水性电镀浴及其用途
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115485420A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202180030113.4

    申请日:2021-04-21

    IPC分类号: C25D3/06 C25D3/12 C25D3/20

    摘要: 公开了一种水性电镀浴。水性三价铬浴包含:‑0.12–0.276mol/l的量的三价铬阳离子,‑4.0–6.0mol/l的量的铵离子,和‑2.0–7.4mol/l的量的羧酸根离子,并且三价铬阳离子与羧酸根离子的摩尔比为0.016–0.099,并且所述水性三价铬浴的pH为2–6。

    包括无宏观裂纹的铬基涂层的物体

    公开(公告)号:CN115427612A

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202180030423.6

    申请日:2021-04-21

    IPC分类号: C25D3/02 C25D3/06 C25D5/12

    摘要: 公开了一种包括在基底上的铬基涂层的物体。铬是从包括三价铬阳离子的水性电镀浴电镀的,其中铬基涂层包括至少一个含铬层,铬基涂层不包含宏观裂纹,其中宏观裂纹是从铬基涂层外表面穿过铬基涂层延伸到基底的裂纹,铬基涂层的维氏显微硬度值为800至1100HV,在根据ASTM C1624‑05(2015;第11.11.4.4点)的粘附性测试中,铬基涂层表现出至少80N的临界划刻载荷值(LC2)。还公开了它的生产方法。

    包括在基板上的铬基涂层的物体

    公开(公告)号:CN113574208B

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202080021484.1

    申请日:2020-03-11

    发明人: 朱西·雷伊莎

    IPC分类号: C25D3/06 C25D5/14 C25D5/50

    摘要: 公开了一种包括在基板上的铬基涂层的物体及用于其生产的方法。铬基涂层包括在基板上的第一层,其中第一层具有在与基板相对的一侧的顶表面,并且包括第一层内的裂缝,并且其中第一层的材料主要由铬和铬的碳化物形成;铬基涂层进一步包括在第一层上的第二层,第二层至少部分地填充第一层中的裂缝,并且至少部分地覆盖第一层的顶表面,其中第二层的材料选自由铬的氧化物、碳、以及铬的氧化物和碳的组合组成的组。

    铬基涂层在基底上的改善的粘附性

    公开(公告)号:CN115443351B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202180030123.8

    申请日:2021-04-21

    摘要: 公开了一种包括在基底上的铬基涂层的物体。所述铬是从包含三价铬阳离子的水性电镀浴电镀的,其中所述铬基涂层包括:在所述基底上的第一含铬层,其厚度为至少100nm,并且维氏显微硬度值为700–1000HV;在所述第一含铬层上的第二含铬层,其维氏显微硬度值为所述第一含铬层的维氏显微硬度值的至少1.3倍,并且晶体尺寸为8–35nm;并且其中在根据ASTM C1624‑05(2015;第11.11.4.4点)的粘附性测试中,所述铬基涂层表现出至少60N的临界划刻载荷值(LC2),并且其中所述铬基涂层不含铬碳化物。还公开了其生产方法。

    包括无宏观裂纹的铬基涂层的物体

    公开(公告)号:CN115427612B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202180030423.6

    申请日:2021-04-21

    IPC分类号: C25D3/02 C25D3/06 C25D5/12

    摘要: 公开了一种包括在基底上的铬基涂层的物体。铬是从包括三价铬阳离子的水性电镀浴电镀的,其中铬基涂层包括至少一个含铬层,铬基涂层不包含宏观裂纹,其中宏观裂纹是从铬基涂层外表面穿过铬基涂层延伸到基底的裂纹,铬基涂层的维氏显微硬度值为800至1100HV,在根据ASTM C1624‑05(2015;第11.11.4.4点)的粘附性测试中,铬基涂层表现出至少80N的临界划刻载荷值(LC2)。还公开了它的生产方法。

    铬基涂层在基底上的改善的粘附性

    公开(公告)号:CN115443351A

    公开(公告)日:2022-12-06

    申请号:CN202180030123.8

    申请日:2021-04-21

    摘要: 公开了一种包括在基底上的铬基涂层的物体。所述铬是从包含三价铬阳离子的水性电镀浴电镀的,其中所述铬基涂层包括:在所述基底上的第一含铬层,其厚度为至少100nm,并且维氏显微硬度值为700–1000HV;在所述第一含铬层上的第二含铬层,其维氏显微硬度值为所述第一含铬层的维氏显微硬度值的至少1.3倍,并且晶体尺寸为8–35nm;并且其中在根据ASTM C1624‑05(2015;第11.11.4.4点)的粘附性测试中,所述铬基涂层表现出至少60N的临界划刻载荷值(LC2),并且其中所述铬基涂层不含铬碳化物。还公开了其生产方法。

    基于铬的涂层,用于制备基于铬的涂层的方法以及涂覆的物体

    公开(公告)号:CN108026654B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201680052296.9

    申请日:2016-09-08

    发明人: J·雷伊赛

    摘要: 本发明涉及一种包含铬(Cr)、碳(C)和铁(Fe)的基于铬的涂层,铬从三价铬浴中电镀。该涂层的特征在于还包含从含有至少20mg l‑1的Ni阳离子的Cr浴电镀的镍(Ni),特征在于C至少部分地为至少一种碳化铬化合物的形式,特征在于该涂层已经在400‑1,200℃的温度下,或者在400‑650℃的温度下,或者在650‑820℃的温度下,或者在820‑1,200℃的温度下进行热处理,并且特征在于涂层的硬度根据标准SFS‑EN ISO 4516测量的在维氏显微硬度标度上为至少1,500HV。本发明还涉及一种用于生产涂层的方法和一种涂覆的物体。

    含铬涂层,其制备方法以及涂覆物体

    公开(公告)号:CN106661749A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201480080520.6

    申请日:2014-07-11

    摘要: 本发明涉及一种基于铬的涂层,其包含至少一个富含镍(Ni)和/或Ni化合物的结晶相的层,以及至少一个富含铬(Cr)和/或Cr化合物的结晶相的层,Cr从三价铬浴进行电镀。该涂层的特征在于,其还包含一个或多个铬‑镍‑磷(CrNiP)的结晶相,所述CrNiP相通过将包含至少一个镍‑磷(NiP)层和至少一个Cr层的涂层热处理来制得。本发明还涉及用于生产基于铬的涂层的方法以及涉及涂覆物体。