公开(公告)号：CN109817503A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201811351479.8

申请日：2018-11-14

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Inventor： 佐佐木玄

IPC: H01J37/317

Abstract: 本发明根据需要提高离子注入装置的质量分辨率。质量分析装置(22)具备：质量分析磁铁(22a)，对通过引出电极从离子源引出的离子束施加磁场而使其偏转；质谱分析狭缝(22b)，设置于质量分析磁铁(22a)的下游，且使偏转的离子束中所希望的离子种的离子束选择性地通过；及透镜装置(22c)，设置于质量分析磁铁(22a)与质谱分析狭缝(22b)之间，且对朝向质谱分析狭缝(22b)的离子束施加磁场及电场中的至少一种来调整离子束的收敛及发散。质量分析装置(22)在隔着质谱分析狭缝(22b)的上游侧至下游侧为止的规定的调整范围内，利用透镜装置(22c)来改变通过质谱分析狭缝(22b)的离子束的收敛位置，由此调整质量分辨率。

公开(公告)号：CN305371835S

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201830563661.4

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的抑制电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置的抑制电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。

公开(公告)号：CN305182412S

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201830563636.6

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的接地电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305188088S

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201830563632.8

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的接地电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN304829898S

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201830028189.4

申请日：2018-01-22

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的前开口部件。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于供离子注入装置的离子束向外部引出。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305371834S

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201830563637.0

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的接地电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。

公开(公告)号：CN305125642S

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201830563621.X

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的起弧室。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品作为离子注入装置的起弧室使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305120307S

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201830563622.4

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的起弧室。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品作为离子注入装置的起弧室使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。

公开(公告)号：CN305419270S

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201830563644.0

申请日：2018-10-10

Applicant: 住友重机械离子科技株式会社

Designer： 石田勇二 ,  川口宏 ,  高桥裕二 ,  佐藤正辉

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：离子注入装置的抑制电极。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为离子注入装置中的抑制电极使用。
3．本外观设计产品的设计要点：各视图所示的形状及图案。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．指定基本设计：设计1。