半导体装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112349716B

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202010267941.7

    申请日:2020-04-08

    IPC分类号: H01L27/092 H01L21/8238

    摘要: 公开了一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一有源图案,在基底的有源区域上在第一方向上延伸;第一源极/漏极图案,位于第一有源图案的上部上的凹部中;栅电极,横跨第一有源图案的上部上的第一沟道图案延伸并且在与第一方向相交的第二方向上延伸;以及有源接触件,电连接到第一源极/漏极图案。

    半导体装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112349716A

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN202010267941.7

    申请日:2020-04-08

    IPC分类号: H01L27/092 H01L21/8238

    摘要: 公开了一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一有源图案,在基底的有源区域上在第一方向上延伸;第一源极/漏极图案,位于第一有源图案的上部上的凹部中;栅电极,横跨第一有源图案的上部上的第一沟道图案延伸并且在与第一方向相交的第二方向上延伸;以及有源接触件,电连接到第一源极/漏极图案。