星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法

    公开(公告)号:CN112213836A

    公开(公告)日:2021-01-12

    申请号:CN202010997272.9

    申请日:2020-09-21

    IPC分类号: G02B7/00 G02B27/62

    摘要: 本发明涉及一种星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法。将待对准的光栅分别安装在前、后光栅阵列平面上,光栅的对准分为两步进行:首先将前后光栅安装在阵列平面上,在近距离下,利用坐标测量仪采集光栅几个特定区域的狭缝图像并将狭缝对准,记录每一个光栅与阵列平面上的基准平台的位置关系;其次,将前、后光栅阵列平面安装在承力框架的两端,对准阵列平面上的基准平台,以此来表征安装在其上的各个光栅的对准;最后,将两步对准产生的误差映射到每个具体位置的光栅,在实现双光栅的远距离对准的同时也标定出了每一组前后光栅的对准精度。

    星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法

    公开(公告)号:CN112213836B

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202010997272.9

    申请日:2020-09-21

    IPC分类号: G02B7/00 G02B27/62

    摘要: 本发明涉及一种星载双光栅调制型成像仪器的光栅阵列的远距离对准方法。将待对准的光栅分别安装在前、后光栅阵列平面上,光栅的对准分为两步进行:首先将前后光栅安装在阵列平面上,在近距离下,利用坐标测量仪采集光栅几个特定区域的狭缝图像并将狭缝对准,记录每一个光栅与阵列平面上的基准平台的位置关系;其次,将前、后光栅阵列平面安装在承力框架的两端,对准阵列平面上的基准平台,以此来表征安装在其上的各个光栅的对准;最后,将两步对准产生的误差映射到每个具体位置的光栅,在实现双光栅的远距离对准的同时也标定出了每一组前后光栅的对准精度。

    CCD立体相机光轴对中心实时调整系统

    公开(公告)号:CN101470899A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200710306502.7

    申请日:2007-12-28

    IPC分类号: G06T7/00 H04N13/00 G01B11/00

    摘要: 本发明涉及一种CCD立体相机光轴对中心实时调整系统。本发明所提供的CCD立体相机光轴对中心实时调整系统,包括平行光管(1)、窗口玻璃(2)、立体相机镜头(3)、CCD(4)和计算机数据采集系统(5),窗口玻璃(2)、立体相机镜头(3)、CCD(4)依次设置在平行光管(1)的光轴上,计算机数据采集系统(5)与CCD(4)相接。本发明为解决现有CCD立体相机存在的高精度光轴对中心实时调整难的技术问题,而提供了一种可实时得到中心偏差值,调整方便的CCD立体相机光轴对中心实时调整系统。

    适用于动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟器及其方法

    公开(公告)号:CN102147248B

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201010111516.5

    申请日:2010-02-10

    IPC分类号: G01C11/02

    摘要: 本发明涉及一种适用于动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟器及其方法,其特征在于:该模拟器包括光学镜头、移动分划板组件和光源,移动分划板组件设置于光学镜头和光源之间,光源和光学镜头在同一光轴上。本发明采用十分简单的组合就实现了动态推扫及静态成像相机的无穷远目标景物模拟,结构简单,装配方便;既可以产生动态的无穷远目标用于检测推扫相机,又可以产生静态的无穷远目标用于检测成像相机,应用广泛。

    一种高精度叠层光栅单元及制备方法

    公开(公告)号:CN111644754B

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN202010442233.2

    申请日:2020-05-22

    IPC分类号: G02B27/30

    摘要: 本发明提供高精度叠层光栅单元及制备方法,解决现有光栅单元的光栅叠层精度较低,难以满足±3μm叠层精度要求的问题。其中光栅单元包括自上而下依次叠放的多个单片光栅,每个单片光栅上均设有2个矩形定位孔,单片光栅的定位孔重叠,矩形定位孔长度方向平行于单片光栅狭缝长度方向;2个矩形定位孔位于狭缝外围区域,并呈轴对称设置,对称轴经过单片光栅中心并与狭缝垂直。制备方法包括步骤:1)采用激光加工工艺对光栅片进行光栅狭缝加工,同时以与光栅狭缝相同加工工艺在光栅片上加工矩形定位孔;2)采用与步骤1)相同的工艺条件加工多个光栅片,获得多个单片光栅;3)以单片光栅的矩形定位孔为机械基准进行光栅叠层,获得光栅单元。

    一种高精度叠层光栅单元及制备方法

    公开(公告)号:CN111644754A

    公开(公告)日:2020-09-11

    申请号:CN202010442233.2

    申请日:2020-05-22

    摘要: 本发明提供高精度叠层光栅单元及制备方法,解决现有光栅单元的光栅叠层精度较低,难以满足±3μm叠层精度要求的问题。其中光栅单元包括自上而下依次叠放的多个单片光栅,每个单片光栅上均设有2个矩形定位孔,单片光栅的定位孔重叠,矩形定位孔长度方向平行于单片光栅狭缝长度方向;2个矩形定位孔位于狭缝外围区域,并呈轴对称设置,对称轴经过单片光栅中心并与狭缝垂直。制备方法包括步骤:1)采用激光加工工艺对光栅片进行光栅狭缝加工,同时以与光栅狭缝相同加工工艺在光栅片上加工矩形定位孔;2)采用与步骤1)相同的工艺条件加工多个光栅片,获得多个单片光栅;3)以单片光栅的矩形定位孔为机械基准进行光栅叠层,获得光栅单元。