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公开(公告)号:CN215600363U
公开(公告)日:2022-01-21
申请号:CN202121460802.2
申请日:2021-06-28
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 京东方晶芯科技有限公司
IPC分类号: H01L25/075 , H01L23/14 , H01L21/56 , G09F9/33
摘要: 本申请实施例提供了一种发光基板和显示装置。所述发光基板具体包括:叠层设置的柔性基板、多个发光二极管芯片以及封胶层;其中,所述多个发光二极管芯片中包括至少一个目标发光二极管芯片;所述柔性基板与所述目标发光二极管芯片对应的位置设有第一微结构。本申请实施例中,所述第一微结构可以调节所述目标发光二极管的高度,避免在大视角下出现色偏的问题,从而,使得所述发光基板的发光效果较好。
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公开(公告)号:CN209515058U
公开(公告)日:2019-10-18
申请号:CN201920426504.8
申请日:2019-03-29
申请人: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种面光源背光灯板、背光模组和显示装置。面光源背光灯板包括:基板;多个发光单元,设置在所述基板的正面;和抗变色的反光层,设置在所述基板的正面、并处于相邻所述发光单元之间,用于朝向所述基板的正侧反射光线。该背光灯板,多个发光单元设置在基板的正面,耐热的反光层设置在基板的正面、并处于相邻发光单元之间,用于朝向基板的正侧反射光线,反光层能够承受发光单元发光时产生的热量,也可承受发光单元发出的蓝光的照射,不会在蓝光持续照射及受热时变色,确保反光层对光的反射率保持较稳定。
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公开(公告)号:CN216054697U
公开(公告)日:2022-03-15
申请号:CN202121080146.3
申请日:2021-05-19
申请人: 京东方晶芯科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L25/075 , H01L23/13 , G09F9/33
摘要: 一种发光基板,包括:衬底基板、设置在衬底基板上的挡墙以及多个发光二极管。挡墙在衬底基板上隔离出多个分区,至少一个分区内设置有至少一个发光二极管。
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公开(公告)号:CN209525868U
公开(公告)日:2019-10-22
申请号:CN201920013376.4
申请日:2019-01-04
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本公开提供了一种显示装置,包括:相对设置的LED显示基板和驱动基板;所述LED显示基板包括:玻璃基板、多个LED芯片和多条第一信号走线,所述LED芯片和所述第一信号走线均以所述玻璃基板为衬底设置于所述玻璃基板背向所驱动基板的一侧;对于任一所述LED芯片,该LED芯片的第一极和第二极分别连接不同的两条所述第一信号走线;所述驱动基板包括:PCB板和驱动控制器件,所述驱动控制器件封装于所述PCB板背向所述玻璃基板的一侧,所述驱动控制器件与各所述第一信号走线电连接,用于向各所述第一信号走线提供相应的驱动信号。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN216351662U
公开(公告)日:2022-04-19
申请号:CN202121154395.2
申请日:2021-05-26
申请人: 京东方晶芯科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/13357
摘要: 本实用新型涉及一种背光模组和显示装置。所述背光模组,包括:至少两个相邻设置的灯板;灯板包括基板、发光元件与挡墙结构,发光元件与挡墙结构分别位于基板上,且位于基板的同一侧;相邻的两个灯板的基板之间设置有缝隙;调节件,至少部分设置于缝隙中;调节件的材料特性与挡墙结构的材料特性基本相同。根据本实用新型的实施例,可以有利于减弱或消除拼缝暗影,提升显示效果。
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公开(公告)号:CN211879404U
公开(公告)日:2020-11-06
申请号:CN202020428435.7
申请日:2020-03-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要: 本公开实施例公开了一种显示基板及显示装置,涉及显示技术领域,用于在提高显示基板的对比度的同时,降低显示基板的功耗,并提高显示基板的表面一致性。该显示基板包括:第一衬底、多个发光器件、光线调节层以及第二衬底。所述多个发光器件设置在所述第一衬底的一侧,所述多个发光器件相互间隔设置。所述光线调节层位于所述多个发光器件之间的间隙内、以及所述多个发光器件远离所述衬底的一侧表面上,以使至少一个发光器件被所述光线调节层包围。所述光线调节层的材料包括吸光材料,被配置为对射向至所述光线调节层的至少一部分光线进行吸收。所述第二衬底覆盖所述光线调节层。本公开提供的显示基板及显示装置用于进行灰阶显示。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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