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公开(公告)号：CN106189894B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201510396987.8
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN108864974A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810778041.1
申请日：2015-02-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J7/25 , C09J7/40 , C09J133/08 , C09J11/06
Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化并具有优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜。其是依次经过：在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物，进而还含有(D)二官能以上的异氰酸酯化合物、(E)交联促进剂及(F)酮‑烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序；将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂的树脂组合物形成，粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。
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公开(公告)号：CN108659748A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810472273.4
申请日：2015-02-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J133/08 , C09J7/40 , C09J7/25
Abstract: 本发明提供一种具有抗静电性能、在低剥离速度和高剥离速度下粘结力的平衡性优良、并且贮存期长、耐久性和再加工性也优良的粘结剂组合物。所述粘结剂组合物包括：(A)烷基的碳原子数为C4～C18的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一种与作为可共聚单体组的(B)含羟基的可共聚单体的共聚物100重量份；(C)二官能以上的异氰酸酯化合物0.1～10重量份；(D)金属螯合物的交联催化剂0.001～0.5重量份；(E)酮-烯醇互变异构体化合物0.1～200重量份；以及作为(F)抗静电剂的熔点为25～50℃的离子性化合物0.05～5重量份，并且(E)/(D)的重量份比率为70～700。
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公开(公告)号：CN108300343A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201810171056.1
申请日：2014-10-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/10 , C09J7/40 , C09J7/30 , C09J175/04 , C09J11/06 , C08F283/06 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F226/10 , C08G18/73 , C08G18/32 , C08G18/28 , C08G18/62
Abstract: 本发明提供一种具有优良的抗静电性能、在低剥离速度和高剥离速度下粘结力的平衡性优良、并且耐久性和再加工性也优良的粘结剂组合物以及表面保护膜。本发明的粘结剂组合物包括：含有选自(A)烷基的碳原子数为C4～C18的(甲基)丙烯酸酯单体、(B)含羟基的可共聚单体、(C)含羧基的可共聚单体、(D)聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯单体以及(E)不含羟基而含氮的乙烯基单体或者含烷氧基的(甲基)丙烯酸烷基酯单体中的至少一种的共聚物的丙烯酸类聚合物；而且，还含有(F)三官能以上的异氰酸酯化合物、(G)二官能非环式脂肪族异氰酸酯化合物、(H)抗静电剂。
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公开(公告)号：CN107083196A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610886204.9
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D5/20 , C09D5/24 , C09D7/12 , C08J7/04 , G02B1/14 , C08L67/02
CPC classification number: C08J7/047 , C08L2201/04 , C08L2203/16 , C08L2205/02 , C09D5/20 , C09D5/24 , C09D7/65 , C09D183/04 , C09J7/201 , C09J7/22 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2433/00 , C09J2467/005 , C09J2467/006 , C09J2483/005 , G02B1/14 , C08L83/12 , C08K5/435
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106010325A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610090004.2
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J183/04 , C09J11/08 , C09J9/02 , G02B1/14
CPC classification number: C09J7/201 , C09J7/22 , C09J7/38 , C09J9/02 , C09J11/08 , C09J183/04 , C09J2201/602 , C09J2203/318 , C09J2483/00 , C08L83/04
Abstract: 本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜，及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)，且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10)，贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成，抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面，将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN106010324A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610089997.1
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜可对表面具有凹凸的光学用膜使用，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，形成粘结剂层(2)，该粘结剂层(2)含有作为抗静电剂的离子化合物，在粘结剂层(2)上贴合有具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，所述剥离剂层(4)由碱金属盐及有机硅类剥离剂构成，碱金属盐成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN105385370A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510397287.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN103666304B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201310353984.7
申请日：2013-08-14
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供因印刷段差引起的光学畸变少且气泡的残留少、即使施加载荷也难以产生压痕、粘结层难以剥离的图标片及其制造方法。图标片的制造方法至少包括：在基材的一个面或双面形成有硬涂层的硬涂膜的一个面上，通过印刷形成由框和/或图标构成的印刷层的工序；准备在已施加剥离处理的剥离膜的该剥离处理面上形成有粘结剂层的粘结膜的工序；在前述硬涂膜的形成有前述印刷层的面中未施加有前述印刷层的部分的上部以及前述印刷层的上部，涂布具有流动性的光固化型树脂组合物，层叠光固化型树脂层的工序；通过前述粘结剂层将粘结膜贴合于前述光固化型树脂层的工序；以及通过对前述光固化型树脂层进行光照射来使前述光固化型树脂层发生固化的工序。
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公开(公告)号：CN103666304A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310353984.7
申请日：2013-08-14
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供因印刷段差引起的光学畸变少且气泡的残留少、即使施加载荷也难以产生压痕、粘结层难以剥离的图标片及其制造方法。图标片的制造方法至少包括：在基材的一个面或双面形成有硬涂层的硬涂膜的一个面上，通过印刷形成由框和/或图标构成的印刷层的工序；准备在已施加剥离处理的剥离膜的该剥离处理面上形成有粘结剂层的粘结膜的工序；在前述硬涂膜的形成有前述印刷层的面中未施加有前述印刷层的部分的上部以及前述印刷层的上部，涂布具有流动性的光固化型树脂组合物，层叠光固化型树脂层的工序；通过前述粘结剂层将粘结膜贴合于前述光固化型树脂层的工序；以及通过对前述光固化型树脂层进行光照射来使前述光固化型树脂层发生固化的工序。
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