一种不均匀磁场下获得核磁共振二维J分解谱的方法

    公开(公告)号:CN103885013A

    公开(公告)日:2014-06-25

    申请号:CN201410153283.3

    申请日:2014-04-16

    申请人: 厦门大学

    发明人: 黄玉清 陈忠

    IPC分类号: G01R33/387

    摘要: 一种不均匀磁场下获得核磁共振二维J分解谱的方法,涉及核磁共振谱仪。1)用常规一维脉冲序列采样一张一维谱,获得谱线的线宽,为谱宽参数设置提供依据,同时线宽值反映了磁场环境均匀性情况;2)在核磁共振波谱仪上导入事先编译好的分子间单量子相干二维J分解谱脉冲序列;3)打开分子间单量子相干二维J分解谱脉冲序列的分子间单量子相干信号选择模块、间接维演化期t1模块、间接维演化期t2模块、信号采样期t3模块,设置该脉冲序列各个模块的实验参数;4)执行步骤3)设置实验参数后的二维J分解谱脉冲序列,进行数据采样;5)数据采样完成后,进行相关的数据后处理,得到免于不均匀磁场影响的高分辨率二维J分解谱。

    超导磁体的匀场调节装置
    63.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103454605A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201210174007.6

    申请日:2012-05-30

    发明人: 匡斌 何超明

    IPC分类号: G01R33/387 H01F6/00

    摘要: 一种超导磁体的匀场调节装置,包括至少一个第一匀场组件,第一匀场组件位于超导磁体的通孔内,通孔的长度方向平行于超导磁体的轴线,第一匀场组件用于承载粗略调节超导磁体的磁场均匀性的匀场片,匀场调节装置还包括至少一个附加匀场组件,各个附加匀场组件与各个第一匀场组件一一对应地在超导磁体的径向上叠加固定于通孔内,用于承载细微调节超导磁体的磁场均匀性的匀场片。应用本发明所述方案,首次匀场迭代之后,无需进行降场和升场的操作即可进行匀场迭代,因此确保操作人员的安全,并且避免对液氦的浪费以及超导磁体失超,降低了成本;同时,本发明所述方案无论从实现方法和操作过程等方面来说,均简单易行。

    超导磁体无源匀场方法

    公开(公告)号:CN102116855B

    公开(公告)日:2013-10-16

    申请号:CN201010617474.2

    申请日:2010-12-31

    IPC分类号: G01R33/387

    摘要: 本发明公开了一种匀场方法,尤其是一种运用于核磁共振设备中的超导磁体无源匀场方法。本发明提供了一种快速达到匀强磁场的超导磁体无源匀场方法,在匀场时,首先用部分匀场体盘将磁场匀到70%-95%磁场要求的均匀度,因此在第一次匀场时匀场体盘以及载入了绝大多数的匀场小片,为保证安全放入,将磁体磁场降至一安全场值,匀场体盘放入后,再升至满场,在后续第匀场时,仅需在未使用的匀场体盘中加入少量的匀场小片,这样匀场体盘所受到的磁场力就比较小,从而可以在不降场的情况下操作,这就不需要反复升降场,从而能够快速的达到匀强磁场。

    匀场框架位置校正方法和装置

    公开(公告)号:CN101936706B

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN200910148476.9

    申请日:2009-06-30

    发明人: 贺强 廖然 陈进军

    IPC分类号: G01B11/00 G01R33/387

    摘要: 本发明公开了一种匀场框架位置校正方法,包括:A、进行激光灯定位,并将病床(PTAB)移动到所认为的中心位置;B、测量得到所需图像,并根据测量得到的图像确定所述PTAB偏离实际中心位置的距离和方向;按照确定出的距离和方向移动所述PTAB。本发明同时公开了一种匀场框架位置校正装置。应用本发明所述的方法和装置,能够提高匀场框架的位置精度,从而提高成像质量,且易于实现。

    匀场框架位置校正方法和装置

    公开(公告)号:CN101936706A

    公开(公告)日:2011-01-05

    申请号:CN200910148476.9

    申请日:2009-06-30

    发明人: 贺强 廖然 陈进军

    IPC分类号: G01B11/00 G01R33/387

    摘要: 本发明公开了一种匀场框架位置校正方法,包括:A、进行激光灯定位,并将病床(PTAB)移动到所认为的中心位置;B、测量得到所需图像,并根据测量得到的图像确定所述PTAB偏离实际中心位置的距离和方向;按照确定出的距离和方向移动所述PTAB。本发明同时公开了一种匀场框架位置校正装置。应用本发明所述的方法和装置,能够提高匀场框架的位置精度,从而提高成像质量,且易于实现。

    柔性线圈、成像装置、频率补偿方法、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118191699A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410412105.1

    申请日:2024-04-07

    IPC分类号: G01R33/36 G01R33/387

    摘要: 本申请公开了一种柔性线圈、成像装置、频率补偿方法、设备及存储介质,涉及电路技术领域,其中一种柔性线圈包括:柔性天线、频率补偿模块和信号放大模块,柔性天线包括待补偿电容;频率补偿模块的第一端和待补偿电容的第一端连接,频率补偿模块的第二端与待补偿电容的第二端连接,频率补偿模块的控制端与信号放大模块的输出端连接,信号放大模块的输入端与柔性天线连接;频率补偿模块用于对待补偿电容的电容值进行调节。本申请由于在柔性线圈中设置了频率补偿模块,且频率补偿模块可以对待补偿电容的电容值进行调节,可以在柔性线圈弯折时由于电感量变化导致的谐振频率变化进行补偿,提高柔性线圈的谐振频率的稳定性,提高生成的图像的信噪比。