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公开(公告)号：CN212230389U
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN202021304384.3
申请日：2020-07-06
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/244
Abstract: 本实用新型公开了一种显微镜，包括：样品室和设置于所述样品室内的承载台、联动支撑机构、样品台、粒子光学镜筒，粒子光学镜筒设置于真空样品室内，联动支撑机构控制粒子光学镜筒移动，对样品室内的待测样品不同区域的观察。本实用新型提供的显微镜可直接观察大体积，大质量的待测样品。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208256614U
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201820234897.8
申请日：2018-02-09
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/28 , G01N23/225
Abstract: 本实用新型公开了一种扫描电子显微镜物镜系统，包括：磁透镜、偏转装置、偏转控制电极、待测样品以及探测装置；其中，所述磁透镜的极靴方向朝向所述待测样品；所述偏转装置，位于所述磁透镜内部，包括至少一个子偏转器；所述偏转控制电极，位于所述探测装置与所述待测样品之间，用于改变作用于所述待测样品上的初始电子束的方向，以及改变所述初始电子束作用于所述待测样品产生的信号电子的方向；所述探测装置，包括用于接收所述信号电子中的背散射电子的第一子探测器，和用于接收所述信号电子中的二次电子的第二子探测器。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206893588U
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201720738443.X
申请日：2017-06-22
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
Abstract: 本实用新型实施例提供了一种观察非导电或导电不均匀样品的SEM，所述SEM包括：由产生电子的阴极和加速所述电子的阳极构成的电子源，以及，用于控制所述电子源所发出电子束的束流大小和电子束前进方向的电子光学镜筒；其中，所述阳极位于所述阴极下方；所述电子光学镜筒位于所述电子源下方。本实用新型实施例可有效解决扫描电子显微镜观察非导电或导电不均匀样品时图像亮度、对比度不均匀问题，操作简单，不会对样品造成伤害。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206480587U
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201720192828.0
申请日：2017-03-01
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
Abstract: 本文提供了一种全自动化的扫描电子显微镜，所述扫描电子显微镜包括：由第一光学显微镜和平移台构成的光学导航系统，以及由电子源和电子光学镜筒构成的扫描电子显微镜装置，该光学导航系统还包括：位于所述第一光学显微镜下方且与所述平移台相连的、容纳待测样品进行光学探测的第一腔室；该扫描电子显微镜装置还包括：位于所述电子光学镜筒下方的、容纳待测样品进行扫描电子显微镜探测的第二腔室；所述第一腔室与第二腔室之间通过真空阀门水平连通或隔绝；所述第一腔室内设置有能将待测样品从第一腔室通过所述真空阀门移动到第二腔室的自动传送装置。本申请操作简单，可达到缩短样品探测时间，提高探测效率和精确度的目的。
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公开(公告)号：CN206451681U
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201621375870.8
申请日：2016-12-14
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/24
Abstract: 本实用新型公开了一种均匀恒定热损耗磁透镜，所述均匀恒定热损耗磁透镜包括：导磁壳体、激励线圈和电源控制系统；其中，所述导磁壳体，在所述激励线圈的外部包围所述激励线圈；所述激励线圈由绞合线缠绕而形成；所述电源控制系统，用于对所述激励线圈供电，控制所述激励线圈的电流方向及电流大小。通过本实用新型实施例，能够在改变所述均匀恒定热损耗磁透镜聚焦特性的同时，保持所述均匀恒定热损耗磁透镜具有均匀恒定的热损耗功率。
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公开(公告)号：CN206330912U
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201621260039.8
申请日：2016-11-23
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: G01N23/22
Abstract: 本实用新型公开了一种真空气氛处理装置，所述装置的顶部与外部的电子束产生装置连接，其特征在于，所述装置为轴对称结构，所述装置从中心轴向外依次包括：中心通道、第一抽气通道、供气腔室和至少一个第二抽气腔室；其中，所述中心通道的出口处设置有压差光阑，用于维持中心通道与外界环境的压强差，并使所述电子束产生装置产生的电子束通过所述中心通道；所述第一抽气通道与所述中心通道连通，用于对所述中心通道抽气；所述供气腔室顶端连接有供气通道，用于对所述装置与待测样品之间的区域供气；所述第二抽气腔室的顶端连接有第二抽气通道，用于对所述装置与待测样品之间的区域抽气。本实用新型还公开了一种样品观测系统。
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公开(公告)号：CN206330894U
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201621115200.2
申请日：2016-10-11
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: G01N21/84 , G01N21/64 , G01N21/65 , G01N23/225
Abstract: 本实用新型公开了一种带电粒子束系统，所述系统包括：粒子源、镜筒和设置有第一真空窗的样品室；其中，所述粒子源，用于产生带电粒子束，所述带电粒子束用于照射所述样品室放置的待测样品；所述镜筒包括：用于对所述带电粒子束进行偏转的偏转装置和用于对所述带电粒子束进行聚焦的聚焦装置；所述带电粒子束系统能够兼容外部的多种光学系统对样品进行同步探测或快速切换探测。本实用新型还公开了一种光电联合探测系统。
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公开(公告)号：CN208420756U
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201821196445.1
申请日：2018-07-26
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
IPC: G01N23/046 , G01N23/2251
Abstract: 本实用新型公开了一种成像系统，包括：显微电子计算机断层扫描(micro-CT)子系统、样品加工子系统和扫描电子显微镜(SEM)和处理器；所述micro-CT子系统包括：X射线源和X射线探测器，用于获取样品的三维图像；所述样品加工子系统包括：聚焦离子束子系统和机械切削装置；所述聚焦离子束子系统以第一加工方式对所述样品进行处理，所述机械切削装置以第二加工方式对所述样品进行处理，得到目标区域的目标截面；所述SEM，位于所述样品的上方，用于获取所述目标截面的二维图像；所述处理器，用于对所述二维图像进行三维重构，得到所述样品的三维成像。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206480588U
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201720209843.1
申请日：2017-03-06
Applicant: 聚束科技(北京)有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种扫描聚焦系统，其特征在于，所述系统包括：电子源、电子加速结构、聚焦结构、偏转结构、电子减速结构和高压控制结构；其中，所述电子源，用于产生电子束；所述电子加速结构，用于对所述电子源产生的电子束进行加速；所述聚焦结构，用于对加速后的电子束进行聚焦；所述偏转结构，用于对聚焦后的电子束进行偏转扫描；所述电子减速结构，用于产生一减速场，对经偏转扫描后的电子束进行减速；所述高压控制结构，用于控制所述电子源、所述电子加速结构和所述电子减速结构的电压。
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