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公开(公告)号：CN118854421A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410886133.7
申请日：2024-07-03
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
摘要： 本发明提供一种多功能水平电镀设备，包括电镀槽、隔离槽、电解液收集槽、电镀液收集槽、导电刷及光源，电镀槽中设置有阳极及传输滚轮；隔离槽设置于电镀槽中；隔离槽包括阴极滚轮、电解槽、电镀液回流槽、波纹调节板及导液板；电解液收集槽位于电镀槽外侧与导液板对应设置以收集电解液；电镀液收集槽位于电镀槽外侧与电镀液出口对应设置以收集电镀液；本发明的多功能水平电镀设备，可作为阴极导电刷式和/或阴极滚轮式水平电镀设备应用；可避免串液现象，提高电镀及电解质量；可解决电场边缘效应；可实现电解液及电镀液的循环回收及利用；可兼具镀镍、镀铜、镀银、镀锡、水洗、干燥等功能，从而提供一种可实现多种电镀方式的全自动测试平台。
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公开(公告)号：CN118621405A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410886145.X
申请日：2024-07-03
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
摘要： 本发明提供一种电镀隔离装置及水平电镀设备，电镀隔离装置包括框架、隔离板及波纹调节板，框架包括相连接的底板、侧板及端板且构成空腔，端板上均设置有滚轮安装位，且端板上设置有电镀液出口、电解液进口及电解液出口；隔离板设置于空腔内，隔离板与端板及底板均相连接且将空腔划分为包括相隔离的电解槽及位于两侧的电镀液回流槽，且电镀液回流槽与电镀液出口相连通，电解槽与电解液进口及电解液出口均相连通；波纹调节板的顶面呈波纹状，波纹调节与侧板相连接，且波纹调节板的顶面凸设于侧板的顶面。在进行电镀时，可便捷的进行电镀液的引流，避免接触面的积液问题，提高电镀质量；在进行电解时，可避免串液造成短路的现象。
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公开(公告)号：CN117166028A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311213173.7
申请日：2023-09-20
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备，其中，所述电镀装置包括：槽体，所述槽体包括电镀槽和导电槽，其中，所述电镀槽被构造用于容纳与阳极组件电连接的电镀液并且所述导电槽被构造用于容纳与阴极组件电连接的导电液；滚轮，所述滚轮被设置在所述电镀槽中并且被构造用于为待电镀对象提供传输动力，其中，所述滚轮的下端与所述电镀液接触并且所述滚轮的上端用于支撑所述待电镀对象；阴极喷射组件，所述阴极喷射组件被设置在所述导电槽之中并且被构造为与所述待电镀对象间隔开设置；以及喷射泵，所述与所述导电液连通并且被构造用于驱动所述导电液经由所述阴极喷射组件喷射到所述待电镀对象上。
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公开(公告)号：CN118932465A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411128582.1
申请日：2024-08-16
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本发明提供一种水平电镀装置包括电镀槽、阳极、传输滚轮、溶液汇集组件及阴极导电横梁组件，其中，溶液汇集组件包括汇流槽、回流管、集液槽及泵体，阴极导电横梁组件包括支撑横梁、阴极片及电解液喷头。本发明通过与电池片边缘接触的阴极片可有效增加电镀接触面积，提高镀层质量；相互连通的集液槽、回流管及汇流槽可通过泵体实现电镀液的循环利用；间隔设置的汇流槽及阴极片可有效解决电场边缘效应，进一步的提升镀层质量，实现阴极片的整面电镀；阴极片及电解液喷头的设置可便捷的实现对阴极片的解镀；可有效减少设备占地面积、降低成本。
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公开(公告)号：CN118932464A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411128577.0
申请日：2024-08-16
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本发明提供一种水平电镀装置，包括电镀槽、阳极、传输滚轮及阴极组件，其中，阴极组件包括阴极片、汇流槽、回流管、集液槽及泵体；阳极及传输滚轮设置于电镀槽内；汇流槽的顶面不超出传输滚轮所在水平面；阴极片位于汇流槽中且与传输滚轮具有同一水平面以与电池片边缘接触；集液槽与汇流槽通过回流管相连，且集液槽与泵体相连。本发明通过与电池片边缘接触的阴极片可有效增加电镀接触面积，提高镀层质量；相互连通的集液槽、回流管及汇流槽可通过泵体实现电镀液的循环流动，且可便捷的实现对阴极片的解镀；间隔设置的汇流槽及阴极片可有效解决电场边缘效应，提升镀层质量，实现整面电镀；可有效减少设备占地面积、降低成本。
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公开(公告)号：CN118854420A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410886128.6
申请日：2024-07-03
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
摘要： 本发明提供一种水平电镀设备包括电镀槽、隔离槽、电解液收集槽及电镀液收集槽，电镀槽中设置有阳极及传输滚轮；隔离槽设置于电镀槽中；隔离槽包括框架、隔离板及波纹调节板，框架包括相连接的底板、侧板及端板且构成空腔，端板上设置有滚轮安装位、电镀液出口、电解液进口及电解液出口，端板的外侧设置有导液板，电解液出口设置于导液板的内侧；隔离板设置于空腔内将空腔划分为电解槽及电镀液回流槽；波纹调节板的顶面呈波纹状且顶面凸设于侧板；电解液收集槽位于电镀槽外侧以收集电解液；电镀液收集槽位于电镀槽外侧以收集电镀液。本发明可实现电镀液与电解液的良好隔离、传输及应用，避免串液，提高电镀质量。
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公开(公告)号：CN118835300A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202411128591.0
申请日：2024-08-16
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本发明提供一种夹持式水平电镀装置，包括电镀槽、阳极、传输滚轮、压板、阴极导电刷、基板、滑块导电座、齿条滑块及夹持组件；本发明的夹持式水平电镀装置通过阴极导电刷、滑块导电座及电触点作为电池片的阴极，无需设置阴极滚轮隔离槽，可减少设备占地面积、降低成本；通过压板、阴极导电刷与夹持结构的配合可实现对电池片的夹持及供电，以有效改善镀层质量。
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公开(公告)号：CN117187925A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311236835.2
申请日：2023-09-25
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备，其中，所述电镀装置包括：包括电镀槽和解镀槽的槽体，电镀槽被构造用于容纳与第一电极组件电连接的电镀液并且解镀槽被构造用于容纳与第二电极组件电连接的解镀液；至少两个滚轮，其中的至少一个传输滚轮被设置在电镀槽中并且其中的至少一个导电滚轮被设置在所述解镀槽中，至少一个传输滚轮的至少一部分与电镀液电连接并且所述至少一个导电滚轮的至少一部分与所述解镀液电连接，至少两个滚轮被构造用于为待电镀对象提供传输动力；第三电极组件，所述第三电极组件与所述导电滚轮电连接，其中，所述第三电极组件的电势比所述第一电极组件的电势低并且所述第三电极组件的电势比所述第二电极组件的电势高。
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公开(公告)号：CN118880418A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411138036.6
申请日：2024-08-19
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本发明提供一种用于硅片电镀的导流装置及电镀设备，该导流装置包括基座、集液腔、上盖板和锥形导流套；其中，基座包括相连接的底座、侧板和端板且构成具有开口的空腔，底座上开设有回流出口；集液腔开设于底座相邻于端板的两端，且每个集液腔的侧壁至少开设有一个排液孔；上盖板位于基座的顶端并将空腔围合起来；锥形导流套贯穿于上盖板设置，且锥形导流套的小径端位于上盖板上方，锥形导流套的大径端位于空腔中。本发明中的导流装置具有体积小、便于控制、便于清洗的特点，安装和维护较简单，不需要复杂的电气元件，可同时用于清洗和工作两种状态的液体分流排出，在不增加设备投入的基础上，实现清洗作业的废液排出，以防影响电镀液的浓度。
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公开(公告)号：CN117684236A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311699847.9
申请日：2023-12-11
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
发明人： 刘培
摘要： 本发明提供一种导电装置及水平电镀设备，通过具有触点安装座的第一辊筒、具有触点安装座的第二辊筒及连接辊筒，可便捷的进行导电组件的安装；可提供对电源电压要求值较低、电阻较小、电势差较小、耐酸性腐蚀的导电组件；沿周向等间距交错间隔设置的导电触点可为待电镀产品在不同位置处均匀间歇性的供电，从而具有小电流薄层电镀的优势；安装于触点安装座上的柔性导电触点可便捷拆装，且可避免对待电镀产品的损伤，便于与待电镀产品表面接触以提高导电稳定性；第一辊筒及第二辊筒的外周面的图案化设置，能够为待电镀产品提供足够摩擦力，避免打滑，以进行稳定传输；导电装置可提供一种非常理想的间接性接触阴极，适用于光伏电池片等的水平电镀。
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