一种高精度叠层光栅单元及制备方法

    公开(公告)号:CN111644754A

    公开(公告)日:2020-09-11

    申请号:CN202010442233.2

    申请日:2020-05-22

    摘要: 本发明提供高精度叠层光栅单元及制备方法,解决现有光栅单元的光栅叠层精度较低,难以满足±3μm叠层精度要求的问题。其中光栅单元包括自上而下依次叠放的多个单片光栅,每个单片光栅上均设有2个矩形定位孔,单片光栅的定位孔重叠,矩形定位孔长度方向平行于单片光栅狭缝长度方向;2个矩形定位孔位于狭缝外围区域,并呈轴对称设置,对称轴经过单片光栅中心并与狭缝垂直。制备方法包括步骤:1)采用激光加工工艺对光栅片进行光栅狭缝加工,同时以与光栅狭缝相同加工工艺在光栅片上加工矩形定位孔;2)采用与步骤1)相同的工艺条件加工多个光栅片,获得多个单片光栅;3)以单片光栅的矩形定位孔为机械基准进行光栅叠层,获得光栅单元。

    一种柔性高精度次镜组件调焦机构

    公开(公告)号:CN110531482B

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:CN201910801917.4

    申请日:2019-08-28

    IPC分类号: G02B7/182

    摘要: 本发明公开了一种柔性高精度次镜组件调焦机构,解决了传统调焦方式结构复杂、调焦精度差、调焦过程易出现卡滞,且调焦机构加工和装配复杂的问题。该调焦机构包括:包括底架、固定环、柔性支撑导向机构、被探环板、压电陶瓷致动器、柔性放大机构以及测量反馈传感器;底架、固定环、被探环板、柔性支撑导向机构依次安装,柔性支撑导向机构上安装被调焦次镜组件,压电陶瓷致动器和柔性放大机构为多个,并一一配合组成多个用于提供调焦量的驱动机构;多个驱动机构安装在底架和支撑导向机构之间,测量反馈传感器安装在底架上并用于测量调焦次镜组件的位移量。

    一种多物理场耦合作用下反射镜光学表面误差的获取方法

    公开(公告)号:CN111259588A

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN202010047365.5

    申请日:2020-01-16

    IPC分类号: G06F30/23 G06F30/17

    摘要: 本发明提供了一种多物理场耦合作用下反射镜光学表面误差的获取方法,首先,通过定义矢高参考点以及利用反射镜光学表面中心初始矢高量在加载约束条件的情况下始终保持不变的特性,通过任意离散点变形前矢高量以及任意离散点变形后等效矢高量,从而得到任意离散点变形后在矢高方向真实变形量,通过该真实变形量可得到精准的反射镜光学表面误差,提高了光学表面误差分析计算精度,避免错误或不可信结果的产生。其次在有限元软件中得到修正的光学表面所有离散点坐标值,提高了光学表面误差的获取精度。

    一种径向热力学挠性适应的大口径变方位反射镜组件

    公开(公告)号:CN111123470A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN202010048235.3

    申请日:2020-01-16

    IPC分类号: G02B7/183

    摘要: 本发明公开了一种径向热力学挠性适应的大口径变方位反射镜组件。该组件包括反射镜主体、径向挠性支撑座、镜架以及中心定位轴;反射镜主体背面沿圆周方向均布多个粘接点;径向挠性支撑座上沿圆周方向均匀设置与所述多个粘接点一一对应的用于粘接反射镜主体的多个挠性单元;径向挠性支撑座固定安装于镜架上;中心定位轴一端同轴固定于所述径向挠性支撑座上,另一端同轴插装于反射镜主体的中心孔内,并用RTV胶粘接。本发明采用基于多点挠性支撑为主支撑,辅以中轴定位,实现反射镜在不同方位角、不同温度下的重力场、热场耦合条件下的稳定支撑。

    太阳望远镜热分析太阳源模拟方法

    公开(公告)号:CN106770444A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611250243.6

    申请日:2016-12-29

    IPC分类号: G01N25/20

    CPC分类号: G01N25/20

    摘要: 本发明提供了一种可以满足太阳望远镜热分析的模拟太阳源的方法,主要解决了太阳望远镜热分析中的太阳模拟源问题。该太阳望远镜热分析太阳源模拟方法:首先,模拟太阳源目标的实际视场32′,确定模拟太阳源为面光源,根据太阳望远镜的通光口径D和模拟源距入瞳的距离L,计算实际模拟太阳源的直径;其次,确定模拟太阳源的辐射强度:1)将模拟太阳源的辐射面设置成漫射表面,即模拟太阳源均匀地向半球空间各个方向发出辐射强度;2)将漫射表面的光谱设置成太阳光谱;3)计算辐射角系数4)反推出模拟太阳源的辐射强度。通过上面二个步骤,可以确定最终的模拟太阳源,可用于地面太阳望远镜或不同轨道空间太阳望远镜热分析中太阳的模拟。

    面阵相机全自动光阑与快门的集成化装置及方法

    公开(公告)号:CN103048849A

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:CN201210575464.6

    申请日:2012-12-26

    IPC分类号: G03B17/12 G03B9/00 H04N5/232

    摘要: 本发明涉及一种面阵相机全自动光阑与快门的集成化装置及方法,面阵相机全自动光阑与快门的集成化装置包括光学成像组件、可变光阑组件、快门组件、测光组件以及用于测光和可变光阑的全自动控制以及快门开启闭合的全自动控制的控制系统组件;光学成像组件包括光学成像组件前组以及光学成像组件后组;可变光阑组件置于光学成像组件前组和光学成像组件后组之间的孔径光阑处;快门组件置于可变光阑组件和光学成像组件后组之间;测光组件的光轴与光学成像组件的光轴是平行的。本发明解决了背景技术中存在的将全自动光阑及快门在大画幅机载相机中集成困难的技术问题技术问题。

    大孔径全反射式光学合成孔径成像系统

    公开(公告)号:CN102073131B

    公开(公告)日:2012-06-06

    申请号:CN201010602754.6

    申请日:2010-12-23

    IPC分类号: G02B17/06 G02B27/58

    摘要: 本发明提供了一种大孔径全反射式光学合成孔径成像系统,解决了传统单个大口径光学系统加工和制造难度大以及某些简单的合成孔径成像系统实践难以达到期望的系统指标的问题。该系统的子望远镜有两个,每个无焦子望远镜均由沿光入射方向依次设置的RC系统、第一平面反射镜和第一凹面反射镜组成,所述RC系统与第一凹面反射镜共焦,所述第一平面反射镜位于此焦面处;所述光学延迟线在空间上是设置于两个无焦子望远镜之间的第二平面反射镜组;所述光束合成镜由采用孔径离轴方式设置的四个反射镜组成。本发明设计了两个结构相同的小孔径系统,可实现模块化生产和检测,降低了系统加工和制造难度,整个系统的体积和重量也大大降低,大幅降低研制成本。

    适用于动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟器及其方法

    公开(公告)号:CN102147248A

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN201010111516.5

    申请日:2010-02-10

    IPC分类号: G01C11/02

    摘要: 本发明涉及一种适用于动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟器及其方法,其特征在于:该模拟器包括光学镜头、移动分划板组件和光源,移动分划板组件设置于光学镜头和光源之间,光源和光学镜头在同一光轴上。本发明采用十分简单的组合就实现了动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟,结构简单,装配方便;既可以产生动态的无穷远目标用于检测推扫相机,又可以产生静态的无穷远目标用于检测成像相机,应用广泛。

    一种全反射光学系统
    69.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101782680A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200910020932.1

    申请日:2009-01-16

    IPC分类号: G02B17/06

    摘要: 一种全反射光学系统,包括光轴OO′、对称位于光轴OO′上下两侧的主镜和位于主镜反射光线上的次镜,光轴OO′与次镜的中心垂直,主镜面型为凹的抛物面,次镜面型为凸双曲面,还包括位于光轴OO′一侧的第三镜和位于光轴OO′另一侧的第四镜,次镜的出射光线上一次像面的位置设置有折轴镜和视场光阑,折轴镜将出射光线反射至第三镜上,所述光线经第三镜通过Lyot光阑光线入射至第四镜,经第四镜反射后,光线会聚于焦平面,第三镜面型为凹的高次非球面,第四镜面型为凹的椭球面。本发明是像方远心的,并且适合于大口径高分辨率观测应用。

    角锥棱镜回射光斑定位精度检测装置

    公开(公告)号:CN207636023U

    公开(公告)日:2018-07-20

    申请号:CN201721772364.7

    申请日:2017-12-18

    IPC分类号: G01B11/00

    摘要: 为了解决现有角锥棱镜回射光斑定位精度检测装置精度较低、设计难度高的问题,本实用新型提供了一种检测精度高、设计简单的角锥棱镜回射光斑定位精度检测装置。本实用新型首先对光路光轴进行标校以减小系统误差对检测精度的影响,然后通过振动模拟平台模拟不同星上振动情况,采用刷新率高的四象限探测器作为探测元件实现了光斑中心位置误差的高精度测量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利