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发明公开
防护膜组件、曝光原版和曝光装置以及防护膜组件的制作方法和掩模用粘着剂层的试验方法审中-实审

公开(公告)号：CN118661134A

公开(公告)日：2024-09-17

申请号：CN202380020095.0

申请日：2023-01-26

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 吉村裕 , 柿原惠一 , 田中亮 , 丸山裕司 , 东昌嗣 , 山内理计 , 田中友和

IPC: G03F1/62

Abstract: 一种防护膜组件(5)，其具有配置防护膜(11)的框体(12)和配置于框体(12)的掩模用粘着剂层(13)，在从该掩模(4)的背面对粘着剂层(13)的与石英制掩模(4)的贴附部分(S1)照射2分钟氙(Xe)准分子灯之后将防护膜组件(5)剥离时，粘着剂层(13)的残留率(粘着剂层(13)在石英制掩模(4)上的残留面积/粘着剂层(13)的贴附部分(S1)的面积)为0.001～5.0％。

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