单粒子闩锁维持电流测试方法、装置及系统

    公开(公告)号:CN110045204A

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201910341865.7

    申请日:2019-04-26

    Abstract: 本申请涉及一种单粒子闩锁维持电流测试方法、装置及系统。所述方法包括:当监测到处于当前离子束辐照中的待测器件出现单粒子闩锁效应时,采集待测器件的电流,并将采集到的电流确认为效应电流;以效应电流作为待测器件的输入电流的初始值,逐次减小输入电流,直至监测到处于当前离子束辐照中的待测器件、退出单粒子闩锁效应时,将当前的输入电流确认为待测器件对应的退出电流;获取处于下一种离子束辐照中的待测器件对应的退出电流;将各退出电流中的最小值确认为待测器件的单粒子闩锁维持电流,从而,本申请能够获得待测器件在辐射环境下的单粒子闩锁维持电流,提高了测试单粒子闩锁维持电流的准确度,进而为改进器件抗闩锁设计提供数据支持。

    纳米MOSFET器件的总剂量辐射试验方法、装置和设备

    公开(公告)号:CN111579957B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN202010299625.8

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本申请涉及一种纳米MOSFET器件的总剂量辐射试验方法、装置和设备。其中,纳米MOSFET器件的总剂量辐射试验方法以多个总剂量试验点对同批器件中的多个器件进行总剂量辐射试验,得到各器件的试验数据;对各试验数据进行处理,得到各总剂量试验点的参数标准差和参数均值;根据各总剂量试验点的参数标准差和参数均值,得到各总剂量试验点上的单个器件栅氧化层的缺陷平均个数;根据泊松分布以及各缺陷平均个数,确定同批器件的缺陷分布情况。基于此,可针对存在涨落效应的纳米MOSFET器件进行辐射后离散数据的统计分布分析,确定单个器件栅氧化层中的缺陷平均个数,最终确定同批器件中栅氧化层内部的缺陷分布情况,为同批器件的总剂量辐射评估和考核提供有效数据。

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