公开(公告)号：CN111410963B

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202010025962.8

申请日：2020-01-07

申请人： 三星电子株式会社 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 全唱守 ,  吴政玟 ,  李晓山 ,  韩勋 ,  鲁珍圭 ,  尹嚆重 ,  申东雲

IPC分类号： C09K13/00 ,  H01L21/306

摘要： 一种硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法，所述组合物包含约1重量％到约20重量％的烷基氢氧化铵；约1重量％到约30重量％的胺化合物；约0.01重量％到约0.2重量％的包括疏水基团及亲水基团两者的非离子表面活性剂；以及水，所有重量％都是基于所述硅层刻蚀剂组合物的总重量。

公开(公告)号：CN111410963A

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN202010025962.8

申请日：2020-01-07

申请人： 三星电子株式会社 ,  东友精细化工有限公司

发明人： 全唱守 ,  吴政玟 ,  李晓山 ,  韩勋 ,  鲁珍圭 ,  尹嚆重 ,  申东雲

IPC分类号： C09K13/00 ,  H01L21/306

摘要： 一种硅层刻蚀剂组合物、制备其的方法及形成图案的方法，所述组合物包含约1重量％到约20重量％的烷基氢氧化铵；约1重量％到约30重量％的胺化合物；约0.01重量％到约0.2重量％的包括疏水基团及亲水基团两者的非离子表面活性剂；以及水，所有重量％都是基于所述硅层刻蚀剂组合物的总重量。