变压吸附法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1051475C

    公开(公告)日:2000-04-19

    申请号:CN95120567.6

    申请日:1995-11-30

    Inventor: N·O·伦可夫

    Abstract: 利用变压吸附,在一组吸附容器内分离混合气的各成份。在第一吸附床内进行半循环吸附的第一步,同时在第二吸附床进行逆流脱附。第一步结束时,第一床逆流排空,作为第一床平衡步骤,第一和第二床进行出口到出口平衡或出口到入口和出口两者的平衡过程。排空步骤可先于或与第一床平衡步骤同时进行。第二平衡步骤中,两床同时进行入口到入口和出口到出口平衡。再用未吸附气体产物对第二床进一步加压。然后重复该半循环过程,只是用第一床代替第二床,反之亦然。

    用惰性气体混合物喷镀硅介质膜

    公开(公告)号:CN1131703A

    公开(公告)日:1996-09-25

    申请号:CN95115245.9

    申请日:1995-08-02

    CPC classification number: C23C14/0042

    Abstract: 公开了向基质(19)上喷镀非导体或半导体元素(如硅)薄膜或它们的化合物形成的电介质(如二氧化碳、氮化硅之类)薄膜时,控制磁控管溅射喷镀系统(图1)的工艺流程的方法和装置。使用了两种不同惰性气体(63,65)的混合物。选择两种或多种惰性气体的相对比例,以便减少溅射喷镀时发生弧光放电的概率,由此能够通过自动反馈控制系统(57,59,61)控制工艺流程,从而将它稳定维持在喷镀淀积速率特征曲线的理想时滞区(49)内。

    化学品混合与输送系统及其方法

    公开(公告)号:CN100379678C

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN03816040.4

    申请日:2003-05-05

    Abstract: 本发明披露了用于输送液态化学品的化学品输送系统和方法。在一个实施例中,披露了具有用于输送在半导体工业中所使用的化学品的多储罐负载传感器组件(图2,4,5,7,9,11)的系统。在另一个实施例中(图12),本发明提供一种多储罐负载传感器组件(69,92,71),其包括控制器(PLC)、缓冲储罐(92,71)、主储罐(69)、一个或多个连接到所述组件和控制器上,工作用以称量所述储罐中液体重量的负载传感器(12,13,67,68,91,96),供应每个储罐的多条供应管线(A-D)、以及用于在接到控制器请求时从所述组件中抽出液体,并用于从供应容器再注入所述组件的气体和真空源。包括缓冲控制进口阀(80)和出口阀(81)的比例阀组调节缓冲储罐的压力。

    压变吸附工艺和装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1210747A

    公开(公告)日:1999-03-17

    申请号:CN98109471.6

    申请日:1998-04-22

    Inventor: 董宪哲

    Abstract: 一种在一对吸附容器中分离混合气体中的成分的工艺过程和设备,它采用一个单独的气体压缩机/气泵将气体送入或排出吸附容器。在该操作循环中该气体压缩机/气泵连续操作。吸附操作循环是不对称的,即在一个吸附器内进行的步骤序列不同于在另一个吸附器内进行的步骤序列。该设备包括一个中继气体储存器,它用来暂时地储存来自吸附容器的非吸附气体出口端的气体,这样能够在吸附操作循环的吸附剂再生步骤完成后对该吸附容器部分地加压。

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