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公开(公告)号:CN103399439A
公开(公告)日:2013-11-20
申请号:CN201310320358.8
申请日:2013-07-26
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1362 , G02F1/1368 , G02F1/133
CPC分类号: G02F1/13306 , G02F1/13439 , G02F1/136209 , G02F1/136213 , G02F1/136286 , G02F1/1368 , G02F2001/136222 , G09G3/36 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H04N13/31 , H04N13/356 , H04N13/398
摘要: 本发明公开了一种阵列基板及液晶显示面板,其中,所述阵列基板中,每个像素单元第一像素电极、第二像素电极以及第三像素电极,并且每个像素单元包括第一控制电路和第二控制电路,第一控制电路作用于第一像素电极,以使得第一像素电极在3D显示模式下处于显示对应黑画面的图像的状态,第二控制电路作用于第二像素电极和第三像素电极,以改变第二像素电极和第三像素电极之间的电压差。通过上述方式,本发明能够减小大视角下的颜色差异,提高2D显示模式下的开口,降低3D双眼信号串扰,同时能减少数据驱动器的数量,有利于降低成本。
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公开(公告)号:CN103278974A
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN201310198557.6
申请日:2013-05-24
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1343 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L27/124 , G02F1/134336
摘要: 本发明公开一种像素单元和阵列基板。像素单元包括扫描线、数据线、焊盘、绝缘层和若干条状电极。扫描线沿第一延伸方向延伸,数据线沿第二延伸方向延伸,第一延伸方向与第二延伸方向相交。焊盘形成于扫描线和数据线相交处,且与扫描线和数据线电性连接。绝缘层覆盖扫描线和数据线,绝缘层设有过孔。若干条状电极相互平行且间隔设置,条状电极配置于绝缘层上并沿第三延伸方向延伸,第三延伸方向与第一延伸方向形成预定角度,若干条状电极通过过孔与焊盘电性连接。焊盘和条状电极均由透明导电材质制成,焊盘的形状为多边形,且焊盘的至少一边与第三延伸方向平行。实施本发明能够降低条状电极的电场受到的影响,有效抑制焊盘周围的“暗纹”现象。
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公开(公告)号:CN103268043A
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN201310198550.4
申请日:2013-05-24
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1343 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: G02F1/13306 , G02B27/22 , G02F1/1343 , G02F1/134336 , G02F1/1362 , G02F1/13624 , G02F1/1368 , G02F2001/134318 , G02F2001/134345 , G09G3/003 , G09G3/3648 , G09G3/3659 , G09G2300/0426 , G09G2300/0465 , G09G2320/0209 , H01L27/124
摘要: 本发明公开了一种阵列基板及液晶显示装置,所述阵列基板中,每个像素单元包括第一至第三像素电极和第一至第四开关元件,每个像素单元对应一条扫描线、一条第一数据线以及一条第二数据线,对应本像素单元的扫描线用于控制第一至第四开关元件的导通和断开,对应本像素单元的第一数据线用于通过第一开关元件对第一像素电极输入数据信号,对应本像素单元的第二数据线用于分别通过第二开关元件和第三开关元件对第二像素电极和第三像素电极输入数据信号,第四开关元件的第一端与第二或第三像素电极连接,第四开关元件的第二端与公共电极连接。通过上述方式,本发明能够提高开口率,减小大视角下的颜色差异,降低3D双眼信号串扰,同时能够减少扫描驱动器的使用量,有利于降低成本。
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公开(公告)号:CN103227209A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201310176072.7
申请日:2013-05-13
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
发明人: 薛景峰
IPC分类号: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L21/336
CPC分类号: H01L29/41733
摘要: 本发明公开了一种薄膜晶体管,其包括第一漏极、第二漏极、第一源极以及第二源极,第一漏极与第一源极定义一第一U形沟道,第一U形沟道的开口朝第一方向设置,第二漏极和第二源极定义一第二U形沟道,第二U形沟道的开口朝不同于第一方向的第二方向设置,第二U形沟道的底部宽度大于第一U形沟道的底部宽度。本发明还公开了一种具有该薄膜晶体管的阵列基板和该阵列基板的制造方法。通过上述方式,本发明能够避免因薄膜晶体管U形沟道底部残留清洗液所导致的源极与漏极短路。
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公开(公告)号:CN102707506A
公开(公告)日:2012-10-03
申请号:CN201210176524.7
申请日:2012-05-31
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1339
CPC分类号: G02F1/1339
摘要: 本发明公开了一种液晶显示面板的密封方法,其包括在所述液晶显示面板中的第一基板上涂布密封框胶,其中,在涂布过程中,靠近涂布终点时偏向所述第一基板的内侧涂布所述密封框胶,以使所述涂布终点与涂布起点重合时,重复涂布的所述密封框胶偏向于所述第一基板的内侧。通过上述方式,本发明能够有效地减小所述液晶显示面板的边框,符合目前液晶显示面板窄框化的发展趋势。
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公开(公告)号:CN102402138A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201110369499.X
申请日:2011-11-18
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G03F7/42
CPC分类号: G03F7/42
摘要: 本发明公开一种完成小线距导线制作方法。所述导线制作方法是先于导体层上涂布光阻,经过曝光显影后,进一步通过灰化处理来完全移除光阻对应曝光区域的部份,再进行导体层的蚀刻步骤,以形成所需导线。本发明所提供的方法可在有限曝光精度的曝光显影设备下,于基板上制作出符合微小线距需求的导线图案。
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公开(公告)号:CN102280408A
公开(公告)日:2011-12-14
申请号:CN201110176756.8
申请日:2011-06-28
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77
CPC分类号: H01L27/1288 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/32139
摘要: 本发明提供一种薄膜晶体管矩阵基板及显示面板的制造方法。此制造方法包括如下步骤:依序形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、欧姆接触层、电极层及光阻层于所述透明基材上;利用多段式调整光掩膜来图案化光阻层;形成源电极及漏电极于沟道的相对两侧;加热光阻层;蚀刻所述半导体层;移除所述光阻层;形成保护层于所述沟道、所述源电极及所述漏电极上;以及形成像素电极层于所述保护层上,本发明可减少制程的光掩膜数,且仅需对金属进行一次湿蚀刻。
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公开(公告)号:CN102254861A
公开(公告)日:2011-11-23
申请号:CN201110229711.2
申请日:2011-08-11
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L29/66765 , G02F1/1368 , G02F2001/136231
摘要: 本发明提供一种薄膜晶体管矩阵基板及显示面板的制造方法。此制造方法包括如下步骤:依序形成栅极、栅极绝缘层、半导体层、欧姆接触层、电极层及第一光阻层于所述透明基材上;图案化所述第一光阻层;蚀刻所述欧姆接触层及所述电极层;涂布第二光阻层于所述图案化第一光阻层上,以及沟道内;移除所述图案化第一光阻层上的所述第二光阻层,并保留所述沟道内的所述第二光阻层;蚀刻所述半导体层;移除所述图案化第一光阻层及所述第二光阻层;形成保护层于所述沟道、所述源电极及所述漏电极上;以及形成像素电极层于所述保护层上,本发明可减少制程的光掩膜数,且仅需对金属进行一次湿蚀刻。
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公开(公告)号:CN104517896B
公开(公告)日:2017-09-15
申请号:CN201410768331.X
申请日:2014-12-12
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: H01L21/77
CPC分类号: G03F7/70058 , G02F1/1368 , G02F2202/104 , H01L21/0274 , H01L21/223 , H01L21/2652 , H01L21/266 , H01L21/67011 , H01L27/1222 , H01L27/127 , H01L27/1285 , H01L27/1288 , H01L29/66492 , H01L29/66598 , H01L29/66757 , H01L29/786 , H01L29/78621 , H01L29/78675
摘要: 本发明公开了一种阵列基板的掺杂方法及制造设备,其方法包括:采用半调掩膜在基板的栅极绝缘层上形成光阻图案层,其中,基板上设有多晶硅图案层,栅极绝缘层覆盖多晶硅图案层,光阻图案层对应多晶硅图案层的待重掺杂区域形成镂空部,对应待轻掺杂区域形成第一光阻部,对应不掺杂区域形成第二光阻部,并且,第一光阻部比第二光阻部薄;对多晶硅图案层进行一次掺杂,以一次形成该多晶硅图案层的重掺杂区域和轻掺杂区域。通过上述方式,本发明能够通过一次掺杂形成多晶硅图案层的重掺杂区域和轻掺杂区域,减少LTPS阵列基板的生产工艺。
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公开(公告)号:CN102890363B
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201210377417.0
申请日:2012-10-08
申请人: 深圳市华星光电技术有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02B27/26
摘要: 本发明公开了一种液晶显示设备,其包含:至少一扫描线;至少一数据线,与所述扫描线相互垂直;一第一像素,包含一第一主像素与一第一次像素,所述第一主像素与所述第一次像素沿着所述扫描线的延伸方向排列;一第二像素,邻近于所述第一像素,所述第二像素包含一第二主像素与一第二次像素,所述第二主像素与所述第二次像素沿着所述扫描线的延伸方向排列;以及一黑色阵列层,覆盖于所述第一像素与所述第二像素之上,其中所述黑色阵列层覆盖至所述第一主像素、所述第一次像素、所述第二主像素、以及所述第二次像素的一部分;其中第一像素与所述第二像素沿着所述数据线的方向排列。
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