-
公开(公告)号：CN106675427B
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN201610555189.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/25 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J7/04 , C09D5/20
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性树脂构成的基材膜(1)的单面上，设有含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)和剥离剂的剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一面上，设有粘着剂层(4)，由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
-
公开(公告)号：CN108659748B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201810472273.4
申请日：2015-02-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J133/08 , C09J7/40 , C09J7/25
Abstract: 本发明提供一种具有抗静电性能、在低剥离速度和高剥离速度下粘结力的平衡性优良、并且贮存期长、耐久性和再加工性也优良的粘结剂组合物。所述粘结剂组合物包括：(A)烷基的碳原子数为C4～C18的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一种与作为可共聚单体组的(B)含羟基的可共聚单体的共聚物100重量份；(C)二官能以上的异氰酸酯化合物0.1～10重量份；(D)金属螯合物的交联催化剂0.001～0.5重量份；(E)酮‑烯醇互变异构体化合物0.1～200重量份；以及作为(F)抗静电剂的熔点为25～50℃的离子性化合物0.05～5重量份，并且(E)/(D)的重量份比率为70～700。
-
公开(公告)号：CN106010322B
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN201610076790.0
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/20 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于，在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上，依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号：CN106010325B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201610090004.2
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J183/04 , C09J11/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜，及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)，且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10)，贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成，抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面，将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
-
公开(公告)号：CN105385370B
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201510397287.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107207928A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009304.1
申请日：2016-02-29
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J133/00 , C09J4/02 , C09J7/00 , C09J175/14
Abstract: 本发明提供一种粘合性树脂层及粘合性树脂膜，其中该粘合性树脂层即便与基材贴合后加热变形，也能够防止气泡的产生，对依次层叠基材、粘合性树脂层、及基材而成的层叠体的、基材的变形的追随性良好。更具体而言，本发明提供的粘合性树脂层为含有丙烯酸类粘合性树脂组合物的单层的粘合性树脂层(11)，其中，该粘合性树脂组合物至少含有(A)丙烯酸类聚合物、(B)丙烯酸类单体或丙烯酸类寡聚物、及(C)热聚合引发剂，粘合性树脂层(11)在常温下在两面(11a)、(11b)具有粘着性，在升温速度为10℃/分钟的差示扫描热量测定(DSC)中，在80℃以上开始确认发热，在120℃～210℃之间确认至少1个波峰。
-
公开(公告)号：CN104774569B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201410677651.4
申请日：2014-11-21
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08 , C09J133/08 , C09J11/06 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化、具有优良抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜，其是依次经过：在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物、进而还含有(F)二官能以上的异氰酸酯化合物、(G)交联促进剂及(H)酮‑烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序；将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作，剥离剂层(4)通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物及抗静电剂的树脂组合物形成，粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。
-
公开(公告)号：CN106010323A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610076854.7
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件，所述保护膜即使在裁切时也难以出现因粘结剂而导致的异物(胶团)，即使对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜仍亲和性(湿润性)良好，且对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变，不会经时劣化，具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)，其在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号：CN106010322A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610076790.0
申请日：2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08
CPC classification number: C09J7/20 , C09J133/08 , C09J2201/60 , C09J2205/114
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于，在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上，依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号：CN104893595A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201510321325.4
申请日：2013-08-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供层叠体的制造方法和层叠体，该层叠体是在表面具有台阶的被粘附体上贴合使用了光固化树脂组合物的层叠膜而成，当将该层叠膜贴合于表面具有台阶的被粘附体时，可防止气泡和白浊的产生。该层叠体的制造方法包括配制光固化树脂组合物的工序，其中，该光固化树脂组合物在24℃、1Hz下的储能模量为1×104Pa以上且低于9×104Pa，并且相对于100重量份的(A)由酸值为0～33的丙烯酸类树脂构成的主剂聚合物含有5～10重量份的(B)具有羟基的(甲基)丙烯酸酯单体中的至少一种、0.5～1重量份的(C)光聚合引发剂以及相对于聚合物的交联点成为0.1当量以下的0.2～0.8重量份的(D)双官能交联剂。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
70
records
(took 0.029 seconds)
