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公开(公告)号:CN111187625B
公开(公告)日:2022-08-19
申请号:CN201911085664.1
申请日:2019-11-08
申请人: 三星显示有限公司 , 株式会社东进世美肯
发明人: 朴种熙 , 金基泰 , 金真锡 , 金奎佈 , 申贤哲 , 李大雨 , 李相赫 , 郑鸿
IPC分类号: C09K13/06 , H01L27/32
摘要: 提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。
公开(公告)号:CN111187625A
公开(公告)日:2020-05-22