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公开(公告)号：CN107083198A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610888772.2
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D5/24 , C09D7/12 , G02B5/30
CPC classification number: C09J133/08 , C08K5/06 , C08K5/3432 , C09D5/24 , C09D7/63 , C09D183/04 , C09J7/401 , C09J2203/318 , C09J2433/00 , C09J2467/005 , C09J2467/006 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN107083197A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201610886407.8
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , G02B1/14
CPC classification number: C09J7/401 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2201/60 , C09J2203/318 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104419338B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN103421436B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201310181273.6
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少、不会经时劣化且具有优异的防剥离静电性能的表面保护膜、以及使用该表面保护膜的光学部件。在透明基材膜（1）的单面形成有粘结剂层（2），在该粘结剂层（2）上贴合有剥离膜（5）的表面保护膜（10）中，粘结剂层（2）含有防静电剂，剥离膜（5）是在树脂膜（3）的单面层叠剥离剂层（4）而成，所述剥离剂层（4）包含以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的有机硅类化合物（7）。粘结剂层（2）由与含有聚氧化烯基的化合物共聚合的（甲基）丙烯酸类聚合物形成、或者由混合了含有聚氧化烯基的化合物的（甲基）丙烯酸类聚合物形成。
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公开(公告)号：CN104962209A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201510230694.2
申请日：2013-05-16
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08
Abstract: 本发明提供用于形成对被粘附体的污染少的粘结膜的粘结膜用剥离膜，进而，提供用于形成具有优异的防剥离静电性能的粘结膜的粘结膜用剥离膜、以及使用该粘结膜用剥离膜的粘结膜。本发明的粘结膜用剥离膜(5)能够保护至少在基材膜(1)的单面层叠有粘结剂层(2)的粘结膜的该粘结剂层(2)，并且能够剥离，其中，至少在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，并通过该剥离剂层(4)贴合在粘结剂层(2)的表面上，上述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂和20℃温度下是液体的硅类化合物。
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公开(公告)号：CN104419338A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410312177.5
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面有凹凸的光学用膜也可使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用其的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)而成，抗静电剂成分是熔点小于30℃的离子性化合物，通过抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN117965109A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410203244.3
申请日：2016-09-27
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/40 , C09J7/25 , C09J7/30 , C09J133/08 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且具有不经时劣化的优异的剥离抗静电性能，使用时易剥离剥离片。本发明提供的抗静电表面保护膜，通过在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一面上形成粘着剂层(2)，在粘着剂层(2)的表面上贴合剥离片(5)而形成，其中，剥离片(5)通过在基材(3)的一面上具有剥离剂层(4)而形成，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂的树脂组合物而形成。
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公开(公告)号：CN106010324B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201610089997.1
申请日：2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J7/40 , C09J133/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜可对表面具有凹凸的光学用膜使用，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，形成粘结剂层(2)，该粘结剂层(2)含有作为抗静电剂的离子化合物，在粘结剂层(2)上贴合有具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，所述剥离剂层(4)由碱金属盐及有机硅类剥离剂构成，碱金属盐成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
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公开(公告)号：CN103382370B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201310154306.8
申请日：2013-04-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09D183/04 , C09D183/12
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地，提供向被粘物的污染少的表面保护膜，没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜，以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中，剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到，所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成，并且含有抗静电剂。
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