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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103193221B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201310088092.9
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
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公开(公告)号：CN103415467A
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201280011482.X
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: B01J6/008 , C01B32/20 , C01P2006/60
Abstract: 在本发明中，通过限制在以下温度范围内对高分子膜实施特殊的热处理，能够抑制在其后的石墨化处理时产生发泡，且即使提高石墨化升温速度也可以获得优质的石墨膜，其中，所述温度范围是指，高分子膜分解初期的从热分解起始温度以上的温度即升温下限值起、至高分子膜的热分解中间温度以下的温度即升温上限值为止的温度范围。
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公开(公告)号：CN103193221A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310088092.9
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及其制造方法，所述石墨膜兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的石墨膜的制造方法的特征在于，是对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行石墨化的石墨膜的制造方法，在所述石墨化中，在石墨化最高温度为2800℃以上、向原料膜的厚度方向施加的压力为5.0g／cm2以上且100g／cm2以下、原料膜的层叠片数为10片以上的条件下进行热处理。
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公开(公告)号：CN101687647A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880022608.7
申请日：2008-05-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C09K5/14 , B32B5/18 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B9/045 , B32B27/065 , B32B27/281 , B32B2307/302 , B32B2307/306 , B32B2307/54 , B32B2307/714 , B32B2457/00 , C01B32/20 , H01L23/373 , H01L23/3737 , H01L2924/0002 , H05K7/20481 , Y10T428/24446 , Y10T428/2918 , Y10T428/30 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。本发明的解决方法是采用下述石墨膜，在该石墨膜的MIT耐弯曲试验中，使用15mm宽的长方形试验片，在折弯夹板的曲率半径R为2mm、左右的折弯角度为135°、折弯速度为90次/分钟、载荷为0.98N的条件下，测得的直到折断为止的往返折弯次数为10000次以上。
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公开(公告)号：CN1826288A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN03827015.3
申请日：2003-09-02
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B2235/656 , C04B2235/96 , C04B2235/9607 , C08G73/1053 , Y10T428/31721
Abstract: 薄膜状石墨的制造方法，其特征在于包括制造双折射为0.12或更大的聚酰亚胺薄膜的工序和在2400℃或更高的温度下对前述聚酰亚胺薄膜进行热处理的工序。
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