一种高熵陶瓷纳米孪晶颗粒弥散增强钨合金及其制备方法

    公开(公告)号:CN115058628B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202210603928.3

    申请日:2022-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种高熵陶瓷纳米孪晶颗粒弥散增强钨合金及其制备方法,钨合金由锆、钨、氧、碳构成的Zr(W)‑O‑C高熵陶瓷纳米孪晶颗粒和钨(W)组成,按重量百分比计,Zr(W)‑O‑C含量为0.5~2.0%,W含量为98.0~99.5%。本发明通过控制原料钨粉体和制备过程的氧杂质,并引入合适量的ZrC纳米颗粒,利用ZrC与钨中的杂质氧反应,原位生成Zr(W)‑O‑C高熵陶瓷纳米孪晶颗粒,既降低杂质氧对钨的脆化作用,提升合金的低温韧性,又利用纳米Zr(W)‑O‑C颗粒钉扎晶界和位错提升合金的强度。本发明的钨合金具有优异的低温韧性和抗拉强度,在室温即展现出塑性,拉伸强度远高于目前报道的纯钨和常规的弥散强化钨合金。室温下,本发明的钨合金的抗拉强度高达1.65GPa,且延伸率>5%。

    一种Al-Y-Cr-Fe-Er-O高熵复合氧化物阻氢涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116237214A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202211606580.X

    申请日:2022-12-13

    Abstract: 本发明涉及一种Al‑Y‑Cr‑Fe‑Er‑O高熵复合氧化物阻氢涂层及其制备方法,所述阻氢涂层是以Al、Y、Cr、Fe、Er的可溶性盐为原料,通过溶胶凝胶方法结合低温氧化烧结制备成前驱体粉体,经过喷雾干燥在铁基基体表面形成涂层,再通过高温热处理后形成的高熵复合氧化物阻氢涂层。涂层的金属元素中Al摩尔占比为40%‑70%,其余为Y、Cr、Fe、Er四种金属元素。本发明在材料组成方面利用Al‑O的高效阻氢特性、Fe‑Cr‑O提升涂层界面结合强度、Y‑Er‑O高价氧化物同样具备优异的阻氢能力,在制备方法上使用溶胶凝胶法提高前驱体活性,通过高温烧结结合快速冷却,制备高熵涂层,具有成本低、操作简单及阻氢效果优异等效果。

    一种难熔金属钨表面纳米化方法

    公开(公告)号:CN115716130A

    公开(公告)日:2023-02-28

    申请号:CN202211434468.2

    申请日:2022-11-16

    Abstract: 本发明属于材料表面处理技术领域,具体涉及一种难熔金属钨表面纳米化方法。本发明采用机械抛光结合真空热处理的方法,在基体为粗晶的钨表面形成细小的纳米晶层,工艺简单,耗时短耗能低,重复性可靠,可实现批量处理。粗晶钨在金相抛光过程中近表层会引入高密度位错,这些位错是热力学亚稳定状态,在后续的真空热处理过程中发生回复形成稳定的纳米晶,晶粒尺寸200~400nm,表面纳米层的厚度为200~400nm。且纳米晶层与基体组织之间不存在明显的界面,不易剥离和分离,有望进一步高升钨材料的抗辐照性能。

    一种高熵陶瓷纳米孪晶颗粒弥散增强钨合金及其制备方法

    公开(公告)号:CN115058628A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210603928.3

    申请日:2022-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种高熵陶瓷纳米孪晶颗粒弥散增强钨合金及其制备方法,钨合金由锆、钨、氧、碳构成的Zr(W)‑O‑C高熵陶瓷纳米孪晶颗粒和钨(W)组成,按重量百分比计,Zr(W)‑O‑C含量为0.5~2.0%,W含量为98.0~99.5%。本发明通过控制原料钨粉体和制备过程的氧杂质,并引入合适量的ZrC纳米颗粒,利用ZrC与钨中的杂质氧反应,原位生成Zr(W)‑O‑C高熵陶瓷纳米孪晶颗粒,既降低杂质氧对钨的脆化作用,提升合金的低温韧性,又利用纳米Zr(W)‑O‑C颗粒钉扎晶界和位错提升合金的强度。本发明的钨合金具有优异的低温韧性和抗拉强度,在室温即展现出塑性,拉伸强度远高于目前报道的纯钨和常规的弥散强化钨合金。室温下,本发明的钨合金的抗拉强度高达1.65GPa,且延伸率>5%。

    一种用于工业化真空离子镀膜机的工件旋转装置

    公开(公告)号:CN221440851U

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202322854424.1

    申请日:2023-10-23

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于工业化真空离子镀膜机的工件旋转装置,包括公转盘所述公转盘的下方安装有位于真空腔体内的同步轮,同步轮的外周面设置有水冷磁流体密封件。本实用新型结构简单,通过将水冷磁流体密封件应用于同步轮的外周面,可起到高真空环境下的动密封的效果,同时在盖子的作用下,保护公转部分不被溅射污染,通过防护罩的设置可保护公转盘下面的自转装置不被溅射过程污染,其次在滚轮组件的协助下带动公转盘转动,从而有效减少转动阻力,实现低扭矩下的可控转,并利用F橡胶密封圈,聚四氟乙烯外绝缘件和聚四氟乙烯外绝缘帽实现旋转工件装置与工业化真空离子镀膜装备腔体的密封和绝缘。

    一种真空离子镀膜用大尺寸、矩形平面磁控阴极靶源

    公开(公告)号:CN221275868U

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202322904524.0

    申请日:2023-10-26

    Abstract: 本实用新型公开了一种真空离子镀膜用大尺寸、矩形平面磁控阴极靶源,包括防护壳体以及设于防护壳体内部的靶材,防护壳体包括不锈钢封板以及设置于不锈钢封板表面的聚四氟乙烯绝缘板,聚四氟乙烯绝缘板远离不锈钢封板的端部设有不锈钢分水套,不锈钢分水套的端面安装有紫铜水冷板,不锈钢分水套和紫铜水冷板之间形成有空腔。本实用新型结构简单,由多组磁体组件交替平行排列组成,形成多个刻蚀轨道;同时相邻磁体组件中的磁钢的长度不同且相邻磁体组件中的磁钢间隙交错设置,通过使相邻组的磁钢的长度不同,那么在相邻的磁体之间的间隙就是交错设置的,这样磁场就不会存在死角,确保磁控溅射时保证每个位置都能够溅射到,提高靶材利用率。

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