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公开(公告)号：CN105246621A
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201480029788.7
申请日：2014-05-26
Applicant: 昭和电工株式会社 , 国立大学法人大阪大学
CPC classification number: B22F9/24 , B22F1/0025 , B22F1/004 , B22F1/0044 , B22F2009/245 , B22F2301/255 , B22F2304/05 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供能够制造细长的金属纳米丝的金属纳米丝制造方法和采用该制造方法制造的金属纳米丝。一种制造金属纳米丝的方法，包括调制溶液，并以作用于该溶液的简易剪切应力为10mPa·m以下的状态在100～250℃的温度下加热反应10分钟以上的工序，所述溶液包含金属的盐、聚合物、选自卤化物、硫化物、碳酸盐和硫酸盐中的至少一种、和脂肪族醇，在所述加热反应工序中测定溶液的紫外可见吸收光谱变化，以该紫外可见吸收光谱信息为基础来控制反应时间。
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公开(公告)号：CN102666519B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201080058515.7
申请日：2010-12-17
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D301/12 , C07D303/28
CPC classification number: C07D301/12 , C07D303/28
Abstract: 本发明提供使过氧化氢和乙腈与具有碳－碳双键的有机化合物的碳－碳双键进行反应的高效率的环氧化合物的制造方法。所述环氧化合物的制造方法是在乙腈的存在下，使用过氧化氢作为氧化剂，将具有碳－碳双键的有机化合物的该碳－碳双键进行环氧化的环氧化合物的制造方法，其特征在于，使用含有醇的溶剂将反应体系内的乙腈的浓度控制在0.6～5摩尔/L的范围内，同时使反应进行。
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公开(公告)号：CN105164764A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201480023443.0
申请日：2014-04-17
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H01L51/0021 , H05K1/097 , H05K3/105 , H05K3/1216 , H05K3/1283 , H05K2201/0108
Abstract: 本发明提供能够简易地实现窄间距的导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。在基板(10)的至少一个主面的全部或一部分面上形成金属纳米丝层(12)，隔着以规定图案形成有透光部(14a)的掩模(14)而照射脉冲光，在所述规定图案的形状的区域将所述金属纳米丝层(12)中的金属纳米丝烧结，使所述规定图案的形状的区域显现导电性。由此，能够以简易的工序制造具备任意图案的导电图案的基板。
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公开(公告)号：CN105051657A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480016680.4
申请日：2014-03-25
Applicant: 昭和电工株式会社
Inventor： 内田博
CPC classification number: G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04111 , H05K1/0296 , H05K1/092 , H05K1/097 , H05K3/1216 , H05K3/125 , H05K3/1291
Abstract: 本发明提供能够以简单的方法制造、且适合于图案识别性高的电容式触控面板的透明导电基板的制造方法和透明导电基板。通过透明导电性墨，在同一平面上的不同位置印刷第一电极区域(12)和第二电极区域(14)，将在一个方向上将第一电极区域(12)间电连接的第一电极连接区域(16)印刷后，照射脉冲光，进行烧结而形成导电体，然后，用透明绝缘层(18)被覆第一电极连接区域(16)的表面，通过透明导电性墨，将在透明绝缘层(18)的表面上通过、并在与第一电极连接区域(16)不同的方向上将第二电极区域(14)间电连接的第二电极连接区域(20)印刷后，照射脉冲光，进行烧结而形成导电体。
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公开(公告)号：CN102666518B
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201080058513.8
申请日：2010-12-16
Applicant: 昭和电工株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C07D301/12 , C07D303/22 , C07D303/27
CPC classification number: C07D301/12 , C07D303/22 , C07D303/27
Abstract: 本发明提供在温和的条件下，使用过氧化氢作为氧化剂，由具有烯丙基醚键的化合物高效率地制造对应的缩水甘油基醚化合物的方法以及具有联苯骨架的新的单烯丙基单缩水甘油基醚化合物。根据本发明，提供一种上述缩水甘油基醚化合物的制造方法以及可以通过该制造方法获得的具有联苯骨架的单烯丙基单缩水甘油基醚化合物，所述制造方法是通过使具有烯丙基醚键的化合物与过氧化氢进行反应，将该烯丙基的碳－碳双键进行环氧化来制造对应的缩水甘油基醚化合物的方法，其特征在于，作为反应催化剂，使用钨化合物、叔胺和苯基膦酸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102361861B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201080013259.X
申请日：2010-03-17
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D301/12 , C07D303/16 , C07D303/40 , C07D303/44
CPC classification number: C07D301/12 , C07D303/16 , C07D303/40 , C07D303/44
Abstract: 本发明提供能够在温和条件下、不使用季铵盐和/或金属化合物而通过简便的操作安全、高效、且低成本地从烯烃类选择性地制造环氧化合物的环氧化合物的制造方法。本发明涉及一种环氧化合物的制造方法，其是使用过氧化氢作为氧化剂将具有碳-碳双键的有机化合物的碳-碳双键环氧化的环氧化合物的制造方法，其特征在于，使用有机腈化合物和有机胺化合物进行环氧化。
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公开(公告)号：CN101883797B
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN200880117412.6
申请日：2008-11-11
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C08F30/08 , B29C59/02 , C08G59/20 , C08G77/38 , C08L83/06 , C08L83/07 , G11B5/65 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/027
CPC classification number: B29D17/00 , C08F220/40 , C08G77/045 , C08G77/14 , C08G77/38 , G11B5/855
Abstract: 本发明的目的在于提供一种转印材料用固化性组合物，其适合用于可以高生产量形成微细图案的工艺即紫外纳米压印法，有时还适合用于热纳米压印法，并且可以形成氟类气和氧气的蚀刻速度选择性高的微细图案。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有在同一分子内具有特定倍半硅氧烷骨架和固化性官能团的含倍半硅氧烷骨架的化合物。
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公开(公告)号：CN102666519A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080058515.7
申请日：2010-12-17
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: C07D301/12 , C07D303/28
CPC classification number: C07D301/12 , C07D303/28
Abstract: 本发明提供使过氧化氢和乙腈与具有碳－碳双键的有机化合物的碳－碳双键进行反应的高效率的环氧化合物的制造方法。所述环氧化合物的制造方法是在乙腈的存在下，使用过氧化氢作为氧化剂，将具有碳－碳双键的有机化合物的该碳－碳双键进行环氧化的环氧化合物的制造方法，其特征在于，使用含有醇的溶剂将反应体系内的乙腈的浓度控制在0.6～5摩尔/L的范围内，同时使反应进行。
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公开(公告)号：CN102666518A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080058513.8
申请日：2010-12-16
Applicant: 昭和电工株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
IPC: C07D301/12 , C07D303/22 , C07D303/27
CPC classification number: C07D301/12 , C07D303/22 , C07D303/27
Abstract: 本发明提供在温和的条件下，使用过氧化氢作为氧化剂，由具有烯丙基醚键的化合物高效率地制造对应的缩水甘油基醚化合物的方法以及具有联苯骨架的新的单烯丙基单缩水甘油基醚化合物。根据本发明，提供一种上述缩水甘油基醚化合物的制造方法以及可以通过该制造方法获得的具有联苯骨架的单烯丙基单缩水甘油基醚化合物，所述制造方法是通过使具有烯丙基醚键的化合物与过氧化氢进行反应，将该烯丙基的碳－碳双键进行环氧化来制造对应的缩水甘油基醚化合物的方法，其特征在于，作为反应催化剂，使用钨化合物、叔胺和苯基膦酸。
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公开(公告)号：CN102197055A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN200980142257.8
申请日：2009-10-19
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: G03F7/0388 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F220/34 , C08G12/40 , G03F7/0002 , G03F7/032 , G03F7/0758
Abstract: 本发明的目的是提供对氩气的干蚀刻耐性较高、而且氩气和氧气的干蚀刻速度的选择性较高，并且可以形成用作抗蚀层等的微细图案的、适合纳米压印法的转印材料用固化性组合物。本发明的转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有通过使氨基三嗪化合物、分子内具有羟基和(甲基)丙烯酰基的化合物、和醛类化合物反应而获得的具有三嗪骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
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