-
公开(公告)号：CN111999985B
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202010790774.4
申请日：2020-08-07
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明实施例涉及光刻技术领域，公开了一种提升光刻速度的方法，该方法通过实时检测当前扫描宽度是否小于预设扫描宽度；若当前扫描宽度小于预设扫描宽度，读取经图形转换单元转换的数据，像素生成器解压所述数据，并删除解压后的数据两端冗余像素数据，获得有效像素数据；根据读取的所述有效像素数据，控制栅式光阀的微结构；根据设定参数和所述有效像素数据，将图形刻制在工件上，所述预定参数包括激光器脉冲频率、激光器的输出能量及运动平台的运动速度，本发明，当扫描宽度减小时，栅式光阀每一帧都只装载有效像素数据，从而提升单位时间内装载的帧数，提升栅式光阀的刷新率。
-
公开(公告)号：CN103995431B
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201410211411.5
申请日：2012-12-03
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
摘要： 本发明适用于光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置，所述方法包括下述步骤：设计制作光掩模检测板；根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；将图形按照矩阵点划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补。本发明通过对产生光掩模板条纹的原因，对光掩模板进行光刻前光刻采用的图形进行反补，使得光刻后反补的效果抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情况。
-
公开(公告)号：CN104574451A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201510014198.3
申请日：2015-01-12
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
发明人： 徐凌飞
IPC分类号： G06T9/20
摘要： 本发明属于光刻机图形技术领域，提供了一种AutoCAD中图形替换文字的方法和装置。在本发明中，首先根据字库建立数个字体匹配表；字体匹配表与字库的字体一一对应，字体匹配表中的每个元素包括文字以及在字体中与文字对应的轮廓图形；然后获取待转换的文件；再获取文件中的文字对应的字体匹配表；最后将文件中的文字替换为字体匹配表中与文字对应的轮廓图形。本发明通过所述AutoCAD中图形替换文字的方法和装置，提高了AutoCAD中图形替换文字的效率。
-
公开(公告)号：CN103019029B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201210508623.0
申请日：2012-12-03
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
IPC分类号： G03F1/72
摘要： 本发明适用于光掩模生产领域，尤其涉及降低光掩模板条纹的方法及装置，所述方法包括下述步骤：通过光掩模检测板测量像素图形和扫描带重叠部分的重叠图形精度变化曲线；根据所述精度变化曲线在进行光刻之前对所述扫描带重叠部分进行反补。本发明通过对产生光掩模板条纹的原因，在生产光掩模板进行光刻之前对所述扫描带重叠部分图形进行反补，使得光刻后反补的效果抵消了由于误差导致的出现条纹的情况，使得降低光掩模板出现条纹的情况。
-
公开(公告)号：CN116661238A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310428810.6
申请日：2023-04-20
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜版检查机精度校准样片，包括基片，基片上设置有位置校准区域和精度校准区域；精度校准区域内设置有对比图形单元和缺陷图形单元；对比图形单元内呈横纵排列状设置有若干掩膜版样片对比图形，对比图形单元内同一行中掩膜版样片对比图形一致，仅尺寸增减；缺陷图形单元内呈横纵排列状设置有若干掩膜版样片缺陷图形，缺陷图形单元内同一行中掩膜版样片缺陷图形一致，仅尺寸增减；对比图形单元和缺陷图形单元内同一行、列位置的掩膜版样片对比图形和掩膜版样片缺陷图形一致，且尺寸相同，仅掩膜版样片缺陷图形内增设缺陷特征；本发明的掩膜版检查机精度校准样片，解决背景技术中提出的满足对掩膜版检查机精度的校准和缺陷的全检查。
-
公开(公告)号：CN116213339A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211694291.X
申请日：2022-12-28
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
发明人： 鄢红军
摘要： 本发明涉及掩膜版制造技术领域，尤其是一种大尺寸掩膜版清洗静电改善方法，包括制作清洗装置、一次清洗和二次清洗步骤，改变了现有的大尺寸掩膜版清洗静电的方法，对比现有单点喷射降低了喷射压力，缓解去离子水与掩膜版因剧烈摩擦而产生静电，同时加上距离变短，后续在去离子水内加入CO2降低去离子水电导率成为可能，这样根本性的改善热水对掩摸版产生的静电问题。
-
公开(公告)号：CN115480444A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202211157642.3
申请日：2022-09-22
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
发明人： 张津
IPC分类号： G03F1/68
摘要： 本发明涉及掩膜版刻划技术领域，提出了一种多参考点高精度掩膜版贴片装置，包括机架，设于机架上的第一调整组件、支柱和第一推顶件，设于第一调整组件上的摄像机，设于支柱顶端的第二调整组件，设于第二调整组件上的压板，设于第一推顶件顶端的支撑台，设于支撑台上的第三调整组件，第三调整组件位于掩膜版的下方，掩膜版位于压板和第二调整组件之间，贴片位于第三调整组件和掩膜版之间，压板和掩膜版实现在XZ方向的移动和绕Y轴的转动，贴片借助第三调整组件实现XYZ方向的微调，摄像机为两个且用于定位掩膜版的位置，贴片借助第三调整组件贴合在掩膜版上。通过上述技术方案，解决了相关技术中设备贴合精度不高的问题。
-
公开(公告)号：CN109572786A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201910061525.9
申请日：2019-01-23
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
IPC分类号： B62B3/04
摘要： 本发明的夹具储存运输装置，通过底板以及栏杆组件围合形成滑动腔，滑动组件设置于滑动腔内，并在滑动组件上设置夹具固定块，通过夹具固定块将夹具的底部固定，夹具的上端斜靠在栏杆组件上，便可将夹具固定于底板上，且形成有多个滑动腔，便可在滑动腔内设置多个夹具，由于夹具是通过斜靠在滑动腔内，因此，可固定多种尺寸的夹具；再通过在滑动组件的末端设置伸出于滑动腔的第二滑轮组，使得滑动组件可滑动伸出于滑动腔，便于工人将夹具取下，且第二滑轮组可有效支撑滑动组件，保障滑动组件的使用寿命，这样，便可实现夹具的取出。此外，再通过在底板的底部设置第一滑轮组，便可使得固定于底板上方的夹具移动。
-
公开(公告)号：CN109062002A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201811143659.7
申请日：2018-09-29
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
IPC分类号： G03F1/80
CPC分类号： G03F1/80
摘要： 本发明公开了干法蚀刻制备6代LTPS用PSM，其制作方式包括CR系材料制作PSM和MOSI材料制作PSM；CR系材料制作PSM的制作方法包括以下步骤：①、光刻胶整形，使光刻胶截面角度变大；②、干法蚀刻正常区域Cr；③、蚀刻PS区域光刻胶；④、蚀刻掉适当地Glass厚度；⑤、干法蚀刻PS区域Cr；MOSI材料制作PSM的制作方法包括以下步骤：①、光刻胶整形，使光刻胶截面角度变大。本发明使用下置型方法，只需要对正常CR系材料分两个cell曝光即能制作出PSM，下置型方法不需要进行二次镀膜和涂胶，缩短了制作PSM的周期，使用MOSI材料也能实现制作出PSM，从而增加了PSM制作材料的广泛性，进一步降低了PSM的生产成本，提高了其市场竞争力，符合企业自身的利益。
-
公开(公告)号：CN104746041B
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201510097968.5
申请日：2015-03-04
申请人： 深圳清溢光电股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，包括：在靠近所述白缺陷的一角设置修补起点，在靠近所述白缺陷的所述修补起点的对角设置修补终点，使得在所述白缺陷所在平面上，以所述修补起点沿横向延伸的直线、所述修补起点沿纵向延伸的直线、所述修补终点沿横向延伸的直线、所述修补终点沿纵向延伸的直线围成的区域为扫描修补区域，所述白缺陷完全位于所述扫描修补区域内；采用激光气相沉积方式在所述扫描修补区域内从所述修补起点扫描修补至所述修补终点，使所述白缺陷表面完全覆盖修补薄膜完成所述修补。本发明实施例的激光气相沉积方式修补白缺陷的方法，通过扫描修补的方式，可以修补大尺寸的白缺陷。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
71 条记录 (耗时 0.049 秒)