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公开(公告)号：CN117187925A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311236835.2
申请日：2023-09-25
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备，其中，所述电镀装置包括：包括电镀槽和解镀槽的槽体，电镀槽被构造用于容纳与第一电极组件电连接的电镀液并且解镀槽被构造用于容纳与第二电极组件电连接的解镀液；至少两个滚轮，其中的至少一个传输滚轮被设置在电镀槽中并且其中的至少一个导电滚轮被设置在所述解镀槽中，至少一个传输滚轮的至少一部分与电镀液电连接并且所述至少一个导电滚轮的至少一部分与所述解镀液电连接，至少两个滚轮被构造用于为待电镀对象提供传输动力；第三电极组件，所述第三电极组件与所述导电滚轮电连接，其中，所述第三电极组件的电势比所述第一电极组件的电势低并且所述第三电极组件的电势比所述第二电极组件的电势高。
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公开(公告)号：CN117166028A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311213173.7
申请日：2023-09-20
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备，其中，所述电镀装置包括：槽体，所述槽体包括电镀槽和导电槽，其中，所述电镀槽被构造用于容纳与阳极组件电连接的电镀液并且所述导电槽被构造用于容纳与阴极组件电连接的导电液；滚轮，所述滚轮被设置在所述电镀槽中并且被构造用于为待电镀对象提供传输动力，其中，所述滚轮的下端与所述电镀液接触并且所述滚轮的上端用于支撑所述待电镀对象；阴极喷射组件，所述阴极喷射组件被设置在所述导电槽之中并且被构造为与所述待电镀对象间隔开设置；以及喷射泵，所述与所述导电液连通并且被构造用于驱动所述导电液经由所述阴极喷射组件喷射到所述待电镀对象上。
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公开(公告)号：CN221505583U
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202420022625.7
申请日：2024-01-04
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
IPC分类号： F26B21/00
摘要： 本实用新型提供一种硅片烘干装置，通过设置冷风供应系统及热风供应系统，可实现对硅片采用冷热风刀相组合的烘干方式，从而可先利用冷风刀吹扫掉位于硅片表面上的大部分的水分，而后在硅片传输至热风供应系统后，通过对应设置的具有高风量的第一上热风刀与第一下热风刀可进一步的对位于硅片表面上的水分进行吹扫，随后再经过对应设置的具有低风量的第二上热风刀及第二下热风刀，以实现对硅片表面水分的蒸发，达到烘干效果，实现节能且增加效率的烘干目的。
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公开(公告)号：CN221404817U
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202323021462.5
申请日：2023-11-09
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本申请提供一种溶液槽中液体浓度检测系统，包括溶液槽、若干个采样口、若干个采样阀、浓度分析仪和抽吸泵。若干个采样口设置在溶液槽的不同位置，在每个采样口的位置安装一个采样阀，浓度分析仪通过一采样主管与所有采样阀连接，抽吸泵设置在采样主管上，用于将溶液槽中的溶液抽吸至浓度分析仪中。本申请的技术方案能够获取溶液槽中多个位置的溶液样品并进行检测，从而可以全面了解溶液槽内多个位置的溶液浓度，进而对溶液槽内的溶液浓度做到整体把握，便于采取对应措施进行相应处理。
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公开(公告)号：CN220367888U
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202320923245.6
申请日：2023-04-21
申请人： 上海普达特半导体设备有限公司 , 上海普达特设备科技有限公司
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/677 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B13/00
摘要： 本实用新型提供一种慢提拉清洗设备包括花篮支架、底板、升降支撑结构及驱动机构，通过驱动机构的运行调节升降支撑结构中的第一支撑件与第二支撑件之间的夹角，以带动花篮支架上升或下降，由于慢提拉清洗设备中各部件均采用耐腐蚀和耐高温的材质，从而在对花篮进行升降调节的同时，可避免同步带断裂的现象，以降低产品损伤概率、提高生产效率。
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公开(公告)号：CN221041045U
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202322551877.7
申请日：2023-09-20
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本实用新型涉及用于多层清洗设备的供液装置，其中，所述多层清洗设备包括第一清洗槽和至少一层第二清洗槽，所述供液装置包括：供液槽，所述供液槽被构造为与至少一个供应源相连接，以便为所述清洗槽供液；与所述第一清洗槽相对应的第一供液回路以及与所述至少一层第二清洗槽相对应的至少一个第二供液回路；加热回路，所述加热回路为所述供液槽中的液体加热；泵，所述泵为所述第一供液回路、至少一个第二供液回路以及所述加热回路提供动力；以及回路选择阀，所述回路选择阀被构造用于从所述第一供液回路、至少一个第二供液回路以及所述加热回路中选择至少一个回路。
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公开(公告)号：CN221854807U
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202420284200.3
申请日：2024-02-06
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司 , 普达特半导体设备(徐州)有限公司
摘要： 本实用新型提供一种太阳能硅片电镀装置，通过恒流电源为硅片持续提供稳定电流，且通过在上滚轮上设置的与硅片一一对应的阴极导电刷及与阴极导电刷一一对应连接的电流监控模块，可实现对各个阴极导电刷的电流大小进行独立的监测和控制，从而在结合恒流电源及电流监控模块的综合调控下，可实现各硅片的电流分布的均匀性，以提高电镀均匀性；且本申请中的太阳能硅片电镀装置结构简单，易于控制。
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公开(公告)号：CN220901349U
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202322773760.3
申请日：2023-10-16
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
发明人： 付金海
IPC分类号： B08B13/00
摘要： 本申请提供一种多级节水清洗系统，至少包括：工艺槽，沿产线运行方向依次排布；清洗系统，沿产线运行方向依次间隔设置于工艺槽之间，用以对其相邻前段的工艺槽加工完成的产品进行清洗；级联管路，沿产线运行方向将相邻的两个清洗系统依次串联，用以将后段清洗系统的清洗液传输至与其相邻的前段清洗系统中。本申请通过在不同工艺槽之间设置清洗系统，且使用级联管路对清洗系统依次串联，使后段清洗液能够依次回输至与其相邻的前段清洗槽中，实现不同洁净度的清洗液循环利用，极大的节约了水资源和清洗成本，实现了资源循环利用和合理分配。
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公开(公告)号：CN220678915U
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202322244713.X
申请日：2023-08-21
申请人： 上海普达特设备科技有限公司 , 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本实用新型涉及用于排出气体的装置以及清洗设备。用于排出气体的装置包括：第一风箱，所述第一风箱在组装状态下设置在第一反应槽的上方并且所述第一风箱的底壁上设置有开口，以便所述第一反应槽中的气体能够经由所述第一风箱排出，其中，所述第一风箱在组装状态下其长度方向上的第一端和与所述第一端相对的第二端的高度不同；第一液体排出通道，所述第一液体排出通道被至少设置在所述第一端和所述第二端中较低的一端处；以及第一排气通道，所述第一排气通道和所述第一风箱的顶壁连通，以将气体向大气排出。
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公开(公告)号：CN116371803A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202211596301.6
申请日：2022-12-12
申请人： 上海普达特半导体设备有限公司
摘要： 本公开内容公开了一种多层式湿化学处理设备，所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元，其中，所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上，并且其中，所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本公开内容的多层式湿化学处理设备所包括的位于下层的清洗单元的顶部盖板被构造为平面，所以多个清洗单元能够以上下叠置的方式进行布置，这一方面提高了清洗效率另一方面也减小了湿化学处理设备的占用面积，降低场地成本。
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