公开(公告)号：CN111234824B

公开(公告)日：2023-01-10

申请号：CN201911085578.0

申请日：2019-11-08

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L21/3213

摘要： 提供一种用于蚀刻含银薄膜的蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、金属基氧化剂和水。

公开(公告)号：CN111187625B

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN201911085664.1

申请日：2019-11-08

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫 ,  郑鸿

IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L27/32

摘要： 提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

公开(公告)号：CN110387545B

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN201910328331.0

申请日：2019-04-23

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎布 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/02 ,  C23F1/30

摘要： 本公开提供一种蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻剂组合物包括：18wt％至25wt％的第一有机酸化合物；15wt％至20wt％的第二有机酸化合物；8.1wt％至9.9wt％的无机酸化合物；1wt％至4.9wt％的磺酸化合物；10wt％至20wt％的硫酸氢盐化合物；1wt％至5wt％的含氮二羰基化合物；1wt％至5wt％的氨基酸衍生物化合物；0.1wt％至2wt％的含铁氧化剂化合物；以及余量的水。

公开(公告)号：CN111234824A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201911085578.0

申请日：2019-11-08

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L21/3213

摘要： 提供一种用于蚀刻含银薄膜的蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、金属基氧化剂和水。

公开(公告)号：CN109811344B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201811389156.8

申请日：2018-11-21

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金真锡 ,  李凤源 ,  金基泰 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李秉雄 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/16 ,  C09K13/06 ,  H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻剂组合物相对于蚀刻剂组合物的总重量包括约8.5wt％至约10wt％的无机酸化合物、约1wt％至约10wt％的硫酸氢盐化合物、约50wt％至约60wt％的有机酸化合物、约1wt％至约5wt％的磺酸化合物、约1wt％至约5wt％的螯合物和作为余量的水。

公开(公告)号：CN111187625A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911085664.1

申请日：2019-11-08

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫 ,  郑鸿

IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L27/32

摘要： 提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

公开(公告)号：CN110387545A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201910328331.0

申请日：2019-04-23

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金奎布 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/02 ,  C23F1/30

摘要： 本公开提供一种蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻剂组合物包括：18wt％至25wt％的第一有机酸化合物；15wt％至20wt％的第二有机酸化合物；8.1wt％至9.9wt％的无机酸化合物；1wt％至4.9wt％的磺酸化合物；10wt％至20wt％的硫酸氢盐化合物；1wt％至5wt％的含氮二羰基化合物；1wt％至5wt％的氨基酸衍生物化合物；0.1wt％至2wt％的含铁氧化剂化合物；以及余量的水。

公开(公告)号：CN109811344A

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201811389156.8

申请日：2018-11-21

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 朴种熙 ,  金真锡 ,  李凤源 ,  金基泰 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李大雨 ,  李秉雄 ,  李相赫

IPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/16 ,  C09K13/06 ,  H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  H01L27/32

摘要： 提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻剂组合物相对于蚀刻剂组合物的总重量包括约8.5wt％至约10wt％的无机酸化合物、约1wt％至约10wt％的硫酸氢盐化合物、约50wt％至约60wt％的有机酸化合物、约1wt％至约5wt％的磺酸化合物、约1wt％至约5wt％的螯合物和作为余量的水。

公开(公告)号：CN108153035A

公开(公告)日：2018-06-12

申请号：CN201711055728.4

申请日：2017-11-01

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 郑钟铉 ,  朴弘植 ,  姜胜培 ,  金基泰 ,  裵俊佑 ,  梁熙星

IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/13357

CPC分类号： G02F1/133512 ,  G02F1/133502 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/133528 ,  G02F1/133553 ,  G02F1/133621 ,  G02F2001/133357 ,  G02F2001/133548 ,  G02F2001/133557 ,  G02F2001/133614 ,  G02F2201/121 ,  G02F2201/123 ,  G02F2201/50 ,  G02F2202/36 ,  G02F2203/01 ,  G02F2203/055 ,  G02F1/1336

摘要： 本发明提供了一种基板、包括基板的显示设备和制造显示设备的方法。显示设备包括第一基板、面向第一基板的第二基板以及布置在第一基板和第二基板之间液晶层。第一基板和第二基板中的一个包括基底基板和光阻挡图案，光阻挡图案被布置在基底基板的两个表面中面向另一表面的一个表面上，光阻挡图案暴露基底基板的部分。光阻挡图案包括布置在基底基板上的半透反射层、布置在半透反射层上的相位匹配层以及布置在相位匹配层上的反射金属层。相位匹配层和反射金属层包括具有基本相同的蚀刻率的材料。

公开(公告)号：CN109811345B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201811389335.1

申请日：2018-11-21

申请人： 三星显示有限公司 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 朴种熙 ,  金基泰 ,  金真锡 ,  金范洙 ,  金相泰 ,  沈庆辅 ,  南基龙 ,  尹暎晋 ,  林大成

IPC分类号： C23F1/30 ,  C09K13/06 ,  C23F1/16 ,  H10K71/00 ,  H10K50/805 ,  H10K59/12

摘要： 提供一种蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法，所述蚀刻剂包括：基于蚀刻剂的总重量，大约1wt％至大约15wt％的硫化过氧化物、大约5wt％至大约10wt％的硝酸、大约20wt％至大约40wt％的有机酸、大约0.05wt％至大约5wt％的硝酸铁、大约0.1wt％至大约5wt％的离子螯合剂以及大约0.1wt％至大约5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。