027461.1
申请日：2020-12-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明实现基板保持的可靠性较高的基板支架。镀覆模块包含用于收容镀覆液的镀覆槽、用于以被镀覆面朝向下方的状态保持基板的基板支架(440)、以及用于使基板支架(440)升降的升降机构。基板支架(440)包含用于支承基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的外周部的支承机构(460)、配置在基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的背面侧的浮板(472)、用于向将浮板(472)远离基板(Wf)的背面的方向进行施压的浮动机构(490)、以及用于通过抵抗浮动机构(490)对基板(Wf)的作用力来将浮板(472)按压于基板(Wf)的背面的按压机构(480)。
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公开(公告)号：CN117897803A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280057334.5
申请日：2022-12-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , C25D19/00 , C25D7/12
Abstract: 本发明提高基板的搬运速度，并且抑制颗粒附着于基板的被处理面。一种搬运装置，其构成为在升降方向及与升降方向正交的行驶方向搬运基板，包括安装部件(710‑1)，该安装部件(710‑1)固定于第一模块框架(402A)的侧面，该第一模块框架(402A)用于设置具有基板搬入搬出口(404‑1～404‑8)的镀覆模块。安装部件(710‑1)包括多个行驶导轨(714‑1～714‑3)，该多个行驶导轨(714‑1～714‑3)配置于基板搬入搬出口(404‑1～404‑8)的升降方向的两侧，并沿行驶方向延伸。搬运装置包括：升降导轨(716)，其横跨多个行驶导轨(714‑1～714‑3)并沿升降方向延伸，能够沿着多个行驶导轨(714‑1～714‑3)移动；和搬运机器人(718)，其能够沿着升降导轨(716)升降，并具有用于保持基板的手部。
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公开(公告)号：CN114981485B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202080027302.1
申请日：2020-12-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明涉及镀覆装置以及镀覆液的搅拌方法。本发明提供一种无需使用搅棒，就能够搅拌镀覆液的技术。镀覆装置(1000)具备保持件盖(50)，该保持件盖(50)配置于基板保持件(30)，并在基板保持件旋转的情况下与基板保持件一起旋转，保持件盖具有浸渍于镀覆液且位于比基板的被镀覆面靠下方的位置的下表面，在保持件盖的下表面设置有沿相对于保持件盖的旋转方向交叉的方向延伸的至少一个盖槽。
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公开(公告)号：CN114981486B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202080034254.9
申请日：2020-12-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明提供能够实现镀覆装置的小型化的技术。镀覆装置具备喷出模块(50)，喷出模块具备：模块主体(51)，具有将处理液朝向上方喷出的多个喷嘴(52)；和移动机构(60)，具有配置于镀覆槽的旁边并且与模块主体连接的旋转轴(61)，通过旋转轴旋转来使模块主体移动，移动机构使模块主体在第1位置与第2位置之间移动，多个喷嘴配置为在模块主体移动至第2位置的情况下，从多个喷嘴喷出的处理液从基板的下表面的中心部起抵接至外周缘部，模块主体还具备回收部件，上述回收部件构成为对在被从多个喷嘴喷出并与基板的下表面抵接之后落下的处理液进行回收。
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公开(公告)号：CN114916234B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202080039920.8
申请日：2020-12-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明涉及镀覆装置以及镀覆处理方法。本发明提供一种能够抑制因滞留在隔膜的下表面的工艺气体而导致基板的镀覆品质变差的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)，在阳极室(13)配置有阳极(11)；和基板保持件(30)，配置于比阳极室靠上方的位置，并保持作为阴极的基板(Wf)，阳极具有沿上下方向延伸的圆筒形状，镀覆装置还具备：气体存积部(60)，以在与阳极之间具有空间，并且覆盖阳极的上端、外周面以及内周面的方式设置于阳极室，存积从阳极产生的工艺气体；和排出机构(70)，使存积于气体存积部的工艺气体排出到镀覆槽的外部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115244227A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202180003017.0
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
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公开(公告)号：CN115119515A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202180003254.7
申请日：2021-01-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够在镀覆处理时测定基板的膜厚的技术。镀覆装置(1000)具备：镀覆槽(10)；基板保持架(20)；旋转机构(30)；接触部件(50)，配置于基板保持架，并且在基板保持架的周向上配置有多个，与基板的下表面的外周缘接触，在镀覆处理时向基板供电；线圈(60)，构成为通过基于因在镀覆处理时与基板保持架一起旋转的接触部件流动的电流而产生的磁场的电磁感应来产生电流；电流传感器(65)，对在线圈产生的电流进行检测；以及膜厚测定装置(70)，在镀覆处理时，基于电流传感器检测出的电流来对基板的膜厚进行测定。
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公开(公告)号：CN114959845A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202111552453.1
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够抑制镀覆液的液体飞溅的技术。镀覆装置具备：具有内槽(11)的镀覆槽(10)、基板支架、构成为在水平方向往复移动由此搅拌存积于内槽(11)的镀覆液的搅拌桨(50)，搅拌桨(50)具有：第1部位(51)，该第1部位(51)配置为插通于在内槽的外周壁设置的孔，并且将内槽的内部与内槽的外部跨接，并构成为搅拌存积于内槽的镀覆液；第2部位(53)，该第2部位(53)配置于内槽的外部，并且配置为比第1部位靠上方；以及连接部位(52)，该连接部位(52)配置于内槽的外部并将第1部位与第2部位连接。
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公开(公告)号：CN114929946A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080027461.1
申请日：2020-12-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明实现基板保持的可靠性较高的基板支架。镀覆模块包含用于收容镀覆液的镀覆槽、用于以被镀覆面朝向下方的状态保持基板的基板支架(440)、以及用于使基板支架(440)升降的升降机构。基板支架(440)包含用于支承基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的外周部的支承机构(460)、配置在基板(Wf)的被镀覆面(Wf－a)的背面侧的浮板(472)、用于向将浮板(472)远离基板(Wf)的背面的方向进行施压的浮动机构(490)、以及用于通过抵抗浮动机构(490)对基板(Wf)的作用力来将浮板(472)按压于基板(Wf)的背面的按压机构(480)。
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公开(公告)号：CN111349960A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201911293312.5
申请日：2019-12-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种通过将液体从基板保持件的密封件除去，从而能够防止液体与电触点的接触的方法。在本方法中，在使基板保持件(24)的密封件(48)以及电触点(50)与基板W接触的状态下，使基板W浸渍于镀覆液，在存在镀覆液的情况下，在基板W与阳极(26)之间施加电压对基板W进行镀覆，将被镀覆的基板W从镀覆液中拉起，使密封件(48)与被镀覆的基板W分离，在被镀覆的基板W与密封件(48)之间的间隙G1形成从基板保持件(24)的内部朝向外部的气流。
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