工件支架装置、用于为工件涂层的方法和工件

    公开(公告)号:CN113840940B

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202080036882.0

    申请日:2020-04-17

    摘要: 本发明涉及一种工件支架装置(1),其用于保持工件(15)并使其运动,该工件支架装置包括:用于容纳工件(15)的工件支架(2),该工件围绕轴线(3)可转动地支承在基架(4)上;相对工件支架(2)同样围绕所述轴线(3)可转动的驱动件以及多个环式围绕驱动轴线设置在工件支架(2)上的并且围绕与驱动轴线间隔开的保持件轴线(6)可转动地支承在工件支架(2)上的工件保持件(5),保持件轴线(6)相对轴线(3)以如下方式延伸,使得工件保持件(5)构成锥形的王冠式设置结构(7)。本发明还涉及在应用根据本发明的工件支架装置(1)的情况下的涂层方法和借助涂层方法涂层的工件或者基材(15),(例如插针、注射销、球、球形销、活塞、喷嘴针等)。

    工件支架装置、用于为工件涂层的方法和工件

    公开(公告)号:CN113840940A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202080036882.0

    申请日:2020-04-17

    摘要: 本发明涉及一种工件支架装置(1),其用于保持工件(15)并使其运动,该工件支架装置包括:用于容纳工件(15)的工件支架(2),该工件围绕轴线(3)可转动地支承在基架(4)上;相对工件支架(2)同样围绕所述轴线(3)可转动的驱动件以及多个环式围绕驱动轴线设置在工件支架(2)上的并且围绕与驱动轴线间隔开的保持件轴线(6)可转动地支承在工件支架(2)上的工件保持件(5),保持件轴线(6)相对轴线(3)以如下方式延伸,使得工件保持件(5)构成锥形的王冠式设置结构(7)。本发明还涉及在应用根据本发明的工件支架装置(1)的情况下的涂层方法和借助涂层方法涂层的工件或者基材(15),(例如插针、注射销、球、球形销、活塞、喷嘴针等)。

    磁控溅射源和涂覆系统布置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111868877A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201880086676.3

    申请日:2018-11-19

    发明人: O·祖格

    IPC分类号: H01J37/34 C23C14/35

    摘要: 一种用于涂覆基板(2)的磁控溅射源(1),所述溅射源(1)包括:在前侧处具有靶表面的靶(5);在所述靶(5)的背侧处的磁控布置(511、512),用于在所述靶表面附近产生磁场,以在所述靶表面处在内部磁体组件(512)和外部磁体组件(511)之间限定环状侵蚀区(20),其中所述侵蚀区(20)包括带有具有距离(D)的两个平行轨道(26)的中间区段、和两个弯曲的端部环形区段(27),所述端部环形区段中的每一个连接所述平行轨道(26)的相邻端部并且在所述距离(D)的方向上具有环形宽度(W),所述环形宽度大于所述距离(D),从而导致所述侵蚀区的双T形初级几何形状,以提供从所述端部环形区段(27)到所述基板的增加的涂覆材料通量。

    工件支架装置和覆层设备

    公开(公告)号:CN112912537B

    公开(公告)日:2023-03-28

    申请号:CN201980070054.6

    申请日:2019-10-28

    发明人: R·梅勒

    摘要: 本发明涉及工件支架装置(1),具有:能够围绕主轴线(2)转动的用于容纳工件组件(4)的驱动轮(3),多个能够分别围绕旋转轴线(5)转动的、设置在驱动轮上的分别具有驱动小齿轮(8)的驱动体(6)和静止的驱动齿环(9),驱动齿环具有与各驱动小齿轮啮合的内齿,各旋转轴线平行于主轴线延伸并且设置在驱动轮的与主轴线同心地延伸的环区域中,从而在驱动轮相对于驱动齿环转动时,各驱动体围绕其各自的旋转轴线旋转,驱动齿环、各驱动体连同其驱动小齿轮构造并且彼此设置为并且在驱动齿环与驱动小齿轮之间存在工作间隙,使得在运行中驱动作用均匀地传递到所有驱动小齿轮上。本发明还涉及具有这样的工件支架装置的覆层设备(100)。

    磁控溅射源和涂覆系统布置

    公开(公告)号:CN111868877B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN201880086676.3

    申请日:2018-11-19

    发明人: O·祖格

    IPC分类号: H01J37/34 C23C14/35

    摘要: 一种用于涂覆基板(2)的磁控溅射源(1),所述溅射源(1)包括:在前侧处具有靶表面的靶(5);在所述靶(5)的背侧处的磁控布置(511、512),用于在所述靶表面附近产生磁场,以在所述靶表面处在内部磁体组件(512)和外部磁体组件(511)之间限定环状侵蚀区(20),其中所述侵蚀区(20)包括带有具有距离(D)的两个平行轨道(26)的中间区段、和两个弯曲的端部环形区段(27),所述端部环形区段中的每一个连接所述平行轨道(26)的相邻端部并且在所述距离(D)的方向上具有环形宽度(W),所述环形宽度大于所述距离(D),从而导致所述侵蚀区的双T形初级几何形状,以提供从所述端部环形区段(27)到所述基板的增加的涂覆材料通量。

    工件支架装置和覆层设备

    公开(公告)号:CN112912537A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201980070054.6

    申请日:2019-10-28

    发明人: R·梅勒

    摘要: 本发明涉及工件支架装置(1),具有:能够围绕主轴线(2)转动的用于容纳工件组件(4)的驱动轮(3),多个能够分别围绕旋转轴线(5)转动的、设置在驱动轮(3)上的分别具有驱动小齿轮(8)的驱动体(6)和静止的驱动齿环(9),驱动齿环具有与各驱动小齿轮(8)啮合的内齿,各旋转轴线(5)平行于主轴线(2)延伸并且设置在驱动轮(3)的与主轴线(2)同心地延伸的环区域中,从而在驱动轮(3)相对于驱动齿环(9)转动时,各驱动体(6)围绕其各自的旋转轴线(5)旋转,驱动齿环(9)、各驱动体(6)连同其驱动小齿轮(8)构造并且彼此设置为并且在驱动齿环(9)与驱动小齿轮(8)之间存在工作间隙(S),使得在运行中驱动作用均匀地传递到所有驱动小齿轮(8)上。本发明还涉及具有这样的工件支架装置(1)的覆层设备100。