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公开(公告)号：CN102628804A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210020423.0
申请日：2012-01-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供-种透射率测定装置和透射率测定方法，能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定。透射率测定装置由以下部件构成：光源装置，其射出被检光；第-光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。
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公开(公告)号：CN102374977A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110217088.9
申请日：2011-07-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种透射率测定装置、光掩模的透射率检查装置、透射率检查方法、光掩模制造方法、图案转印方法、光掩模产品，该透射率测定装置能够正确测定细微图案(例如形成于透明基板上的细微的半透光膜图案)的膜透射率。作为解决手段，在测定形成于透明基板上的半透光膜的细微图案等的膜透射率时，将测定波长的光会聚成最小点径(光束腰)并使其透射过作为测定对象物的半透光膜，然后将该透射光全部取入积分球，通过光检测器进行检测。
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公开(公告)号：CN101373323B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200810130876.2
申请日：2008-08-21
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有多个遮光部、多个透光部和多个半透光部(灰色调部)光掩模(灰色调掩模)，即使在形成多个半透光部的半透光膜中产生膜厚倾斜等膜厚的不均一之际，多个半透光部的曝光光的透过量也不随着光掩模上的位置而受所述不均一影响，能良好控制在使用该灰色调掩模形成的抗蚀图中的抗蚀剂膜厚。在透明衬底1上形成遮光膜(6)和半透光膜(5)，对遮光膜(6)和半透光膜(5)分别进行图案化，形成多个遮光部(2)、多个透光部(3)和曝光光一部分透过的多个半透光部(4)。半透光膜(5)随着膜面的位置而曝光光的透过率不同，按照在曝光条件下多个半透光部(4)的有效透过率变为大致均一的方式进行所述图案化。
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公开(公告)号：CN102033420A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010295533.9
申请日：2010-09-27
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
IPC: G03F1/14 , G03F7/00 , G02F1/1343
Abstract: 本发明涉及光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法。一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使抗蚀剂膜成为在所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，利用半透光部设置形成在透明基板上的线与间隙图案的线图案，利用透光部设置间隙图案。
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公开(公告)号：CN101713919A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910175722.X
申请日：2009-09-29
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
Abstract: 本发明提供多级灰度光掩模及其制造方法，所述多级灰度光掩模具有转印图案，该转印图案带有透光区域、遮光区域以及半透光区域。所述转印图案中的半透光区域具有第1半透光部(具有第1有效透光率)和第2半透光部(具有不同于所述第1有效透光率的第2有效透光率)。所述转印图案的所述第1有效透光率和第2有效透光率被设定成：使用所述光掩模对被转印体上的抗蚀剂膜进行曝光而转印所述转印图案后，对所述抗蚀剂膜显影，由此形成的抗蚀剂图案上对应所述第1半透光部的部分和所述第2半透光部的部分具有实质相同的抗蚀剂残膜值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101526733A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200910004519.6
申请日：2009-03-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/336
Abstract: 本发明涉及多色调光掩模和使用该多色调光掩模的图案转印方法。多色调光掩模通过设置在透明基板(21)上的、遮蔽曝光光的遮光膜(23)和使所述曝光光的一部分透过的半透膜(22)而具有拥有透光区域、遮光区域以及半透光区域的转印图案。所述半透光区域针对所述曝光光的有效透过率的范围为2.0％以下。
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公开(公告)号：CN101446753A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200810176394.0
申请日：2008-11-25
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 吉田光一郎
Abstract: 本发明提供一种光掩模及其检查装置、方法、以及制造方法、图案转写方法。对被检测体即接近式曝光用光掩模3，将至少包含在使用光掩模3的接近式曝光中使用的波长的光束的照明光通过数值孔径可变的照明光学系统2作为大致平行光照射，对光掩模3作为照明光照射，透过光掩模3的光束入射到物镜系统4，成像，经过物镜系统4的光束由摄像部件5接收。照明光学系统2的数值孔径能在进行接近式曝光的曝光机的来自光源的照明光的平行度调整所必要的范围中设定，物镜系统4将前侧焦面能从光掩模3的图案面只移动与曝光机的接近间隔对应的距离。
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公开(公告)号：CN101382729A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810134032.5
申请日：2008-07-22
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模的制造方法，具有：利用再现仿真了曝光条件的曝光条件的曝光单元，在形成有规定图案的测试掩模上进行测试曝光，通过摄像单元取得该测试掩模的透过光图案，并根据所取得的透过光图案得到透过光图案数据的工序；和根据透过光图案数据在曝光条件下取得有效透过率的工序；根据该有效透过率对该区域的形状、该区域上所形成的膜的材料或膜厚进行确定。
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公开(公告)号：CN101201537A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200710196456.X
申请日：2007-12-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 在本发明的灰色调掩模的检查方法中，经由照明光学系统(2)向灰色调掩模(3)照射从光源(1)发出的规定波长的光束，经由物镜系统(4)，由摄像部件(5)摄像经过灰色调掩模(3)的光束，求出摄像图像数据，根据该摄像图像数据，取得灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。
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公开(公告)号：CN101196681A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710196458.9
申请日：2007-12-05
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/00 , G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 在本发明的光掩膜的检查装置中，由光掩膜保持部(3a)保持光掩膜(3)，经照明光学系统(2)向光掩膜(3)照射来自光源(1)的规定波长的光束，经物镜系统(4)，由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。使照明光学系统(2)、物镜系统(4)和摄像元件(5)的光轴一致，沿光轴方向彼此独立移动操作物镜系统(4)和摄像元件(5)，摄像光掩膜(3)的像。
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