一种制备多功能膜的方法及光学视窗

    公开(公告)号:CN117778974A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311768944.9

    申请日:2023-12-20

    摘要: 本申请提供了一种制备多功能膜的方法及光学视窗,通过提升膜层的致密性,提升膜层的耐盐雾腐蚀性能,从而有效延长膜层的使用寿命以及提升用户体验。该方法包括:使第一目标靶材在不低于1.2Pa的第一工作气压中被溅射,以在基材的待沉积表面沉积,得到由氧化物颗粒构成的氧化膜;所述第一目标靶材包括二氧化钛靶或氧化锌靶;在低于1.0Pa的第二工作气压中,使第二目标靶材被溅射,以在所述氧化物颗粒的表面形成包覆层,得到所述多功能膜;所述第二目标靶材包括二氧化硅靶或氧化铝靶,其中,所述第一目标靶材中所述二氧化钛靶或氧化锌靶的射频电源功率与所述第二目标靶材的射频电源功率之差大于或等于40W。

    一种AR眼镜镜片的加工方法
    55.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117660894A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311680289.1

    申请日:2023-12-08

    摘要: 本发明涉及一种AR眼镜镜片的加工方法,属于玻璃表面处理技术领域。为了解决现有的色差值和PV值不佳的问题,提供一种AR眼镜镜片的加工方法,包括将待镀AR眼镜镜片放入真空镀膜室内,先进行五氧化三钛镀膜,使在AR眼镜镜片的表面形成五氧化三钛镀膜层一;再进行二氧化硅镀膜,使在五氧化三钛镀膜层一的表面形成二氧化硅镀膜层一;重复上述步骤A的五氧化三钛镀膜和步骤B的二氧化硅镀膜,依次形成五氧化三钛镀膜层二、二氧化硅镀膜层二、五氧化三钛镀膜层三和二氧化硅镀膜层三,镀膜结束,得到镀膜后的AR眼镜镜片。能够使形成的镀膜层整体具有低色差值的要求,具有呈紫色的颜色效果,能更好的适用AR眼镜镜片。

    防反射薄膜的制造方法
    57.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117626193A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311108590.5

    申请日:2023-08-30

    摘要: 提供一种防反射薄膜的制造方法,其能够得到在抑制制造时的薄膜基材的变形的同时、高温耐久性优异的防反射薄膜。防反射薄膜的制造方法具备工序Sa和工序Sb。在工序Sa中,使用稀有气体和氧气对薄膜基材(13)的一个主面(12a)进行轰击处理。在工序Sb中,在经过轰击处理的主面(12a)侧上成膜防反射层(19)。在工序Sb中成膜的防反射层(19)由多层膜形成,该多层膜包含氧化铌薄膜、以及与氧化铌薄膜折射率不同的无机薄膜。

    一种半导体晶体的镀色方法
    58.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117604469A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311530704.5

    申请日:2023-11-16

    申请人: 山东大学

    摘要: 本发明属于半导体表面着色领域,涉及一种半导体晶体的镀色方法。选用纯度为99.8%的圆形钛靶,高纯Ar作为溅射放电气体、高纯N2或O2作为活性反应气体,用磁控溅射的方法,可以在半导体晶体上沉积出颜色丰富的TiN薄膜和TiO2/SiO2/TiO2复合介质膜,包括银白色、紫色、蓝色、绿色、黄色、橙色、紫红色及其中间色等;换色生产灵活性较强,镀层也坚硬致密,耐磨、耐腐蚀,与其他方法呈现的色彩相比,这类方法产生的颜色更加稳定持久鲜艳明亮,难以破坏。

    红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺

    公开(公告)号:CN117604453A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311681079.4

    申请日:2023-12-08

    摘要: 本发明公开了红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,属于石英基板镀膜技术领域。本发明的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,包括以下步骤:步骤一:对石英基板进行清洗,去除表面的污物,准备真空镀膜设备,将镀膜设备内抽真空,使真空度达到8×10‑4~10×10‑4Pa。本发明解决了现有石英基板红外线反射率低的问题,本发明提出的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,采用硅、氮气、银和铝为镀膜材料,对红外线反射率高达90%以上,同时利用硅的熔点低的特点,将其与氮气反应,生成氮化硅,氮化硅将银和铝粒子融合,共同形成氮化硅层,保证反射率的同时,提高了整个膜层的强度和化学稳定性。

    基于蓝宝石基底的紫外增透玻璃及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114196927B

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202111417265.8

    申请日:2021-11-25

    摘要: 本发明提供了一种基于蓝宝石基底的紫外增透玻璃及其制备方法,所述制备方法包括:应用磁控溅射工艺在蓝宝石基底的上表面和下表面分别溅射沉积二氧化硅增透膜,获得所述紫外增透玻璃;其中,所述磁控溅射工艺中,以二氧化硅为靶材并且在溅射沉积的过程中向溅射腔室内通入氧气。本发明的技术方案,在磁控溅射二氧化硅增透膜的工艺中,以二氧化硅为靶材并且在溅射沉积的过程中通入氧气,利用高温氧化方法,抑制二氧化硅薄膜生长过程中化学断键的行程,降低二氧化硅膜层深能级缺陷,提高二氧化硅膜层的深紫外透过率,特别是对于200nm~280nm波段的紫外光的透过率。