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公开(公告)号：CN108372458A
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201810033498.X
申请日：2018-01-12
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
IPC分类号： B24B37/04 , B24B37/24 , B24B7/22 , H01L21/321 , C09G1/02
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C23F3/06 , H01L21/31053
摘要： 公开一种化学机械抛光含钨衬底的方法，以降低腐蚀速率并抑制钨的凹陷和下层电介质的侵蚀。所述方法包括提供衬底；提供含有以下作为初始组分的抛光组合物：水；氧化剂；聚二醇或聚二醇衍生物；二羧酸、铁离子源；胶态二氧化硅研磨剂；以及任选地pH调节剂；提供具有抛光表面的化学机械抛光垫；在所述抛光垫与所述衬底之间的界面处产生动态接触；以及将所述抛光组合物分配到所述抛光垫与所述衬底之间的界面处或附近的抛光表面上；其中一些钨(W)被抛光离开所述衬底，降低腐蚀速率，抑制钨(W)的凹陷以及钨(W)下层的电介质侵蚀。
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公开(公告)号：CN108350319A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063558.1
申请日：2016-10-21
申请人： 嘉柏微电子材料股份公司
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/306 , H01L21/321
摘要： 描述了用于对含有钨的基板的表面进行平面化的化学机械抛光组合物以及所述组合物的使用方法，所述组合物含有氧化硅研磨剂颗粒及阳离子型表面活性剂。
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公开(公告)号：CN108350318A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680062494.3
申请日：2016-10-21
申请人： 嘉柏微电子材料股份公司
IPC分类号： C09G1/02 , C09G1/04 , C09K3/14 , B01J23/745
摘要： 描述了用于对含有钨的基板的表面进行化学-机械抛光(或平面化)的化学-机械抛光组合物(例如浆料)以及所述浆料的使用方法，所述组合物含有阳离子型表面活性剂及环糊精。
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公开(公告)号：CN107699899A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201711006578.8
申请日：2017-10-25
申请人： 中国科学院近代物理研究所
摘要： 本发明涉及离子加速器超导腔加工技术领域，尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统及方法。其特点是包括混酸槽，混酸槽上端通过管路与制冷机组相连，混酸槽内设置有热交换器，混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连，酸液输送泵通过管路与过滤器相连，过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连，超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连，超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连，高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连；其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制，可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。
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公开(公告)号：CN107400889A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201710617198.1
申请日：2017-07-26
申请人： 江苏盐城环保科技城重金属防治研究中心
摘要： 本发明提供一种模压纯金制品坯料的表面处理方法，将纯金制品坯料表面置于浸蚀液中浸蚀，使其表面呈现洁净均匀的“哑光”状，以备后续模压做准备，首先配制浸蚀液，加入缓蚀剂、表面活性剂，搅拌均匀并加热至一定温度，再将纯金制品坯料放入浸没，轻轻摇晃数十秒，取出清洗干燥即可，本发明的优点是：它使纯金制品坯料表面洁净；通过浸蚀温度和时间的调整，可精确控制纯金制品的单体重量，减少不必要多的投料；失效的浸蚀液和清洗坯料的废水可以合并提取浸蚀下来的金，节省了原料成本。
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公开(公告)号：CN107217288A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201710072583.2
申请日：2017-02-10
申请人： 江苏城乡建设职业学院
摘要： 本发明公开了一种调控二氧化钛纳米管径的方法。将钛片在氢氟酸和硝酸溶液中进行化学抛光；将抛光后的钛片放置于一个两电极的恒温阳极氧化装置上，抛光后的钛片作为阳极，石墨电极为阴极，将两个电极浸入同一电解液中，电解液由表面活性剂聚山梨酯、乙二醇、氟化铵和去离子水组成；设置电解液温度，将两个电极通上直流电压，进行阳极氧化，得到二氧化钛纳米管；用去离子水将二氧化钛纳米管冲洗2‑3遍，在空气中晾干。所获得的二氧化钛纳米管管径可达几百纳米，纳米管阵列规整，管径和长度均一，广泛应用于传感器。
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公开(公告)号：CN107201520A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710349391.1
申请日：2017-05-17
申请人： 浙江工业大学
IPC分类号： C23F3/06
CPC分类号： C23F3/06
摘要： 本发明公开了一种不锈钢化学抛光液，由磷酸、草酸、尿素、双氧水、缓蚀剂、非离子型表面活性剂、蒸馏水组成，所述的化学抛光液溶液终浓度组成如下：磷酸30～50ml/L，草酸1～5g/L，尿素5～15g/L，30％体积分数的双氧水70～100ml/L，缓蚀剂1～3g/L，表面活性剂0.5～2g/L，余量为蒸馏水。本发明抛光液配制简单，作业过程安全，无NOX气体和含氟离子的污染；抛光效果好，不挂灰,外表面光亮,抛光速度容易控制；采用了非离子表面活性剂，改善了化学环境；通过控制缓蚀剂的含量,稳定抛光速度。
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公开(公告)号：CN107148496A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201580057443.7
申请日：2015-10-21
申请人： 嘉柏微电子材料股份公司
摘要： 本发明提供抑制含有金属的基板的腐蚀的方法。该基板可呈任何适合的形式。在一些实施方式中，该金属为钴。在一些实施方式中，所述方法可用于半导体晶片。本发明还提供抛光基板的化学机械抛光组合物及方法。可在本文所公开的所述方法及组合物中使用腐蚀抑制剂。该抑制剂包含两性表面活性剂、磺酸酯、膦酸酯、羧酸酯、氨基酸衍生物、磷酸酯、羟乙基磺酸酯、硫酸酯、磺基丁二酸酯、磺基肉桂酸酯、或其任意组合。
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公开(公告)号：CN107022693A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710304780.2
申请日：2017-05-03
申请人： 邱秘
发明人： 邱秘
摘要： 本发明公开了一种凹印铜金粉制备方法，解决了现有技术中制备的铜金粉含氧量高，细粉率低，金属光泽感不强，产品质量不稳定的技术问题，主要包括称取原料、原料熔融、水雾化制粉、清洗、烘干、抛光和过筛步骤，通过在原料熔融过程中加入氧化钠和碳酸氢钠，降低了铜金粉的含氧量，使颗粒微观形状更规则，通过在抛光过程中加入抛光助剂使得到的铜金粉抗氧化，耐高温性能好，金属光泽感强，本发明的制备方法生产工艺稳定性高，制备的铜金粉含氧量低，细粉率高，金属光泽感强。
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公开(公告)号：CN106987841A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710293940.8
申请日：2017-04-28
申请人： 舒城久联精密机械有限公司
发明人： 蒋能新
IPC分类号： C23F3/06
CPC分类号： C23F3/06
摘要： 本发明提供了一种应用在精密机械加工过程中的不锈钢抛光剂，由以下组分组成：醋酸、丙酸、戊烷磺酸钠、聚醚多元醇、聚乙二醇二酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚、2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇、木质素、除锈助剂、水。本发明抛光剂具有抛光效果稳定、去锈效果显著、使用方便的有益效果。
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